一种机械磨削液的制作方法

文档序号:9540803阅读:481来源:国知局
一种机械磨削液的制作方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及一种磨削液,用于机械加工中。
【背景技术】
[0002]现有的技术公开了各种磨削设备及其使用的磨削液,如,CN101020810 A公开了一种在线电解修整磨削用的水基磨削液,属于机械超精密磨削加工使用的磨削液技术。该磨削液的组成为,在质量为100份的水中含有下列组分及其质量百分比含量:钼酸钠:0.2?
0.6% ;碳酸钠:0.1?0.5% ;硅酸钠:0.3?0.8% ;硼砂:0.1?0.4% ;苯甲酸钠:0.2?
1.2% ;氯化钠:0.01?0.1%;并含有与水的体积百分比为0.7?1.2%的硼酸酯。本发明的优点在于,该磨削液对环境友好,制备成本低,使用性能好,制备过程简单。

【发明内容】

[0003]本发明的目的在于提出一种机械加工中使用的磨削液。
[0004]为达此目的,本发明采用以下技术方案:
[0005]—种机械磨削液,包括:磨料、螯合剂、抑制剂、速率调节剂、余量为水,所述磨料为碳化娃、氮化娃、三氧化二铁,磨料的含量为40_50wt% ;所述螯合剂为N-轻基乙二胺三乙酸钴、N-羟基乙二胺三乙酸镍、柠檬酸钴、柠檬酸镍中的任意一种或其任意两种以上组合,螯合剂含量为15-20wt% ;所述抑制剂为磷酸氢二铵和/或磷酸二氢铵,含量为
0.6-1.0wt%,所述速率调节剂为氟化铈含量为5-10wt%。
[0006]进一步,磨料的粒径为10nm-2mm,优选50nm-lmm,更优选lOOnm-Ι μ m。
[0007]进一步,所述的磨料为氮化娃。
[0008]进一步,螯合剂为N-羟基乙二胺三乙酸钴、N-羟基乙二胺三乙酸镍。
[0009]进一步:磨料45%,螯合剂,18%,抑制剂0.85wt%,氟化铈7.5wt%,余量为水。
【具体实施方式】
[0010]实施例1
[0011]—种机械磨削液,包括:磨料、螯合剂、抑制剂、速率调节剂、余量为水,所述磨料为245nm三氧化二铁,磨料的含量为50wt% ;所述螯合剂为柠檬酸镍,螯合剂含量为15wt% ;所述抑制剂为磷酸氢二铵和/或磷酸二氢铵,含量为0.6wt%,所述速率调节剂为氟化铈含量为5wt%。
[0012]实施例2:
[0013]—种机械磨削液,包括:磨料、螯合剂、抑制剂、速率调节剂、余量为水,所述磨料为25nm氮化硅,磨料的含量为40wt% ;所述螯合剂为N-羟基乙二胺三乙酸镍,螯合剂含量为20wt% ;所述抑制剂为磷酸二氢铵,含量为1.0wt%,所述速率调节剂为氟化铈含量为10wt % ο
[0014]实施例3
[0015]—种机械磨削液,包括:磨料、螯合剂、抑制剂、速率调节剂、余量为水,所述磨料为75nm氮化硅,磨料的含量为45wt% ;所述螯合剂为N-羟基乙二胺三乙酸钴,螯合剂含量为18wt% ;所述抑制剂为磷酸氢二铵,含量为0.85wt%,所述速率调节剂为氟化铈含量为
7.5wt % ο
【主权项】
1.一种机械磨削液,包括:磨料、螯合剂、抑制剂、速率调节剂、余量为水,其特征在于:所述磨料为碳化娃、氮化娃、三氧化二铁,磨料的含量为40-50wt% ;所述螯合剂为N-轻基乙二胺三乙酸钴、N-羟基乙二胺三乙酸镍、次氮基三乙酸钴、次氮基三乙酸镍、柠檬酸钴、柠檬酸镍、双甘氨酸钴、双甘氨酸镍中的任意一种或其任意两种以上组合,螯合剂含量为.15-20wt% ;所述抑制剂为磷酸氢二铵和/或磷酸二氢铵,含量为0.6-1.0wt%,所述速率调节剂为氟化铈含量为5-10wt%。2.根据权利要求1所述的磨削液,其特征在于磨料的粒径为10nm-2mm,优选50nm-lmm,更优选 100nm-lμmD3.根据权利要求1所述的磨削液,其特征在于所述的磨料为氮化硅。4.根据权利要求1所述的磨削液,其特征在于螯合剂为N-羟基乙二胺三乙酸钴、N-羟基乙二胺三乙酸镍。5.根据权利要求1所述的磨削液,其特征在于:磨料45wt%,螯合剂18wt %,抑制剂.0.85wt%,氟化铈7.5wt%,余量为水。
【专利摘要】本发明公开了一种机械磨削液,包括:磨料、螯合剂、抑制剂、速率调节剂、余量为水,所述磨料为碳化硅、氮化硅、三氧化二铁,磨料的含量为40-50wt%;所述螯合剂为N-羟基乙二胺三乙酸钴、N-羟基乙二胺三乙酸镍、柠檬酸钴、柠檬酸镍中的任意一种或其任意两种以上组合,螯合剂含量为15-20wt%;所述抑制剂为磷酸氢二铵和/或磷酸二氢铵,含量为0.6-1.0wt%,所述速率调节剂为氟化铈含量为5-10wt%。该磨削液对环境友好,制备成本低,使用性能好,制备过程简单。
【IPC分类】C10N40/20, C10M173/02
【公开号】CN105296128
【申请号】CN201510687747
【发明人】唐靖岚
【申请人】无锡清杨机械制造有限公司
【公开日】2016年2月3日
【申请日】2015年10月21日
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