1.一种制备金属结构体的方法,包括以下步骤:
(a)提供包括纳米线和至少一种溶剂的组合物;
(b)使组合物在衬底上结构化;
(c)至少部分地去除所述溶剂。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,通过将所述组合物涂覆在衬底上并且随后将结构模板施加到衬底上、同时使所述组合物部分地移位来实现涂覆和结构化。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,通过将所述组合物涂覆到结构化掩模中来实现涂覆和结构化。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其特征在于,至少50重量%的纳米线具有超过1μm的长度。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其特征在于,至少50重量%的纳米线具有至少500:1的长度对直径的长径比。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其特征在于,纳米线是金属纳米线。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,纳米线具有低于15nm的平均直径。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其特征在于,纳米线具有低于5nm的平均直径。
9.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,在进一步的步骤中对获得的结构体进行热处理或用等离子体进行处理。
10.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,衬底具有包括至少一种含氟化合物的表面。
11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,纳米线具有低于100nm的平均直径。
12.经涂覆的衬底,其通过根据权利要求1至11中任一项所述的方法获得。
13.根据权利要求12所述的经涂覆的衬底,其特征在于,经涂覆的衬底和金属结构体看上去至少部分透明。
14.根据权利要求12或13中所述的衬底的用途,该衬底作为导体轨道在电子应用中,在触摸屏显示器、太阳能收集器、显示器中,作为RFID天线,或在晶体管中使用。