一种化工制剂用升降式搅拌设备的制造方法

文档序号:10428955阅读:381来源:国知局
一种化工制剂用升降式搅拌设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及化工机械设备相关技术领域,具体是一种化工制剂用升降式搅拌设备。
【背景技术】
[0002]传统的化工制剂在制备过程中,当对氧化腐蚀性比较强的化工制剂进行溶解搅拌过后,搅拌柱和搅拌叶片还是浸泡在化工制剂溶液中,长此以往,搅拌轴和搅拌叶片极易受到氧化腐蚀,甚至造成断裂的严重后果,最终导致加工;并且传统的搅拌器大多数是单盘结构,这样的结构搅拌效率低下且自动化程度低,搅拌程度不足,在搅拌器中存在搅拌死区,影响生产效率,另外,使用的搅拌桶体均为固定式结构,不能进行摆动搅拌,物料混合不均匀,成品质量不好,不能满足现代化化工厂更高的要求。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的在于提供一种化工制剂用升降式搅拌设备,以解决上述【背景技术】中提出的问题。
[0004]为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
[0005]—种化工制剂用升降式搅拌设备,包括底座,所述底座上的一端设置有一根滑杆,所述底座上的另外一端设置有液压伸缩杆,所述液压伸缩杆的顶部固定有一块移动板,所述移动板的另外一端与滑杆相套接,所述移动板上安装有驱动电机,所述驱动电机的转轴连接有减速箱,所述减速箱的输出端与搅拌轴的顶部传动连接,所述搅拌轴与移动板之间设置有一个转动轴承,所述搅拌轴的下端连接有上层无齿搅拌盘和下层齿状搅拌盘,所述下层齿状搅拌盘的上边缘均匀设置有齿状结构,所述下层齿状搅拌盘上中心对称设有四对矩形导流孔,所述底座的上表面还设置有容器支架,搅拌容器通过两个转轴安装在容器支架上,所述容器支架底部的外侧壁上铰接有一个摆动长杆,所述摆动长杆的另一端与摆动短杆的一端连接,摆动短杆的另一端与摆动电机的转动轴连接,所述搅拌容器的下端外壁还连接至超声波分散仪的输出端。
[0006]作为本实用新型进一步的方案:所述底座上还设置有控制器。
[0007]作为本实用新型再进一步的方案:所述上层无齿搅拌盘和下层齿状搅拌盘上分别开设有连接孔,且连接孔同心设置构成一条完整的连接通道。
[0008]作为本实用新型再进一步的方案:所述上层无齿搅拌盘为圆盘形状且直径为下层齿状搅拌盘的0.7倍。
[0009]作为本实用新型再进一步的方案:所述摆动电机通过电机架安装在底座的上表面上。
[0010]与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型结构合理、操作简单、搅拌效率高,其中,搅拌盘设置为双层结构,搅拌效果更好,其中,下层齿状搅拌盘上中心对称设有四对矩形导流孔,四对矩形导流孔用来改善搅拌物料流动混合情况,有效改善了搅拌容器中的死区问题,大大提高了搅拌效率;并且在搅拌过程中,容器支架在摆动电机的驱动下可以实现左右摆动,使化工制剂进行全方位多层次的搅拌,提高品质;另外,通过将超声波分散仪的输出端连接至搅拌容器上,超声通过壳壁传至壳内的化工制剂中,在超声波的空化作用下,化工制剂的粘性降低,流动性增大,使得机械搅拌能更快速均匀地将化工制剂混合在一起,且超声波能将化工制剂的细小颗粒物分散为更细小的颗粒物,成品质量会进一步得到提尚。
【附图说明】
[0011]图1为一种化工制剂用升降式搅拌设备的结构示意图。
[0012]图2为一种化工制剂用升降式搅拌设备中下层齿状搅拌盘的轴向俯视结构示意图。
[0013]图中:1-底座、2-移动板、3-液压伸缩杆、4-搅拌容器、5-容器支架、6_转轴、7_搅拌轴、8-上层无齿搅拌盘、9-下层齿状搅拌盘、10-矩形导流孔、11-摆动长杆、12-摆动短杆、13-摆动电机、14-电机架、15-滑杆、16-驱动电机、17-减速箱、18-转动轴承、19-控制器、20-输出端、21 -超声波分散仪。
【具体实施方式】
[0014]下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
[0015]请参阅图1-2,本实用新型实施例中,一种化工制剂用升降式搅拌设备,包括底座I,所述底座I上的一端设置有一根滑杆15,所述底座I上的另外一端设置有液压伸缩杆3,所述底座I上还设置有用于控制液压伸缩杆3进行升降的控制器19,所述液压伸缩杆3的顶部固定有一块移动板2,所述移动板2的另外一端与滑杆15相套接,所述移动板2上安装有驱动电机16,所述驱动电机16的转轴连接有减速箱17,所述减速箱17的输出端与搅拌轴7的顶部传动连接,所述搅拌轴7与移动板2之间设置有一个转动轴承18,使得搅拌轴7能够沿着移动板2顺畅的转动;所述搅拌轴7的下端连接有上层无齿搅拌盘8和下层齿状搅拌盘9,所述上层无齿搅拌盘8和下层齿状搅拌盘9上分别开设有连接孔,且连接孔同心设置构成一条完整的连接通道,所述上层无齿搅拌盘8为圆盘形状且直径为下层齿状搅拌盘9的0.7倍,所述下层齿状搅拌盘9的上边缘均匀设置有齿状结构,所述下层齿状搅拌盘9上中心对称设有四对矩形导流孔10,四对矩形导流孔10用来改善搅拌物料流动混合情况,有效改善了搅拌容器4中的死区问题,大大提高了搅拌效率。
[0016]所述底座I的上表面还设置有容器支架5,搅拌容器4通过两个转轴6安装在容器支架5上,所述容器支架5底部的外侧壁上铰接有一个摆动长杆11,所述摆动长杆11的另一端与摆动短杆12的一端连接,摆动短杆12的另一端与摆动电机13的转动轴连接,所述摆动电机13通过电机架14安装在底座I的上表面上,在搅拌过程中,容器支架5在摆动电机13的驱动下可以实现左右摆动,使化工制剂进行全方位多层次的搅拌,提高品质。所述搅拌容器4的下端外壁还连接至超声波分散仪21的输出端20,通过将超声波分散仪21的输出端20连接至搅拌容器4上,超声通过壳壁传至壳内的化工制剂中,在超声波的空化作用下,化工制剂的粘性降低,流动性增大,使得机械搅拌能更快速均匀地将化工制剂混合在一起,且超声波能将化工制剂的细小颗粒物分散为更细小的颗粒物,成品质量会进一步得到提高。
[0017]对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
[0018]此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
【主权项】
1.一种化工制剂用升降式搅拌设备,包括底座(1),其特征在于,所述底座(I)上的一端设置有一根滑杆(15),所述底座(I)上的另外一端设置有液压伸缩杆(3),所述液压伸缩杆(3)的顶部固定有一块移动板(2),所述移动板(2)的另外一端与滑杆(15)相套接,所述移动板(2)上安装有驱动电机(16),所述驱动电机(16)的转轴连接有减速箱(17),所述减速箱(17)的输出端与搅拌轴(7)的顶部传动连接,所述搅拌轴(7)与移动板(2)之间设置有一个转动轴承(18),所述搅拌轴(7)的下端连接有上层无齿搅拌盘(8)和下层齿状搅拌盘(9),所述下层齿状搅拌盘(9)的上边缘均匀设置有齿状结构,所述下层齿状搅拌盘(9)上中心对称设有四对矩形导流孔(10),所述底座(I)的上表面还设置有容器支架(5),搅拌容器(4)通过两个转轴(6)安装在容器支架(5)上,所述容器支架(5)底部的外侧壁上铰接有一个摆动长杆(11),所述摆动长杆(11)的另一端与摆动短杆(12)的一端连接,摆动短杆(12)的另一端与摆动电机(13 )的转动轴连接,所述搅拌容器(4 )的下端外壁还连接至超声波分散仪(21)的输出端(20)。2.根据权利要求1所述的一种化工制剂用升降式搅拌设备,其特征在于,所述底座(I)上还设置有控制器(19)。3.根据权利要求1所述的一种化工制剂用升降式搅拌设备,其特征在于,所述上层无齿搅拌盘(8)和下层齿状搅拌盘(9)上分别开设有连接孔,且连接孔同心设置构成一条完整的连接通道。4.根据权利要求1所述的一种化工制剂用升降式搅拌设备,其特征在于,所述上层无齿搅拌盘(8)为圆盘形状且直径为下层齿状搅拌盘(9)的0.7倍。5.根据权利要求1所述的一种化工制剂用升降式搅拌设备,其特征在于,所述摆动电机(13)通过电机架(14)安装在底座(I)的上表面上。
【专利摘要】本实用新型公开了一种化工制剂用升降式搅拌设备,包括底座,底座上的一端设置有一根滑杆,底座上的另外一端设置有液压伸缩杆,液压伸缩杆的顶部固定有一块移动板,减速箱的输出端与搅拌轴的顶部传动连接,搅拌轴的下端连接有上层无齿搅拌盘和下层齿状搅拌盘,搅拌容器通过两个转轴安装在容器支架上,容器支架底部的外侧壁上铰接有一个摆动长杆,搅拌容器的下端外壁还连接至超声波分散仪的输出端。本实用新型中容器支架在摆动电机的驱动下可实现左右摆动,进行全方位多层次的搅拌,在超声波的空化作用下,化工制剂的粘性降低,流动性增大,成品质量会进一步得到提高。
【IPC分类】B01F11/00, B01F7/26, B01F13/10
【公开号】CN205340714
【申请号】CN201620062653
【发明人】关剑
【申请人】关剑, 江家宝, 刘峰
【公开日】2016年6月29日
【申请日】2016年1月22日
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