专利名称：一种防止动涡旋盘自转的滚珠体式装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及涡旋压缩机中的零部件领域，更具体的说，改进涉及的是一种防止动涡旋盘自转的滚珠体式装置。
背景技术：
在现有的涡旋压缩机中，传统的防止动涡旋盘自转的滚珠体式装置，
如附图l至3所示，包括多个钢^求230,和位于多个钢J求230上方的一上垫圈210，和位于多个钢球230下方的一下垫圏120，以及在所述上垫圏210与钢球230之间设置的一带若干通孔的上支撑盘111,和在所述下垫圈120与钢球230之间对应设置的一带同样若干通孔的下支撑盘121;所述上支撑盘111设置在涡旋压缩机的前盖上，所述下支撑盘121设置在动涡旋盘上；所述上支撑盘111上的通孔与所述下支撑盘121上的通孔一一对应，每一对通孔内适配一个钢J求230在通孔内活动以防止动涡^走盘自转；与所述钢球230相接触的所述上支撑盘111通孔孔口倒角处理，与所述钢球230相接触的所述下支撑盘121通孔孔口倒角处理，从而可增大所述钢球230的活动范围。
但是，传统的防止动涡旋盘自转的滚珠体式装置，装配零件较多，结构复杂，才几力口工时通孔及其倒角的质量难以保证，生产效率因通孔的数量
增加而降低；另外，所述上支撑盘的大小制约了通孔的大小，由此限制了
钢球的活动范围；而且钢球在活动的过程中会同时接触前迷四个零件，使
得钢球的受力状况较差，缩短了钢球的使用寿命。因此，现有才支术尚有待改进和发展。
发明内容
本发明的目的是，在于提供一种防止动涡旋盘自转的滚珠体式装置，
装配零件少，结构简单，利于加工和生产；并可改善滚珠体的受力状况， 延长滚珠体的使用寿命。 本发明的技术方案如下
一种防止动涡旋盘自转的滚珠体式装置，用于装配在涡旋压缩机的前 盖与动涡旋盘之间；其中，所述的滚珠体式装置包括一静止环、 一公转环、 和位于所述静止环与公转环之间的多个滚珠体；所述静止环设置在所述前 盖上，在接触所述滚珠体的静止环表面上设置有平底的上凹槽；所述公转 环设置在所述动涡旋盘上，在接触所述滚珠体的公转环表面上设置有平底 的下凹槽；所述上凹槽和下凹槽用于夹持所述滚珠体活动，以消除所述动 涡旋盘围绕静涡旋盘回转时产生的自转。
所述的滚珠体式装置，其中，所述滚珠体在所述上凹槽内的活动距离， 以及所述滚珠体在所述下凹槽内的活动距离，均超过所述动涡旋盘的回转 直径。
所述的滚珠体式装置，其中，所述上凹槽和下凹槽的形状设置为圓形。
所述的滚珠体式装置，其中，所述上凹槽在所述静止环上均匀等间隔 设置，所述下凹槽在所述公转环上均勻等间隔设置；所述上凹槽的数量等 于所述下凹槽的数量。
所述的滚珠体式装置，其中，在每一所述上凹槽和与其对应的下凹槽 之间适配一个所述滚珠体。
所述的滚珠体式装置，其中，所述上凹槽和下凹槽的内工艺圆角半径
均小于等于所述滚珠体的半径设置。
本发明所提供的一种防止动涡旋盘自转的滚珠体式装置，由于采用了 带平底凹槽的静止环和带平底凹槽的公转环，减少了装配零件的数量，简化了结构，通过模具即可完成对凹槽的加工，保证了加工的质量，大大提
高了生产效率；并充分利用了静止环的大小来增加滚动体的活动范围；并 改善了滚动体的受力状况，延长了滚动体的使用寿命。
图1为现有技术中防止动涡旋盘自转的滚珠体式装置俯视图2为现有技术图1中滚珠体式装置的B-B剖视图3为现有技术图2中滚珠体式装置的局部放大图4为本发明中防止动涡旋盘自转的滚珠体式装置俯视图5为本发明图4中滚珠体式装置的B-B剖视图6为本发明图5中滚珠体式装置的局部放大图。
具体实施例方式
以下将结合附图，对本发明的装置具体实施方式
和实施例加以详细说明。
本发明的一种防止动涡旋盘自转的滚珠体式装置，其具体实施方式
之 一，如附图4至6所示，用于轴向装配在涡旋压缩机的前盖与动涡旋盘之 间，以平衡动涡旋盘的轴向作用力；所述的滚珠体式装置包括一静止环410、 一公转环420、和位于所述静止环410与公转环420之间的多个滚珠体530; 所述静止环410设置在所述前盖上，在接触所述滚珠体530的静止环410 表面上设置有平底的上凹槽511;所述公转环420设置在所述动涡旋盘上， 在接触所述滚珠体530的公转环420表面上设置有平底的下凹槽521;所述 上凹槽和下凹槽用于夹持所述滚珠体530，并通过所述滚珠体530的活动以 消除所述动涡旋盘围绕静涡旋盘回转时产生的自转。至于所述静止环410 如何设置在所述前盖上，以及所述公转环420如何设置在动涡旋盘上，因 并非本发明的改进点，或者类同传统的防止动涡旋盘自转的滚珠体530式装置，故在此不再赘述。
作为本发明的较佳实施例，如附图6所示，所述滚珠体530在所述上 凹槽5U内的活动距离Ll，和所述滚珠体530在所述下凹槽521内的活动 距离Ll,均超过所述动涡旋盘的回转直径2r，即Ll〉2r。在每一所述上凹 槽511和与其对应的下凹槽521之间可适配一个所述滚珠体530，也就是说， 每一所述上凹槽511及其对应的下凹槽521之间设置一个所述滚珠体530; 从而，可将所述动涡旋盘产生的自转作用力，由所述公转盘施加到所述滚 动体上，并通过滚动体的滚动来消除掉使所述动涡旋盘产生自转的作用力。
较好的是，所述上凹槽511和下凹槽521的形状设置为圆形， 一方面 可利用五金模具进行加工，能提高生产效率，另一方面，在批量生产的情 况下有利于凹槽的尺寸精度的稳定，能保证装配质量。
较好的是，所述上凹槽511在所述静止环410上均匀等间隔设置，所 述下凹槽521在所述公转环420上均匀等间隔设置；所述上凹槽511的数 量等于所述下凹槽521的数量。从而可以将所述动涡旋盘的轴向作用力均 勾施加到涡旋压缩才几的前盖上。
需要说明的是，与传统的滚珠体530式防动涡旋盘自转装置相比，由 于与所述滚动体相^^妄触的零件减少为两件，大大改善了所述滚珠体530的 受力状况，减少了与所述滚珠体530的接触面积，延长了所述滚珠体530 的使用寿命。
进一步地，如附图6所示，所述上凹槽511和下凹槽521的内工艺圆 角半径R2均小于等于所述滚珠体530的半径d/2设置，即R2《d/2;在所 述凹槽上与所述滚珠体530相接触的位置处半径R1，可大于等于所述滚珠 体530的半径d/2设置，即Rl》d/2;另外，所述上凹槽511和下凹槽521 的外工艺圓角半径R3均小于等于所述滚珠体530的半径i殳置d/2,即R3 < d/2。从而，进一步改善了所述滚珠体530的受力状况，进一步减少了与所 述滚珠体530的接触面积，进一步延长了所述滚珠体530的使用寿命。应当理解的是，对本领域普通技术人员来说，采用平底凹槽的静止环 和公转环技术，可以根据上述说明加以改进或变换，例如加工的手段不同， 使用的材料不同，以及表面处理工艺不同等，而所有这些改进和变换都本 应属于本发明所附权利要求的保护范围。
权利要求
1、一种防止动涡旋盘自转的滚珠体式装置，用于装配在涡旋压缩机的前盖与动涡旋盘之间；其特征在于，所述的滚珠体式装置包括一静止环、一公转环、和位于所述静止环与公转环之间的多个滚珠体；所述静止环设置在所述前盖上，在接触所述滚珠体的静止环表面上设置有平底的上凹槽；所述公转环设置在所述动涡旋盘上，在接触所述滚珠体的公转环表面上设置有平底的下凹槽；所述上凹槽和下凹槽用于夹持所述滚珠体活动，以消除所述动涡旋盘围绕静涡旋盘回转时产生的自转。
2、 根据权利要求1所述的滚珠体式装置，其特征在于，所述滚珠体在 所述上凹槽内的活动距离，以及所述滚珠体在所述下凹槽内的活动距离， 均超过所述动涡旋盘的回转直径。
3、 根据权利要求1所述的滚珠体式装置，其特征在于，所述上凹槽和 下凹槽的形状设置为圆形。
4、 根据权利要求1所述的滚珠体式装置，其特征在于，所述上凹槽在 所述静止环上均匀等间隔设置，所述下凹槽在所述公转环上均匀等间隔设 置；所述上凹槽的数量等于所述下凹槽的数量。
5、 根据权利要求4所述的滚珠体式装置，其特征在于，在每一所述上 凹槽和与其对应的下凹槽之间适配一个所述滚珠体。
6、 根据权利要求1至5中任一所述的滚珠体式装置，其特征在于，所 述上凹槽和下凹槽的内工艺圆角半径均小于等于所述滚珠体的半径设置。
全文摘要
本发明公开了一种防止动涡旋盘自转的滚珠体式装置，装配在涡旋压缩机的前盖与动涡旋盘之间；该装置包括一静止环、一公转环、和位于静止环与公转环之间的滚珠体；静止环设置在前盖上，在接触滚珠体的静止环表面上设置有平底的上凹槽，公转环设置在动涡旋盘上，在接触滚珠体的公转环表面上设置有平底的下凹槽，用于夹持滚珠体活动，以消除动涡旋盘围绕静涡旋盘回转时产生的自转。由于采用了带平底凹槽的静止环和带平底凹槽的公转环，减少了装配零件的数量，简化了结构，通过模具即可完成对凹槽的加工，保证了加工的质量，大大提高了生产效率；并充分利用了静止环的大小来增加滚动体的活动范围；并改善了滚动体的受力状况，延长了滚动体的使用寿命。
文档编号F04C29/00GK101672282SQ20091019023
公开日2010年3月17日 申请日期2009年9月19日 优先权日2009年9月19日
发明者孙尚传, 童恩东 申请人:大富(深圳)科技有限公司;配天(安徽)机电技术有限公司