加强型高性能齿型联组带的制作方法

本发明涉及传动技术领域，具体涉及一种加强型高性能齿型联组带。

背景技术：

联组带是由多根相同带型的V带顶部联成一体的V带组，既有一定的弹性和强度，可以和多个轮槽进行配合，又能使各V带受力均匀。联组带主要用于大型汽车、火车、矿山机械、工程机械以及农业机械等大功率的传动设备上，在运行过程中可防止带的抖动、拍击、翻带和掉带。

目前常用的齿型联组带以氯丁胶为主料，以高强度聚酯硬线为骨架，其结构如图1所示，包括若干V带和将V带联接在一起的联接层，该联接层自上而下依次包括顶布1、顶胶2、缓冲胶3、顺向抗拉体4和缓冲胶3，联接层通过缓冲胶与成型成V带的底胶5联接，底胶的下部设有底布6。由于该类型的联组带缺少有效的横向抗拉体，在高负荷产生的震动和摩擦下，会产生变形、各V带分层、分裂的缺陷，导致联组带受力不匀，摩擦力加大，进而导致联组带出现打滑现象，使得传动率降低或传动失效。

技术实现要素：

本发明要解决的技术问题是提供一种加强型高性能齿型联组带，以解决现有技术缺少横向抗拉体导致的相应技术缺陷。

为了解决上述技术问题，本发明提供的技术方案如下：一种加强型高性能齿型联组带，包括若干并排设置的V带以及将若干V带顶部联接成一体的联接层，V带由底胶成型而成，V带的底部设有底布，所述底胶中添加有芳纶短纤维，所述联接层自上而下依次包括：

顶布层，该顶布层由至少三层浸胶或擦胶的涤棉布构成；

横向抗拉体层，该横向抗拉体层由擦胶聚酯帘子线构成；

顶胶层，该顶胶层的上侧与横向抗拉体层联接；

顺向抗拉体层，该顺向抗拉体层由高强度聚酯硬线构成；

缓冲胶层，所述顶布层与横向抗拉体层之间、顶胶层与顺向抗拉体层之间以及顺向抗拉体层与底胶之间均设有缓冲胶层。

进一步的，所述涤棉布由40%的涤纶和60%的棉混纺而成。

进一步的，所述底布由工业浸胶弹力布构成。

进一步的，所述缓冲胶层的厚度为0.4-0.6mm。

进一步的，所述缓冲胶层的厚度为0.5mm。

上述结构的加强型高性能齿型联组带，与现有技术相比，具有以下技术优势：

（1）在底胶中添加芳纶短纤维，可以有效降低V带在高功率运行过程中的摩擦力，提升传动效率，防止打滑，同时降低了摩擦过程中产生的噪音；

（2）通过顶胶层和缓冲胶层在联接层中有效结合了横向抗拉体层，有效增强了联组带的横向抗拉力，防止因横向拉力产生的变形、分层与分裂现象，进而提升联组带的使用寿命；

（3）顺向抗拉体层上下两侧均设置缓冲胶层，不仅起到粘接顶胶层和底胶的作用，还起到在运行过程中缓冲保护顺向抗拉体层的作用，尤其在启动负载电机过程中，由于启动力矩较大，震动与冲击也较大，缓冲胶层可以有效保护顺向抗拉体层不受损伤。

附图说明

图1为现有技术中联组带的结构示意图；

图2为本实施例一种加强型高性能齿型联组带的结构示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

如图2所示，本实施例的一种加强型高性能齿型联组带，包括若干并排设置的V带以及将若干V带顶部联接成一体的联接层，其中V带由底胶5成型而成，V带的底部设有底布6。作为优选，本实施例的底布6由工业浸胶弹力布构成，防止V带的带齿龟裂。

作为本实施例的改进，联接层自上而下依次包括顶布层1、缓冲胶层3、横向抗拉体层7、顶胶层2、缓冲胶层3、顺向抗拉体层4以及缓冲胶层3，其中V带通过最下层的缓冲胶层3与联接层联接。其中顶布层1由至少三层浸胶或擦胶的涤棉布构成，涤棉布由40%的涤纶和60%的棉混纺而成。横向抗拉体层7由擦胶聚酯帘子线构成，顺向抗拉体层4由高强度聚酯硬线构成。上述结构的加强型高性能齿型联组带，通过顶胶层和缓冲胶层在联接层中有效结合了横向抗拉体层，有效增强了联组带的横向抗拉力，防止因横向拉力产生的变形、分层与分裂现象，从而有效提升了联组带的使用寿命。

进一步的，本实施例的缓冲胶层的厚度为0.4-0.6mm，优选为0.5mm。其中顶布层与横向抗拉体层之间的缓冲胶层主要起到粘接顶布层与横向抗拉体层的作用，而顺向抗拉体层上下两侧的缓冲胶层，不仅起到粘接顶胶层和底胶的作用，还起到在运行过程中缓冲保护顺向抗拉体层的作用，尤其在启动负载电机过程中，由于启动力矩较大，震动与冲击也较大，缓冲胶层可以有效保护顺向抗拉体层不受损伤。

进一步的，本实施例的底胶中添加有芳纶短纤维。由于联组带依托于底胶的胶面进行传动工作，胶面的质量决定着联组带的使用寿命。通过在底胶中添加芳纶短纤维，可以有效降低V带在高功率运行过程中的摩擦力，提升传动效率，防止打滑，同时降低了摩擦过程中产生的噪音。

总之，以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。