一种流动传动结构体机构的制作方法

本发明涉及动力与传动领域，尤其涉及流动传动结构体机构。

背景技术：

流体传动包括流体静压传动和流体动压传动，其工质均为气体或液体，如果能够发明一种能够有效地利用流动传动结构体传动的机构将有效提高传动效率，并降低这类传动机构的造价。因此，需要发明一种新型流体传动机构。

技术实现要素：

为了解决上述问题，本发明提出的技术方案如下：

本发明的流动传动结构体机构，包括螺旋轮和通道体，所述螺旋轮设置在所述通道体外，在所述通道体上设置开口，所述螺旋轮与所述开口配合设置。

进一步可选择地，所述螺旋轮旋转驱动所述通道体内的流动传动结构体移动。

进一步可选择地，所述通道体内的流动传动结构体移动推动所述螺旋轮旋转。

本发明的流动传动结构体机构，包括螺旋轮、附属旋转轮和通道体，所述螺旋轮设置在所述通道体外，在所述通道体上设置开口，与所述开口对应设置附属开口，所述螺旋轮与所述开口配合设置，所述附属旋转轮与所述附属开口配合设置。

进一步可选择地，所述螺旋轮旋转驱动所述通道体内的流动传动结构体移动，所述流动传动结构体带动所述附属旋转轮旋转减少摩擦损失。

进一步可选择地，所述通道体内的流动传动结构体移动推动所述螺旋轮旋转，且带动所述附属旋转轮旋转减少摩擦损失。

本发明的流动传动结构体机构，包括螺旋轮、附属螺旋轮和通道体，所述螺旋轮设置在所述通道体外，在所述通道体上设置开口，与所述开口对应设置附属开口，所述螺旋轮与所述开口配合设置，所述附属螺旋轮与所述附属开口配合设置。

进一步可选择地，所述螺旋轮旋转驱动所述通道体内的流动传动结构体移动，所述流动传动结构体带动所述附属螺旋轮旋转减少摩擦损失。

进一步可选择地，所述通道体内的流动传动结构体移动推动所述螺旋轮旋转，且带动所述附属螺旋轮旋转减少摩擦损失。

本发明中，在某一部件名称前加所谓的“附属”仅是为了区分两个名称相同的部件。

本发明中，应根据热能和动力领域的公知技术，在必要的地方设置必要的部件、单元或系统等。

本发明的有益效果如下:

本发明的所述流动传动结构体机构利用可以流动的固体或充有流体的腔体进行传动，大大提高了传动效率，并降低了这类传动机构的造价。

附图说明

图1：本发明实施例1的结构示意图；

图2：本发明实施例2的结构示意图；

图3：本发明实施例3的结构示意图。

具体实施方式

实施例1

一种流动传动结构体机构，如图1所示，包括螺旋轮1和通道体2，所述螺旋轮1设置在所述通道体2外，在所述通道体2上设置开口，所述螺旋轮1与所述开口配合设置，所述螺旋轮1旋转驱动所述通道体2内的流动传动结构体3移动。

作为可变换的实施方式，本发明实施例1还可选择性地使所述通道体2内的流动传动结构体3移动推动所述螺旋轮1旋转。

实施例2

一种流动传动结构体机构，如图2所示，包括螺旋轮1、附属旋转轮4和通道体2，所述螺旋轮1设置在所述通道体2外，在所述通道体2上设置开口，与所述开口对应设置附属开口，所述螺旋轮1与所述开口配合设置，所述附属旋转轮4与所述附属开口配合设置，所述螺旋轮1旋转驱动所述通道体2内的流动传动结构体移动，所述流动传动结构体3带动所述附属旋转轮4旋转减少摩擦损失。

作为可变换的实施方式，本发明实施例2还可选择性地选择使所述通道体2内的流动传动结构体3移动推动所述螺旋轮1旋转，且带动所述附属旋转轮4旋转减少摩擦损失。

实施例3

一种流动传动结构体机构，如图3所示，包括螺旋轮1、附属螺旋轮5和通道体2，所述螺旋轮1设置在所述通道体2外，在所述通道体2上设置开口，与所述开口对应设置附属开口，所述螺旋轮1与所述开口配合设置，所述附属螺旋轮5与所述附属开口配合设置，所述螺旋轮1旋转驱动所述通道体2内的流动传动结构体3移动，所述流动传动结构体3带动所述附属螺旋轮5旋转减少摩擦损失。

作为可变换的实施方式，本发明实施例3还可选择性地使所述通道体2内的流动传动结构体3移动推动所述螺旋轮1旋转，且带动所述附属螺旋轮5旋转减少摩擦损失。

作为可变换的实施方式，本发明实施例1至实施例3及其可变换的实施方式均可进一步选择性地选择使所述流动传动结构体3设为球体；还可进一步选择性地选择在所述球体表面上设置凹陷结构，或使所述球体设为多平面球缺，或使所述球体包括核心球体和附属球体，所述核心球体和所述附属球体镶嵌设置，所述核心球体的直径大于所述附属球体的直径或所述核心球体的直径小于所述附属球体的直径，或使所述球体包括核心球体和传动结构体，所述传动结构体与所述核心球体连接设置。

作为可变换的实施方式，本发明实施例1至实施例3及其可变换的实施方式均可进一步选择性地选择使所述通道体2设为包括直线通道和/或曲线通道的通道体。

显然，本发明不限于以上实施例，根据本领域的公知技术和本发明所公开的技术方案，可以推导出或联想出许多变型方案，所有这些变型方案，也应认为是本发明的保护范围。