专利名称：一种真空镀膜成图方法、专用设备及制品的制作方法
技术领域：
本发明涉及工艺品制造技术，具体的涉及制备各种工艺品的一种 真空镀膜成图方法、专用设备及制品。
背景技术：
目前，现有的在塑料、玻璃等制品表面镀膜并获得图案方法， 一般 是先对制品表面进行完全镀膜，然后再采用印刷、腐蚀等方法值得图
案。如中国200610170656. 3号专利申请，即公开了一种利用在基材表面 形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，其主要是将聚碳酸酯基材 或压克力基材放入真空镀膜设备中，将氧化硅及氧化钛蒸镀在基材表面形 成镀膜层，再将已蒸镀完成的基材，以印刷方式布设图样层在基材另一表 面，并在镀膜层上布设一颜色层；由上述方法所完成的产品，当基材透过 光线照射，因镀膜层将光线折射，而会呈现不同的色彩变化及光影折射的 视觉效果。这种方法，不能快速、精确、环保地获得镂空图案。
在目前常用的蒸镀、溅镀、分子束外延等真空镀膜方法镀膜方法 中，其镀膜设备通常大多使用单一固定的镀膜源，然而，这种设备一 次仅能加工一个制品，其加工效率很低，不能满足大批量生产的需要。
现有的激光蚀刻技术，其一般是直接导入图案数据就进行蚀刻， 而根据制品表面的曲度、粗糙度等数据，对该图案数据进行运算、调 整，因而制得的图案会发生一些形变，精度较低、效果较差。
采用现有技术获得的制品，其镀膜层一般存在于制品的外侧表面， 而在其内侧表面上镀膜、并在该镀膜上镂空成图的制品，还没有发现。
发明内容
针对现有镀膜及成图技术所存在的上述不足，本发明目的之一在 于，提供成图精度高、效果好的真空镀膜成图方法；
本发明的目的之二在于，提供一种用来实现权前述的真空镀膜成 图方法的设备；
本发明的目的还在于，提供一种采用前所述的真空镀膜成图方法 的制品。
本发明为实行上述目的，所提供的技术方案是 一种真空镀膜成图方法，其特征在于，其包括如下步骤
(1) 制备、清洁玻璃胚体；
(2) 在该玻璃胚体需要成图的部位，进行成图预处理；
(3) 将胚体真空镀膜；
(4) 将胚体成图部位镂空成图。 前述的真空镀膜成图方法，其特征在于，所述的步骤(2)的成图
预处理，是制备图案薄膜，并将其附着在胚体上需要成图的部位； 所述的步骤(4)，是将附着在所述胚体上，的图案薄膜移除。 前述的真空镀膜成图方法，其特征在于，所述的步骤(2)，其还 包括如下步骤-
(21) 制备带有镂空图案的薄膜，并将其附着在胚体上；
(22) 将所述薄膜及胚体表面均匀喷涂蜡层，使其覆盖所述镂空
图案；
(23) 除去所述薄膜。
所述的步骤(4)，是将喷涂在所述胚体上的蜡层，加热移除。 前述的真空镀膜成图方法，其特征在于，所述的步骤(2)，其还 包括如下步骤(21) 编程，将基本图案信息输入计算机；
(22) 将该基本图案信息转换为矢量信息；
(23) 根据胚体曲度及粗糙度，对该基本图案数据进行运算、调整。
所述的步骤(4)，是根据步骤(23)获得的数据，控制与计算机 联机的激光蚀刻设备，用激光束扫描所述胚体表面，成图。
前述的真空镀膜成图方法，其特征在于，所述的步骤(1)还包括 如下步骤
(11)在所述玻璃胚体表面涂覆一层电镀油；
所述的步骤步骤(4)，还包括如下步骤
(41)清理所述胚体，并在所述电镀层外部涂覆一层保护层。 前所述的真空镀膜成图方法，其特征在于，所述的胚体为一杯形， 所述的成图部位为其内侧表面。
所述步骤(3)，是将所述胚体杯口向下，对其内侧表面镀膜。
一种实现前述的真空镀膜成图方法的专用设备，其包括相互扣合 的上、下壳体，下壳体上设有电插座，其特征在于，该壳体中部设置
有一水平托板，该托板上开有复数个通孔；下壳体底部设有一绝缘电 路板，该电路板上端面对应所述通孔位置，分别设有复数个镀膜电加 热架，且每一镀膜电加热架均穿过所述通孔并向上伸出；所述各电镀 加热架的两端分别连接电源的一极，并联后连接在所述电插座上。
前述的实现真空镀膜成图方法的专用设备，其特征在于，所述的 上或下壳体上，还设有一用来抽真空的开口；所述的上或下壳体之间 的扣合面上，还设有密封圈。
一种采用前述的真空镀膜成图方法的制品，其包括一玻璃胚体， 其特征在于，所述玻璃胚体的表面为印面和/或毛面；在该表面上，设 有至少一置有镂空图案的镀膜层。
前述的制品，其特征在于，在所述玻璃胚体的表面上，由内向外 依次设有电镀油层、镀膜层、保护层。
本发明的优点在于由于本发明提供的方法，可以直接在镀膜层 上获得图案，且获得的图案精度高、效果好；本发明提供的设备，可 以一次同时对多个制品进行镀膜操作，生产效率高；本发明提供的制 品，其艺术效果好、耐用，镂空图案立体感强、仿真度高，且不易变 形或损坏。
下面结结合附图与实施例，对本发明进一步说明。
图1是本发明实施例1提供的设备全剖结构示意图； 图2是本发明实施例1提供的制品全剖结构示意图。
具体实施例方式
实施例1:参见图1，本实施例提供的一种真空镀膜成图方法，其 包括如下步骤
(1)制备、清洁杯形的玻璃胚体，并在所述玻璃胚体内侧表面涂 覆一层电镀油；
(2)在该玻璃胚体需要成图的内侧表面部位，进行成图预处理 制备图案薄膜，并将其附着在胚体上需要成图的部位；
(3 )将胚体放入镀膜设备中进行真空镀膜将所述胚体杯口向下， 对其内侧表面镀膜；
(4)将胚体成图的内侧表面部位镂空成图将附着在所述胚体 内侧表明上的图案薄膜移除；然后清理所述胚体，并在所述电镀层外 部涂覆一层保护层。
参见图1， 一种实现前述的真空镀膜成图方法的设备，其包括相 互扣合的上壳体2、下壳体l，下壳体'l上设有电插座，该壳体中部设 置有一水平托板3，该托板3上开有复数个通孔4;下壳体l底部设有 一绝缘电路板7，该电路板7上端面对应所述通孔位置，分别设有复 数个镀膜电加热架6，且每一镀膜电加热架6均穿过所述通孔4并向 上伸出；所述各电镀加热架6的上部为一钨丝5，其两端分别连接电 源的一极，并联后连接在所述电插座上。上壳体2或下壳体1上，还 设有一用来抽真空的开口；上壳体2或下壳体1之间的扣合面上，还 设有密封圈8。
参见图2， 一种采用前述的真空镀膜成图方法的制品，其包括一 玻璃胚体10，该胚体10的内侧表面为一曲面和毛面；在该表面上， 设有一置有镂空图案的镀膜层12;在该内侧表面上，由内向外依次设 有一电辨油层11、镀膜层12 (含镂空图案)、保护层13;其保护层13 为一油漆等有机化合物涂层，且可以为有色或无色。
实施例2:本实施例提供的一种真空镀膜成图方法，其基本步骤 与实施例l相同，其不同之处在于，步骤(2)所述的成图预处理，其 包括如下步骤
(21)制备带有镂空图案的薄膜，并将其附着在胚体上；
(22) 将所述薄膜及胚体表面均匀喷涂蜡层，使其覆盖所述镂空
图案；
(23) 除去所述薄膜。
步骤(4)，所述的镂空成图，是将喷涂在所述胚体上的蜡层，加 热移除，使镀在腊层上的镀膜一并脱落，形成镂空图案。
实施例3:本实施例提供的一种真空镀膜成图方法，其基本步骤 与实施例1相同，其不同之处在于，所述的步骤(2)，其还包括如下 步骤
(21) 编程，将基本图案信息输入计算机；
(22) 将该基本图案信息转换为矢量信息；
(23) 根据胚体曲度及粗糙度，对该基本图案数据进行运算、调 整，使其蚀刻在胚体上的图案精度与效果，与基本图纸最接近；
所述的步骤(4)，是根据步骤(23)获得的数据，控制与计算机 联机的激光蚀刻设备，用激光束扫描所述胚体表面，成图。
根据本发明上述实施例所述，具备与本实施例相同或相似技术特 征的真空镀膜成图方法、设备及制品，均在本发明保护范围内。
权利要求
1.一种真空镀膜成图方法，其特征在于，其包括如下步骤(1)制备、清洁玻璃胚体；(2)在该玻璃胚体需要成图的部位，进行成图预处理；(3)将胚体真空镀膜；(4)将胚体成图部位镂空成图。
2. 根据权利要求1所述的真空镀膜成图方法，其特征在于，所述 的步骤(2)的成图预处理，是制备图案薄膜，并将其附着在胚体上需 要成图的部位；所述的步骤(4)，是将附着在所述胚体上的图案薄膜移除。
3. 根据权利要求1所述的真空镀膜成图方法，其特征在于，所述 的步骤(2)，其还包括如下步骤(21) 制备带有镂空图案的薄膜，并将其附着在胚体上；(22) 将所述薄膜及胚体表面均匀喷涂蜡层，使其覆盖所述镂空图案；(23) 除去所述薄膜。所述的步骤(4)，是将喷涂在所述胚体上的蜡层，加热移除。
4. 根据权利要求l所述的真空镀膜成图方法，其特征在于，所述 的步骤(2)，其还包括如下步骤-(21) 编程，将基本图案信息输入计算机；(22) 将该基本图案信息转换为矢量信息；(23) 根据胚体曲度及粗糙度，对该基本图案数据进行运算、调整。所述的步骤(4)，是根据步骤(23)获得的数据，控制与计算机 联机的激光蚀刻设备，用激光束扫描所述胚体表面，成图。
5. 根据权利要求1或2或3或4之一所述的真空镀膜成图方法， 其特征在于，所述的步骤(1)还包括如下步骤(11)在所述玻璃胚体表面涂覆一层电镀油；所述的步骤步骤(4),还包括如下步骤 (41)清理所述胚体，并在所述电镀层外部涂覆一层保护层。
6、 根据权利要求5所述的真空镀膜成图方法，其特征在于，所述 的胚体为一杯形，所述的成图部位为其内侧表面；所述步骤(3)，是将所述胚体杯口向下，对其内侧表面镀膜。
7、 —种实现权利要求l所述的真空镀膜成图方法的专用设备，其 包括相互扣合的上、下壳体，下壳体上设有电插座，其特征在于，该 壳体中部设置有一水平托板，该托板上开有复数个通孔；下壳体底部 设有一绝缘电路板，该电路板上端面对应所述通孔位置，分别设有复 数个镀膜电加热架，且每一镀膜电加热架均穿过所述通孔并向上伸出； 所述各电镀加热架的两端分别连接电源的一极，并联后连接在所述电 插座上。
8、 根据权利要求7所述的实现真空镀膜成图方法的专用设备，其 特征在于，所述的上或下壳体上，还设有一用来抽真空的开口；所述 的上或下壳体之间的扣合面上，还设有密封圈。 .
9、 一种采用权利要求1所述的真空镀膜成图方法的制品，其包括 一玻璃胚体，其特征在于，所述玻璃胚体的表面为曲面和/或毛面；在 该表面上，设有至少一置有镂空图案的镀膜层。
10、 根据权利要求9所述的制品，其特征在于，在所述玻璃胚体 的表面上，由内向外依次设有电镀油层、镀膜层、保护层。
全文摘要
本发明公开了一种真空镀膜成图方法，其特征在于，其包括如下步骤(1)制备、清洁玻璃胚体；(2)在该玻璃胚体需要成图的部位，进行成图预处理；(3)将胚体真空镀膜；(4)将胚体成图部位镂空成图。本发明还提供了一种用来实现前述的真空镀膜成图方法的设备；及采用前所述方法的制品。本发明的优点在于由于本发明提供的方法，可以直接在镀膜层上获得图案，且获得的图案精度高、效果好；本发明提供的专用设备，可以一次同时对多个制品进行镀膜操作，生产效率高；本发明提供的制品，其艺术效果好、耐用，镂空图案立体感强、仿真度高，且不易变形或损坏。
文档编号C25D5/02GK101104369SQ20071014356
公开日2008年1月16日 申请日期2007年8月9日 优先权日2007年8月9日
发明者温晋奕 申请人:温晋奕