专利名称：花洒的出水控制机构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种花洒的出水控制机构。
背景技术：
专利号为200610049163. 4的中国发明专利提供了一种可实现在花洒上实现不同出水效果的淋浴喷头(即花洒)的出水控制机构，包括位于花洒头内的内密封壳、活动密封垫、压簧、受控磁铁，内密封壳上具有内凹的滑槽，受控磁铁位于滑槽内，活动密封垫固定在受控磁铁的上端，压簧位于滑槽的底面和受控磁铁之间，其通过主动磁铁和受控磁铁的相互作用来实现出水的转换。其还存在的缺点在于，在实际使用中磁铁长期被水腐蚀，不但影响磁铁寿命，还会影响水质，对人体健康造成危害。基于上述理由，专利号为201020576074. 7的实用新型专利提供了一种花洒的出水控制机构，其包括一阀芯，阀芯设有内凹嵌，受控磁铁于内凹嵌槽内并用密封圈密封。其还存在的缺点在于即使设置了密封圈，也难以实现完美密封，从而受控磁铁还是有被水侵 蚀的可能。
发明内容为了克服现有花洒的出水控制机构的上述不足，本实用新型提供一种受控磁铁受到的保护更严密的花洒的出水控制机构。本实用新型解决其技术问题的技术方案是花洒的出水控制机构，包括位于花洒头内的内密封壳、活动密封垫、压簧、受控磁铁，所述内密封壳上具有内凹的滑槽，还包括上塑料套和下塑料套，所述的上塑料套具有开口向下的上套口，所述的下塑料套具有开口向上的与所述的上套口相适配的下套口，所述的上塑料套和下塑料套对合后所述的上套口和下套口围成容纳腔，所述的受控磁铁设于所述的容纳腔内，所述的活动密封垫设于所述上塑料套的上端；所述的上塑料套和下塑料套对合后超声波焊接；所述的压簧设于所述的下塑料套的底面和所述滑槽的底面之间。进一步，所述上塑料套的上端设有蘑菇状的套件，所述的活动密封垫套设在所述的套件上。或者所述上塑料套的上端面上设有插块；还包括一连接片，所述的活动密封垫设于所述连接片的上端面上，所述连接片的下端面上设有与所述的插块适配的插口，所述的插块插入所述的插口内。进一步，所述滑槽的底面上设有两个竖槽，所述的压簧置于所述的竖槽内。本实用新型的使用方法与原理与现有的花洒的出水控制机构的使用方法及原理相同。本实用新型的有益效果在于通过上塑料套和下塑料套的超声波焊接将受控磁铁密封，从而确保受控磁铁的密闭，可达到受控磁铁完全不会被水侵蚀的目的。
图I是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施方式
对本实用新型作进一步详细说明。参照图1，花洒的出水控制机构，包括位于花洒头内的内密封壳、活动密封垫I、压簧2、受控磁铁3，所述内密封壳上具有内凹的滑槽4，还包括上塑料套5和下塑料套6，所述的上塑料套5具有开口向下的上套口，所述的下塑料套6具有开口向上的与所述的上套口相适配的下套口，所述的上塑料套5和下塑料套6对合后所述的上套口和下套口围成容纳腔，所述的受控磁铁3设于所述的容纳腔内，所述的活动密封垫I设于所述上塑料套5的上端。所述的上塑料套5和下塑料套6对合后超声波焊接。所述的压簧2设于所述的下塑料套6的底面和所述滑槽4的底面之间。本实施例中所述滑槽4的底面上设有两个竖槽7，所述的压簧2置于所述的竖槽7内。活动密封垫I设于所述上塑料套5的上端的方式可以有很多种，本实施例中采用如下方式所述上塑料套5的上端面上设有插块8 ;还包括一连接片9，所述的活动密封垫I设于所述连接片9的上端面上，所述连接片9的下端面上设有与所述的插块8适配的插口10，所述的插块8插入所述的插口 10内。当然还可以采用其他方式，例如上塑料套的上端设有蘑菇状的套件，所述的活动密封垫套设在所述的套件上。本实用新型的使用方法与原理与现有的花洒的出水控制机构的使用方法及原理相同，在此不再赘述。本实用新型通过上塑料套5和下塑料套6的超声波焊接来将受控磁铁3密封，从而确保受控磁铁3的密闭，可达到受控磁铁3完全不会被水侵蚀的目的。
权利要求1.花洒的出水控制机构，包括位于花洒头内的内密封壳、活动密封垫、压簧、受控磁铁，所述内密封壳上具有内凹的滑槽，其特征在于还包括上塑料套和下塑料套，所述的上塑料套具有开口向下的上套口，所述的下塑料套具有开口向上的与所述的上套口相适配的下套口，所述的上塑料套和下塑料套对合后所述的上套口和下套口围成容纳腔，所述的受控磁铁设于所述的容纳腔内，所述的活动密封垫设于所述上塑料套的上端； 所述的上塑料套和下塑料套对合后超声波焊接； 所述的压簧设于所述的下塑料套的底面和所述滑槽的底面之间。
2.如权利要求I所述的花洒的出水控制机构，其特征在于所述上塑料套的上端设有蘑菇状的套件，所述的活动密封垫套设在所述的套件上。
3.如权利要求I所述的花洒的出水控制机构，其特征在于所述上塑料套的上端面上设有插块；还包括一连接片，所述的活动密封垫设于所述连接片的上端面上，所述连接片的下端面上设有与所述的插块适配的插口，所述的插块插入所述的插口内。
4.如权利要求I 3之一所述的花洒的出水控制机构，其特征在于所述滑槽的底面上设有两个竖槽，所述的压簧置于所述的竖槽内。
专利摘要花洒的出水控制机构，包括位于花洒头内的内密封壳、活动密封垫、压簧、受控磁铁，内密封壳上具有内凹的滑槽，还包括上塑料套和下塑料套，上塑料套具有开口向下的上套口，下塑料套具有开口向上的与上套口相适配的下套口，上塑料套和下塑料套对合后上套口和下套口围成容纳腔，受控磁铁设于容纳腔内，活动密封垫设于上塑料套的上端；上塑料套和下塑料套对合后超声波焊接；压簧设于下塑料套的底面和滑槽的底面之间。本实用新型通过上塑料套和下塑料套的超声波焊接将受控磁铁密封，从而确保受控磁铁的密闭，可达到受控磁铁完全不会被水侵蚀的目的。
文档编号F16J15/53GK202590995SQ201220262820
公开日2012年12月12日 申请日期2012年5月23日 优先权日2012年5月23日
发明者宣国建 申请人:宣国建