一种镀液循环系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种电镀池，具体地涉及一种镀液循环系统。
【背景技术】
[0002]随着半导体芯片的集成度不断提高，晶体管的特征尺寸不断缩小。进入到130纳米技术节点之后，受到铝的高电阻特性的限制，铜互连逐渐替代铝互连成为金属互连的主流。
[0003]电镀池内的各成分的含量都是有一定范围限制的，使用时间一长难免会混入杂质，电镀时或者闲置时都会混入杂质，而使得电镀液无法使用，因此需要对杂质超标的电镀液进行澄清处理，以便电镀液可以循环使用，降低成本。
【发明内容】
[0004]本实用新型旨在提供一种镀液循环系统，该种镀液循环系统，可以对混入杂质的电镀液进行处理，循环使用。
[0005]为达到上述目的，本实用新型的技术方案是:一种镀液循环系统，包括电镀池，所述电镀池内设置有电镀液分析装置，所述电镀液分析装置设置在电镀池中部，所述电镀池四周设置有澄清池，所述电镀池的底部设置有管路连接澄清池，所述澄清池的底部低于电镀池的底部，所述澄清池内设置有水泵。
[0006]进一步的，所述澄清池上端设置有电动搅拌器，所述电动搅拌器的搅拌轮设置在澄清池的中部，所述澄清池的下端设置有排空管，所述管路连接在澄清池的上端两侧。
[0007]进一步的，所述澄清池的形状为倒梯形。
[0008]本实用新型的有益效果是:该渡液循环系统，可以对混入杂质的电镀液进行处理，循环使用。结构简单，控制方式简单，安全环保，成本低廉，可以将电解液循环使用。该种结构的澄清池澄清速度快，可以讲杂质有效排除。
【附图说明】
[0009]图1是本实用新型镀液成份超标自动处理的镀液池的结构示意图；
[0010]图2是本实用新型镀液成份超标自动处理的镀液池的原理框图。
[0011]其中，1、电镀池，2、电镀液分析装置，3、澄清池，4、水泵，5、电动搅拌器，6、搅拌轮，7、排空管，10、管路，11、电磁阀。
【具体实施方式】
[0012]为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面结合【具体实施方式】并参照附图，对本实用新型进一步详细说明。应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本实用新型的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本实用新型的概念。
[0013]如图1、2所示，一种镀液循环系统，包括电镀池1，电镀池I内设置有电镀液分析装置2，电镀液分析装置2设置在电镀池I中部，电镀池I四周设置有澄清池3，电镀池I的底部设置有管路10连接澄清池3，澄清池3的底部低于电镀池I的底部，澄清池3内设置有水泵4。澄清池3上端设置有电动搅拌器5，电动搅拌器5的搅拌轮6设置在澄清池3的中部，澄清池3的下端设置有排空管7，管路10连接在澄清池3的上端两侧，澄清池3的形状最好为倒梯形，这种形状的澄清池，澄清效果以及排出杂质的效果都是很好的。管路10上安装有电磁阀11可以控制管路的开闭。
[0014]如图2为该装置的原理框图，
[0015]电镀池I中的电镀液分析装置2可以实时分析电镀池I中各成分的含量，并将数据传送给单片机，单片机进行处理，若含量低于设定值并且杂质明显超标时，将电磁阀11打开，电解液在重力作用下自动排出到澄清池3中，然后在澄清池3中加入药剂并控制电动搅拌器5工作，澄清完毕后利用水泵将上层液体抽回电镀池，从而可以循环使用电镀液，降低成本，安全环保，底层杂质通过排空管排出。
[0016]应当理解的是，本实用新型的上述【具体实施方式】仅仅用于示例性说明或解释本实用新型的原理，而不构成对本实用新型的限制。因此，在不偏离本实用新型的精神和范围的情况下所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。此外，本实用新型所附权利要求旨在涵盖落入所附权利要求范围和边界、或者这种范围和边界的等同形式内的全部变化和修改例。
【主权项】
1.一种镀液循环系统，包括电镀池，其特征在于，所述电镀池内设置有电镀液分析装置，所述电镀液分析装置设置在电镀池中部，所述电镀池四周设置有澄清池，所述电镀池的底部设置有管路连接澄清池，所述澄清池的底部低于电镀池的底部，所述澄清池内设置有水泵。
2.根据权利要求1所述的镀液循环系统，其特征在于，所述澄清池上端设置有电动搅拌器，所述电动搅拌器的搅拌轮设置在澄清池的中部，所述澄清池的下端设置有排空管，所述管路连接在澄清池的上端两侧。
3.根据权利要求2所述的镀液循环系统，其特征在于，所述澄清池的形状为倒梯形。
【专利摘要】本实用新型公开了一种镀液循环系统，包括电镀池，所述电镀池内设置有电镀液分析装置，所述电镀液分析装置设置在电镀池中部，所述电镀池四周设置有澄清池，所述电镀池的底部设置有管路连接澄清池，所述澄清池的底部低于电镀池的底部，所述澄清池内设置有水泵。该渡液循环系统，可以对混入杂质的电镀液进行处理，循环使用。结构简单，控制方式简单，安全环保，成本低廉，可以将电解液循环使用。该种结构的澄清池澄清速度快，可以讲杂质有效排除。
【IPC分类】C25D17-00, C25D21-18
【公开号】CN204434763
【申请号】CN201520055719
【发明人】赵进明
【申请人】淮安国丰电子科技有限公司
【公开日】2015年7月1日
【申请日】2015年1月27日