一种pecvd设备用螺套结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及螺套，尤其涉及用于PECVD(Plasma Enhanced Chemical VaporDeposit1n,等离子体增强化学气相沉积法)设备的螺套结构。
【背景技术】
[0002]在PLC(可编程控制器件)晶圆生产中，PECVD设备的应用作为第一道也是最重要的一道工序，生长core exposit1n (核心沉积)。但因为PECVD属于高温真空设备，保养前后降温升温，设备中的金属螺丝热胀冷缩极容易产生chamber leak(室漏气)，不能使腔体长久保持真空环境，所以每次保养完都要再次拧紧螺丝。长此以往，设备使用过程中出现的螺纹溃牙、螺套突出螺纹槽极易产生chamber leak。如图1所示，PECVD铝制腔体底部钢丝螺套100很紧密地嵌套在螺纹槽200里，经常保养降温升温后，再重新拧紧螺丝出现钢丝螺纹螺套滑牙和突出螺纹槽，使腔体不能保持真空环境。因此，通过设计合适的螺套结构，以长久保持腔体的真空环境，是本领域技术人员需要解决的问题。
【发明内容】
[0003]本实用新型的目的在于提供一种PECVD设备用螺套结构，增加铝制螺纹强度承受更大拉力，长久保持腔体密封真空环境。
[0004]实现上述目的的技术方案是:
[0005]一种PECVD设备用螺套结构，包括:
[0006]开设在PECVD设备腔体底部的螺纹槽；以及
[0007]槽口向下地拧入所述螺纹槽的自攻螺套。
[0008]在上述的PECVD设备用螺套结构中，所述自攻螺套为不锈钢材质。
[0009]在上述的PECVD设备用螺套结构中，所述自攻螺套的型号为M6*l*12mm，外螺纹M9*lmm0
[0010]本实用新型的有益效果是:本实用新型通过采用不锈钢自攻螺套，使其与铝制腔体及螺丝接触面更大且无间隙，承受更大拉力，从而能长久使用相同的螺丝，长久保持腔体密封真空环境和提高生产效率。
【附图说明】
[0011]图1是现有技术的PECVD腔体底部的钢丝螺套结构图；
[0012]图2是本实用新型的PECVD设备用螺套结构的结构图；
[0013]图3是本实用新型中自攻螺套拧入螺纹槽的状态图。
【具体实施方式】
[0014]下面将结合附图对本实用新型作进一步说明。
[0015]请参阅图2，本实用新型的PECVD设备用螺套结构，包括:螺纹槽I和自攻螺套2。螺纹槽I开设在PECVD设备腔体3底部，自攻螺套2槽口向下地拧入螺纹槽I。本实施例中，自攻螺套2为不锈钢材质，其型号为M6*l*12mm，外螺纹M9*lmm。
[0016]本实用新型将现有技术中的钢丝螺纹螺套换成不锈钢自攻螺套。请参阅图3，自攻螺套2通过锁入工具4拧入PECVD设备腔体3的螺纹槽I。这样，即使经常需要保养降温升温，自攻螺套2也会和PECVD设备腔体3紧密贴合，长久保持腔体的真空环境。
[0017]以上实施例仅供说明本实用新型之用，而非对本实用新型的限制，有关技术领域的技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下，还可以作出各种变换或变型，因此所有等同的技术方案也应该属于本实用新型的范畴，应由各权利要求所限定。
【主权项】
1.一种PECVD设备用螺套结构，其特征在于，包括: 开设在PECVD设备腔体底部的螺纹槽；以及 槽口向下地拧入所述螺纹槽的自攻螺套。2.根据权利要求1所述的PECVD设备用螺套结构，其特征在于，所述自攻螺套为不锈钢材质。3.根据权利要求1所述的PECVD设备用螺套结构，其特征在于，所述自攻螺套的型号为M6*1*12mm,外螺纹 M9*lmm。
【专利摘要】本实用新型公开了一种PECVD设备用螺套结构，包括：开设在PECVD设备腔体底部的螺纹槽，以及槽口向下地拧入所述螺纹槽的自攻螺套，所述自攻螺套为不锈钢材质。本实用新型通过采用不锈钢自攻螺套，使其与铝制腔体及螺丝接触面更大且无间隙，承受更大拉力，从而能长久使用相同的螺丝，长久保持腔体密封真空环境和提高生产效率。
【IPC分类】F16B37/12
【公开号】CN204664114
【申请号】CN201520353562
【发明人】黄惠良, 赵继鸿, 李雪峰, 夏国帅
【申请人】上海鸿辉光通科技股份有限公司
【公开日】2015年9月23日
【申请日】2015年5月28日