一种碱性氰化金的电镀液的制作方法

文档序号:13068689阅读:1306来源:国知局

本发明涉及电镀液,尤其涉及一种金的电镀液。



背景技术:

金是一种贵金属,其优良的特性及外观的特殊性,越来越广泛的应用于电子元件和饰品、奖牌、纪念章等领域,由于金较昂贵,所以,在使用时成本会大大提高,为了既能够利用其优良的特性和外观的美观,又可以降低成本,采用电镀金的方式解决了成本高的问题。目前镀金广泛应用于精密仪器仪表、印刷板,集成电路、电子管外壳、电接点等零件,外观为金黄色,延展性好,易抛光,有很好的抗变性能、导电性能,易于焊接,耐高温。例如连接电子装置的电子元件由于其使用性能需要良好的耐腐蚀性、耐磨性和导电性而采用金电镀;如饰品、奖牌、纪念章等等需要具有较好的视觉美感,通常在表面电镀金。

目前,电镀金的电镀液配方较多,但是由于组分和配比的原因,通常会导致电镀液不稳定,电镀的金薄膜性能差,质量低,表面沉积均一性不足,且在有些电子元件和饰品中,需要局部镀金,在镀金部位的选择性上较差。



技术实现要素:

发明目的:本发明提供了一种碱性氰化金的电镀液,该电镀液解决了电镀的金薄膜质量低、均一性不足、选择性差的问题。

技术方案:本发明的碱性氰化金的电镀液,包括溶剂水、4-10g/l的氰化亚金钾、7-14g/l的络合剂、17-22g/l的缓冲剂、20-25g/l的柠檬酸钾、0.1-0.2g/l的表氯醇和/或表溴醇以及15-20g/l导电盐。电镀液中电镀金属的盐的浓度以及强电解质(导电盐)在此范围内时,可以获得均一性较高的金属层;表氯醇和/或表溴醇的添加使金电镀液的长期稳定性得到了提高,而且金沉积的选择性高,可以限制到需要金的区域。

所述络合剂为氰化钠和/或氰化钾。

为维持镀液的ph值变化不大,所述缓冲剂为碳酸氢钾、碳酸氢钠和磷酸氢二钾中的一种或几种。

为提高镀电导率,降低镀液的阴极化作用,所述导电盐为钠盐和/或钾盐。

为改善金镀层的性能,所述电镀液中还包括光亮剂、整平剂和润湿剂中的一种或几种。

所述光亮剂为丁炔二醇、苄亚基丙酮和糖精中的一种或几种,其中电镀液中光亮剂的浓度为0.07-0.12g/l。

所述整平剂四氢噻唑硫酮、亚乙基硫脲和噻二唑嗡盐结构单元的聚合物中的一种或几种,其中电镀液中整平剂的浓度为0.07-0.12g/l。

所述润湿剂为k-12十二烷基硫酸钠、op-10和aeo乳化剂中的一种或几种,其中电镀液中润湿剂的浓度为0.07-0.12g/l。

所述电镀液中温度为60-65℃,ph为9-11,阴极电流密度为0.05-0.09a/dm2

有益效果:1、本发明的金电镀液配方简单,电镀的金薄膜层效果好、均一性高;2、金沉积的选择性高;3、工艺条件要求温和,易于实现;4、降低了电镀金的成本。

具体实施方式

实施例1

首先,配制碱性氰化金的电镀液,其中电镀液中氰化亚金钾4g/l、氰化钠7g/l、碳酸氢钾17g/l、柠檬酸钾20g/l、表氯醇0.1g/l、氯化钠15g/l、光亮剂丁炔二醇0.07g/l,水为溶剂。

然后,在温度为60℃,ph为9,阴极电流密度为0.05a/dm2的条件下,将镀件置于电镀液中。

电镀完毕后,取出镀件,其表面金属层均一性好,光亮度高。

实施例2

首先,配制碱性氰化金的电镀液,其中电镀液中氰化亚金钾10g/l、氰化钾14g/l、碳酸氢钠22g/l、柠檬酸钾25g/l、表溴醇0.2g/l、硝酸钾20g/l、整平剂亚乙基硫脲0.12g/l,水为溶剂。

然后,在温度为65℃,ph为11,阴极电流密度为0.09a/dm2的条件下,将已经局部涂布绝缘涂料的纪念章置于电镀液中。

电镀完毕后,取出纪念章,其表面金属层均一性好,平整度高,且金的沉积位置准确,沉积到未涂布绝缘材料的部分。

实施例3

首先,配制碱性氰化金的电镀液,其中电镀液氰化亚金钾7g/l、氰化钾10g/l、磷酸氢二钾20g/l、柠檬酸钾22g/l、表溴醇0.14g/l、硝酸钾17g/l、整平剂四氢噻唑硫酮0.1g/l、光亮剂苄亚基丙酮0.11g/l,水为溶剂;在温度为63℃,ph为10,阴极电流密度为0.07a/dm2的条件下,将已经局部涂布绝缘涂料的纪念章置于电镀液中。电镀完毕后,取出纪念章,其表面金属层均一性好,平整度高,且金的沉积位置准确。



技术特征:

技术总结
本发明公开了一种碱性氰化金的电镀液,包括溶剂水、4‑10g/L的氰化亚金钾、7‑14g/L的络合剂、17‑22g/L的缓冲剂、20‑25g/L的柠檬酸钾、0.1‑0.2g/L的表氯醇或表溴醇以及15‑20g/L导电盐。本发明的金电镀液配方简单,电镀的金薄膜层效果好、均一性高;金沉积的选择性高;工艺条件要求温和,易于实现;降低了电镀金的成本。

技术研发人员:朱小燕
受保护的技术使用者:佛山市春暖花开科技有限公司
技术研发日:2017.09.29
技术公布日:2017.12.01
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