专利名称：一种离心分离清洗装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种离心分离清洗装置，属于化工和轻工生产领域。
背景技术：
离心分离清洗装置是化工生产或生物工程中经常使用的工艺设备，主要用于晶体 结晶后的晶浆分离，一般在经过离心后，晶体表面仍然会夹带一些母液，这些母液如不及时 去除，母液中含有的杂质将污染晶体，所以在晶浆离心至晶体、母液基本分离后，还必须往 离心分离装置的离心桶中通入洗涤剂清洗晶体，以去除晶体表面夹带的母液。但是目前的 清洗液均是通过一根喷管直接注入离心桶内，也有部分设置会把喷管的管口敲扁，使清洗 液尽量分散开，但该种清洗装置仍不能对晶体表面进行全面地清洗，晶体表面清洗不够均 勻，且清洗液用量大，费时费力，而且效果不佳。
实用新型内容本实用新型主要解决的技术问题是提供一种节省清洗液、清洗效率高的离心分离 清洗装置。为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是提供一种离心分离清洗装 置，包括离心桶、喷管、出水孔和给液器，喷管竖直设置在离心桶内，给液器与喷管一端相连 通，所述出水孔为内小外大的锥形通孔，所述出水孔设置在喷管侧壁上，或者设置在与喷管 相连通并且水平设置的喷嘴上。本实用新型的有益效果是由于在喷管侧壁上或者在喷管上的水平喷嘴上设置了 出水孔，出水孔为内小外大的锥形通孔，当具有一定压力的清洗液从出水孔内喷出时，会形 成一个扇形面，使每个出水孔的喷射面积大大增加，喷出的清洗液与晶体表面的接触机率 增大，所以清洗更均勻，同样的清洗液可以清洗更多的晶体表面，利用率得到大幅提升，出 水孔的喷射面积有部分重叠，可使离心清洗装置内晶体得到全面的清洗。
以下结合附图及实施例对本实用新型进行详细说明。
图1是本实用新型离心分离清洗装置实施例一的结构示意图；图2是本实用新型离心分离清洗装置实施例二的结构示意图；图3是本实用新型离心分离清洗装置实施例三的结构示意图。其中，1、离心桶；2、喷管；3、出水孔；4、给液器；5、晶体；6、喷嘴。
具体实施方式
为详细说明本实用新型的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合实施 方式并配合附图详予说明。作为本实用新型离心分离清洗装置的第一实施例，请参阅
图1，包括离心桶1、不锈钢喷管2、出水孔3和给液器4，喷管2竖直设置在离心桶1内，给液器4与喷管2 —端相 连通，所述出水孔3设置在喷管2侧壁上，出水孔3为内小外大的锥形通孔，出水孔3的锥 角优选角度为45° 160°，出水孔3为圆锥形出水孔，成排地分布在喷管2上。由于在喷管侧壁上设置了出水孔，出水孔为内小外大的锥形通孔，当具有一定压 力的清洗液从出水孔内喷出时，会形成一个扇形面，使每个出水孔的喷射面积大大增加，喷 出的清洗液与晶体5表面的接触机率增大，所以清洗更均勻，同样的清洗液可以清洗更多 的晶体5表面，利用率得到大幅提升，出水孔的喷射面积有部分重叠，可使离心清洗装置内 晶体5得到全面的清洗。作为本实用新型离心分离清洗装置的第二实施例，请参阅图2，与实施例一不同之 处在于所述出水孔3为线形出水孔，清洗液经过线性出水孔3时，同样可以形成一个扇形 面，达到实施例一所述的有益效果，由于其它结构均与实施例一一致，此处不再赘述。作为本实用新型离心分离清洗装置的第三实施例，请参阅图3，与实施例一不同之 处在于所述出水孔3设置在与喷管2相连通并且水平设置的喷嘴6上，由于喷射原理与实 施例一一致，得到的有益效果也完全相同，此处不再赘述。以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是 利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构，或直接或间接运用在其他相关的技术 领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
权利要求一种离心分离清洗装置，包括离心桶、喷管、出水孔和给液器，喷管竖直设置在离心桶内，给液器与喷管一端相连通，其特征在于所述出水孔为内小外大的锥形通孔，所述出水孔设置在喷管侧壁上，或者设置在与喷管相连通并且水平设置的喷嘴上。
2.根据权利要求1所述的离心分离清洗装置，其特征在于所述出水孔为线形出水孔。
3.根据权利要求1所述的离心分离清洗装置，其特征在于所述出水孔为圆锥形出水 孔，成排地分布在喷管上。
4.根据权利要求1所述的离心分离清洗装置，其特征在于所述出水孔的锥角为 45° 160°。
5.根据权利要求1所述的离心分离清洗装置，其特征在于所述喷管为不锈钢喷管。
专利摘要本实用新型涉及一种离心分离清洗装置，属于化工和轻工生产领域，包括离心桶、喷管、出水孔和给液器，喷管竖直设置在离心桶内，给液器与喷管一端相连通，所述出水孔为内小外大的锥形通孔，所述出水孔设置在喷管侧壁上，或者设置在与喷管相连通并且水平设置的喷嘴上。由于在喷管侧壁上或者在喷管上的水平喷嘴上设置了出水孔，出水孔为内小外大的锥形通孔，当具有一定压力的清洗液从出水孔内喷出时，会形成一个扇形面，使每个出水孔的喷射面积大大增加，喷出的清洗液与晶体表面的接触几率增大，所以清洗更均匀，同样的清洗液可以清洗更多的晶体表面，利用率得到大幅提升，出水孔的喷射面积有部分重叠，可使离心清洗装置内晶体得到全面的清洗。
文档编号B04B15/12GK201702036SQ20102022601
公开日2011年1月12日 申请日期2010年6月13日 优先权日2010年6月13日
发明者林山杉, 胡嗣敏, 赵旭生, 郑联顺, 陈卫聪, 黄志强 申请人:丽珠集团福州福兴医药有限公司