形成用于MEMS器件的钝化涂层的制作方法

文档序号:17596115发布日期:2019-05-07 19:29阅读:来源:国知局
技术总结
本发明涉及形成用于MEMS器件的钝化涂层。在所描述的示例中,MEMS器件部件(104)包括钝化层(102),该钝化层(102)由可以包括前体的蒸汽化合物和/或液体化合物形成。该化合物可以含有氨基酸、抗氧化剂、腈或其他化合物,并且可以被设置在MEMS器件部件(104)的表面(106)上和/或封装上或其封装部分上。如果化合物是前体,则该化合物可以被处理,使得从该前体形成钝化层(102)。

技术研发人员:S·J·雅各布斯;M·N·兴;L·T·莱瑟姆
受保护的技术使用者:德克萨斯仪器股份有限公司
技术研发日:2018.10.30
技术公布日:2019.05.07

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