专利名称：金属雾化片的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种金属雾化片，属于超高精密五金技术领域。
背景技术：
随着人民生活水平的逐渐提高，对生活质量有了更高的要求，随着医疗技术的不 断发展，业界对雾化器的性能提出了更高的技术要求，传统蚀刻加工不锈钢工艺生产的金 属雾化片再也不能满足更高要求的技术规格，其加工不锈钢雾化片微孔直径大于20um，蚀 刻工艺已经到了极限，不能满足更微小孔的加工要求，业界亟需一种微孔达到3 IOum的 雾化片，来满足国内雾化器的膨大需求。
实用新型内容为了克服现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种利用特种电沉积加工 方法生产的能够满足高性能雾化器对微孔雾化片的制造要求、降低使用成本、提高使用寿 命的金属雾化片。本实用新型是通过以下技术方案来实现的一种金属雾化片，包括光阻材料以及电镀沉积在光阻材料表面及四周的电铸镍 层，电铸镍层上还具有微孔，其特征在于，所述的微孔的孔径为1 3um，圆度误差为0. 5um。进一步，上述的光阻材料为干膜、湿膜或光刻胶，其厚度为4 5um。上述的电铸镍层的材料为镍金合金，其硬度为450 550hv，厚度为0. 020 0. 060mm，且其材料可以为镍钴合金或镍磷合金。本实用新型的有益效果是本实用新型通过采用特种电铸沉积加工而成，其可以 使自身微孔的孔径达到2 IOum的孔径要求，可以雾化液体颗粒达到5um以下的直径水 平，且可以满足本实用新型具有2000 5000小时的使用寿命。
图1为本实用新型一实施例的截面放大示意图。图中主要附图标记含义为1、光阻材料 2、电铸镍层 3、微孔
具体实施方式
下面将结合附图，详细说明本实用新型的具体实施方式
图1为本实用新型一实施例的截面放大示意图。如图1所示金属雾化片，包括光阻材料1以及电镀沉积在光阻材料1表面及四周 的电铸镍层2，电铸镍层2上还具有微孔3，所述的微孔3的孔径为2 lOum，圆度误差为 0. 5um，且上述的光阻材料1为干膜(光阻材料也可以为光刻胶或者湿膜)，而电铸镍层的材 料则为镍金合金，其硬度为450 550hv，厚度为0. 020 0. 060mm，所述的镍金合金可以为镍钴合金或镍磷合金中的任一种。本实用新型的生产过程为首先将304不锈钢基板表面研磨处理检查外观后，将 304不锈钢基板置于烘箱中烘烤30分钟，温度70 80度；采用光刻胶印刷的办法，将一定 厚度的光刻胶在200 250目丝网印刷下，使光刻胶平均涂覆在304不锈钢板上面，使其厚 度在4 5um左右即可；然后将雾化片的文件设计好后，制作2000DPI的负片光罩菲林，在 平行光机上进行高精度曝光，UV光能量控制在3 5KW即可，曝光后的基板在的显影机 中进行清洗，使图形停留在基板上，并作图形尺寸及外观检查，然后将基板放入镍金电铸槽 中进行特种电铸沉积加工，达到所需要的厚度后即可将基板上的雾化金属片取下，放入超 声波清洗机上进行清洗，完成。本实用新型孔径小、精度高、使用寿命长，价格较低，降低了使用成本，满足雾化器 更高的技术要求。以上已以较佳实施例公开了本实用新型，然其并非用以限制本实用新型，凡采用 等同替换或者等效变换方式所获得的技术方案，均落在本实用新型的保护范围之内。
权利要求一种金属雾化片，包括光阻材料(1)以及电镀沉积在光阻材料(1)表面及四周的电铸镍层(2)，电铸镍层(2)上还具有微孔(3)，其特征在于，所述的微孔(3)的孔径为2～10um，圆度误差为0.5um。
2.根据权利要求1所述的金属雾化片，其特征在于，所述的光阻材料(1)为干膜、湿膜 或光刻胶。
3.根据权利要求1所述的金属雾化片，其特征在于，所述的光阻材料(1)的厚度为4 5um。
4.根据权利要求1所述的金属雾化片，其特征在于，所述的电铸镍层(2)的材料为镍金合金 O
5.根据权利要求4所述的金属雾化片，其特征在于，所述的镍金合金的硬度为450 550hv,厚度为 0. 020 0. 060mm。
6.根据权利要求4或5所述的金属雾化片，其特征在于，所述的镍金合金的材料为镍钴合金或镍磷合金。
专利摘要本实用新型公开了一种金属雾化片，包括光阻材料以及电镀沉积在光阻材料表面及四周的电铸镍层，电铸镍层上还具有微孔，其特征在于，所述的微孔的孔径为2～10μm，圆度误差为0.5μm。本实用新型通过采用特种电铸沉积加工而成，其可以使自身微孔的孔径达到2～10μm的孔径要求，可以雾化液体颗粒达到5μm以下的直径水平，且可以满足本实用新型具有2000～5000小时的使用寿命。
文档编号C25D1/08GK201659059SQ20102016995
公开日2010年12月1日 申请日期2010年4月23日 优先权日2010年4月23日
发明者周涛, 李真明, 黎增祺 申请人:昆山美微电子科技有限公司