一种阴极辊PVA抛光的工艺的制造方法与工艺

本发明属于电解铜箔生产工艺技术领域，具体涉及一种阴极辊PVA抛光的工艺。

背景技术：
电解铜箔生产的关键设备是阴极辊，铜离子在外电场的作用下电沉积到阴极辊表面生成铜箔。因此，阴极辊表面晶粒大小、几何形状、平整度、粗糙度直接影响到电解铜箔的亮面质量。同时，对毛面晶体结构有十分关键的影响，金属表面的粗糙度不同导致在电解液中的电化学行为不同。表面越粗糙，晶格变大，实际面积变大，实际电流密度下降，阴极极化变小。严重时，造成部分的实际电极电位达不到铜的析出电位或偏低，导致电解铜箔晶粒大小不均、排列杂乱，甚至出现渗透孔。因此，成熟稳定的抛光参数对铜箔生产具有重要意义。

技术实现要素：
本发明的目的是针对现有技术的不足，提供一种阴极辊PVA抛光的工艺。为实施上述目的，本发明采用的技术方案是：一种阴极辊PVA抛光的工艺，包括如下步骤：选取1000#磨料为SiC的抛光刷，将阴极辊放在盛有抛光液的电...