一种连续镀珍珠镍和镍钴电镀装置的制作方法

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一种连续镀珍珠镍和镍钴电镀装置的制造方法

本实用新型涉及电镀表面处理领域,更具体地说是指一种连续镀珍珠镍和镍钴电镀装置。



背景技术:

现今珍珠镍镀层给人以柔和舒适的感觉,犹如珍珠的表面,深受人们的喜爱,广泛应用于手机配件、相机配件、灯饰家电等行业。

早期电镀珍珠镍废品率高、作业环境差,劳动强度大,已经很少使用,目前电镀珍珠镍,大部分采用单臂钓鱼式或垂直升降等,存在以下缺点:

1.电镀槽体积大,挂架不同位置电流分布差异大,导致膜厚相差也很大;

2.随着生产的进行,老化的添加剂不断积累,传统的珍珠镍电镀没有区分子槽、母槽,只有一个电镀槽,药水净化的速度和效率都较差,电镀药水得不到及时、完全的净化,早上、中午和下午的产品品质有明显区别。

3.珍珠镍的晶粒较粗,耐磨性差。

因此,有必要开发出一种连续镀珍珠镍和镍钴电镀装置。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于克服现有技术的缺陷,提供一种连续镀珍珠镍和镍钴电镀装置,改善电镀药水的循环过滤和净化功效,并改善电镀膜厚分布的均匀性,为实现上述目的,本实用新型采用以下技术方案:

一种连续镀珍珠镍和镍钴电镀装置,包括有主机架、电镀子槽、电镀母槽、过滤机和添加剂泵,所述的主机架支撑电镀子槽和电镀母槽,所述的电镀子槽中设有挂架,电镀子槽的两端设有回流口,所述的电镀子槽和电镀母槽相连接,电镀母槽与过滤机连接,添加剂泵连接过滤机。

所述的电镀子槽高300mm,宽度为210mm和长17000mm,其挂架的电镀平面为220X6.5mm。

所述的电镀子槽和电镀母槽的盖板为透明PVC塑料。

所述的主机架采用材料为SUS304的方通,设有水平调节螺丝。

所述的过滤机和添加剂泵是由定量泵组成。

所述的电镀子槽和电镀母槽还分别包括有加热泵、交换管、输送管和温控器,温度控制精度在1度以内,其中电镀子槽内的交换管用钛材,热水输送管用SUS304不锈钢。

本实用新型与现有技术相比的有益效果是:本实用新型针通过减少电镀槽的高度和宽度,缩小电流密度的分布范围,改善电镀药水的循环过滤、净化功效,改善了电镀膜厚分布的均匀性,并可确保产品膜厚、光泽度、色差度、粗糙度不受珍珠镍药水的使用时间的影响,电镀过程全自动化,节约人力。

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步描述。

附图说明

图1为本实用新型具体实施例的电镀装置电镀示意图;

图2为本实用新型具体实施例的电镀子槽的结构尺寸示意图;

附图标记

1、电镀子槽;2、电镀母槽;3、过滤机;4、添加剂泵。

具体实施方式

为了更充分理解本实用新型的技术内容,下面结合具体实施例对本实用新型的技术方案进一步介绍和说明,但不局限于此。

如图1-2所示,本实用新型连续镀珍珠镍和镍钴电镀装置的具体实施,包括有主机架、电镀子槽1、电镀母槽2、过滤机3和添加剂泵4,所述的主机架支撑电镀子槽1和电镀母槽2,所述的电镀子槽1中设有挂架,电镀子槽1的两端设有回流口,所述的电镀子槽1和电镀母槽2相连接,电镀母槽2与过滤机3连接,添加剂泵4连接过滤机3,再将电镀药水输送到电镀子槽1中进行电镀。

如图2所示,电镀子槽1高300mm,宽度为210mm和长17000mm,其挂架的电镀平面为220X6.5mm,而传统的珍珠镍电镀中,每个挂架的电镀平面基本在650X500(mm)以上,本设计中的挂架电镀平面仅仅220X6.5(mm),通过减少电镀子槽1的高度和宽度,缩小电流密度的分布范围,改善电镀膜厚分布的均匀性。

电镀子槽1和电镀母槽2材料为PP焊接,并且盖板为透明PVC塑料,便于观察电镀槽中的电镀情况。

主机架采用材料为SUS304的方通,采用氩弧焊制,设有水平调节螺丝,可以调整电镀子槽1和电镀母槽2的安装位置高低。

过滤机3采用两台美富亚的MDF-4600-SY-POL-MP10Q-BP、添加剂泵4分别由两台易威奇定量泵组成,相比传统过滤方式、添加剂补充方式,该设计更有效果,该补充方式让添加剂分散的更快、更均匀。

电镀子槽1和电镀母槽2还分别采用加佳德仕热泵、交换管、输送管和温控器,温控器采用日本欧姆龙E5CC-R2,温度控制精度在1度以内,其中电镀子槽1内的交换管用钛材,热水输送管用SUS304不锈钢。

其中电镀子槽1和电镀母槽2的给水系统和排水系统按水的需要设有纯水和软水管道,关键工序设纯水再生设备,并且设有浓废液和酸碱废液分开收集和处理装置,保护环保环境。

本实用新型通过减少电镀子槽1的高度和宽度,缩小电流密度的分布范围,改善电镀药水的循环过滤、净化功效,改善了电镀膜厚分布的均匀性,并可确保产品膜厚、光泽度、色差度、粗糙度不受珍珠镍药水的使用时间的影响,电镀过程全自动化,节约人力。

上述仅以实施例来进一步说明本实用新型的技术内容,以便于读者更容易理解,但不代表本实用新型的实施方式仅限于此,任何依本实用新型所做的技术延伸或再创造,均受本实用新型的保护。本实用新型的保护范围以权利要求书为准。

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