专利名称：电解铜箔表面处理机列的功能槽与液下辊密封装置的制作方法
技术领域：
本实用新型属于机械密封装置技术领域，涉及一种电解铜箔表面处理机列的功能
槽与液下辊的动态密封装置。
背景技术：
电解铜箔表面处理机列上的功能槽内循环盛装的电解液为腐蚀性溶液，其渗漏问 题不仅损伤机器，也对生产环境造成污染，尤其是其渗漏出的电解液在环境温度下不可避 免地会形成结晶，极易造成密封件的失效。由于电解铜箔表面处理机列特殊的运行环境，传 统类型的强制性机械密封方法不能彻底解决功能槽与液下辊间的渗漏问题，其安装环境和 所密封的介质也不能很好地保证设备的正常运行。
实用新型内容本实用新型的目的在于克服现有技术存在的不足之处，提供一种结构简单、密封 可靠、不易损坏且维修操作简便的电解铜箔表面处理机列的功能槽与液下辊密封装置。 为实现上述发明目的而采用的技术解决方案是这样的所提供的电解铜箔表面处 理机列的功能槽与液下辊密封装置具有通过螺栓紧固分别连接在电解铜箔表面处理机列 两侧功能槽和液下辊之间的法兰盘，法兰盘外周及内周分别通过橡胶密封件(橡胶法兰密 封垫和氟橡胶密封圈)与功能槽及液下辊密封，在法兰盘外侧延设有套穿在液下辊上的积 液仓，积液仓套穿口与液下辊的辊壁之间通过无骨架J型密封圈密封，在积液仓的顶部和 底部侧壁上分别开有进水口和出水口。 实际工作中，本实用新型对功能槽与液下辊的动态配合部位采用二次密封方式 一是在液下辊表面和功能槽的侧面进行第一次端面密封，依靠功能槽内溶液的压力，使弹 性密封材料氟橡胶密封在随液下辊辊轴转动的同时，紧贴密封构件法兰盘的端面滑动，实 现端面密封，此密封允许因滑动而产生少量的渗漏，渗漏出的溶液通过密封构件法兰盘上 设置积液仓进行收集；由于在积液仓的顶部设计了进水接口 ，给积液仓内的辊轴表面冲水 (45 50°C )，稀释积液仓内收集且附着在液下辊辊轴表面的溶液，可防止渗漏溶液结晶， 之后再将经冲洗稀释了的溶液从积液仓的下部出水口即时地导出引入系统污液装置予以 回收利用；第二次密封是在法兰盘(积液仓)与液下辊的外端配合部位采用无骨架J型密 封圈密封结构，对积液仓内冲洗后沿液下辊辊轴表面附着的水进行轴向阻隔，实现无腐蚀 性介质的轴向密封。另外，本实用新型还在法兰盘上部即第一次端面橡胶密封的顶部开有 通至功能槽内的清洗通水接口，当设备停机排出槽内溶液时，由接口再给端面密封处通水， 清洗端面处的残留铜溶液以防结晶，清洗液由功能槽底部排水口排出。 与现有技术相比，本实用新型通过一次端面密封和一次轴向密封结构设计的两次 密封方法，并结合对一次端面密封的渗漏溶液采用通水稀释清洗的方式，实现了功能槽与 液下辊的动态密封，从而有效解决了功能槽与液下辊间的渗漏问题，具有结构简单合理、制 造成本低、实用性强、维修方便及易于推广等优点。
附图为本实用新型一个具体实施例的结构示意图。 图中各标号名称分别为l-功能槽，2-氟橡胶密封圈，3-橡胶法兰密封垫，4-法 兰盘，4a-清洗通水接口 ， 5-积液仓，5a-进水口 ， 5b_出水口 ， 6_无骨架J型密封圈，7-液下辊。
具体实施方式以下将结合附图对本实用新型内容做进一步说明，但本实用新型的具体实施形式 并不仅限于下述的实施例。 参见附图，本实用新型所述的电解铜箔表面处理机列的功能槽与液下辊密封装置 由设置在功能槽1与液下辊7之间的法兰盘4、氟橡胶密封圈2、橡胶法兰密封垫3、积液仓 5和无骨架J型密封圈6等结构部件组成。法兰盘4与功能槽1连接在一起，运用16个M20 螺栓紧固，在法兰盘4外周与功能槽1的结合面间置设有橡胶法兰密封垫3，其结合面之间 采用橡胶法兰密封垫3密封，该部位无渗漏问题存在，法兰盘4内周与液下辊7间置设有氟 橡胶密封圈2，另外在法兰盘上部开有通至功能槽内的清洗通水接口 4a。带上进水口 5a和 下出水口 5b的积液仓5连接设置在法兰盘4外侧，积液仓5与液下辊7的外端辊壁之间通 过无骨架J型密封圈6密封。本实用新型中的密封构件为独立结构，密封方式为二次动态 密封，一次为氟橡胶端面密封，即依靠槽内溶液的压力对密封件作用，使密封件紧贴密封构 件端面，并随轴转动，形成动态端面密封，另一次为轴向密封，即依靠密封件自身特性不随 轴转动实现轴向密封，并同时在两次密封之间设置有防结晶作用并清洗腐蚀性介质的回收 积液仓5，从而有效解决了功能槽与液下辊间的渗漏问题，保证了设备的正常运行。
权利要求一种电解铜箔表面处理机列的功能槽与液下辊密封装置，其特征是具有通过螺栓紧固分别连接在电解铜箔表面处理机列两侧功能槽(1)和液下辊(7)之间的法兰盘(4)，法兰盘(4)外周及内周分别通过橡胶密封件与功能槽(1)及液下辊(7)密封，在法兰盘(4)外侧延设有套穿在液下辊(7)上的积液仓(5)，积液仓(5)套穿口与液下辊(7)的辊壁之间通过无骨架J型密封圈(6)密封，在积液仓(5)的顶部和底部侧壁上分别开有进水口(5a)和出水口(5b)。
2. 根据权利要求1所述的电解铜箔表面处理机列的功能槽与液下辊密封装置，其特征 是在法兰盘(4)外周与功能槽(1)的结合面间置设有橡胶法兰密封垫(3)，在法兰盘(4)内 周与液下辊(7)间置设有氟橡胶密封圈(2)。
3. 根据权利要求1所述的电解铜箔表面处理机列的功能槽与液下辊密封装置，其特征 是在法兰盘(4)上部开有通至功能槽(1)内的清洗通水接口 (4a)。
专利摘要本实用新型涉及一种电解铜箔表面处理机列的功能槽与液下辊密封装置，具有通过螺栓紧固分别连接在电解铜箔表面处理机列两侧功能槽和液下辊之间的法兰盘，法兰盘外周及内周分别通过橡胶密封件与功能槽及液下辊密封，在法兰盘外侧延设有套穿在液下辊上的积液仓，积液仓套穿口与液下辊的辊壁之间通过无骨架J型密封圈密封，在积液仓的顶部和底部侧壁上分别开有进水口和出水口。该装置工作中通过一次端面密封和一次轴向密封的两次密封方法，并结合对一次端面密封的渗漏溶液采用通水稀释清洗的方式，实现了功能槽与液下辊的动态密封，有效解决了功能槽与液下辊间的渗漏问题，具有结构简单合理、制造成本低、实用性强、维修方便等优点。
文档编号F16J15/16GK201448438SQ200920034149
公开日2010年5月5日 申请日期2009年8月7日 优先权日2009年8月7日
发明者刘建明, 刘萌疆, 穆应琪, 苏政委 申请人:西安蓝涛光机电设备有限责任公司