高压密封填料结构的制作方法

文档序号:10764956阅读:554来源:国知局
高压密封填料结构的制作方法
【专利摘要】本实用新型涉及阀门密封技术领域,尤其是一种高压密封填料结构,包括上衬垫和下衬垫,上衬垫和下衬垫之间从上至下依次设置有若干组填料单元,相邻两组填料单元之间设置有均压环,均压环具有两个面对填料单元的均压环接触面,填料单元具有面对均压环的填料单元接触面,均压环接触面与填料单元接触面相匹配,均压环接触面由外至内向上倾斜,本实用新型的高压密封填料结构在填料单元之间增设均压环,使得填料单元被压紧的均实,均压环还可以分解对填料单元的压紧力,来增加填料单元的轴向密封力,从而获得更好的密封效果,由于每组填料单元压紧的都较为均实,因此在下端填料单元失效时,上端填料单元还可以很好的密封。
【专利说明】
高压密封填料结构
技术领域
[0001]本实用新型涉及阀门密封技术领域,尤其是一种高压密封填料结构。
【背景技术】
[0002]填料是动密封的填充材料,密封填料是阀门密封的关键部位之一,阀杆在动作时处于动密封状态,当阀门处于工作状态时,阀杆又处于静密封状态,所以阀门填料密封要求非常严格,想要达到良好的密封效果,必须要结合介质工况,现有的高压密封填料多采用平环叠加式填料密封结构,阀门在高压工况下,正常的平环型密封填料和V型四氟填料都无法满足其密封要求,现有的阀门填料腔内为从上之下依次叠加的方式填充填料,在填料的最上方盖有填料压板,这种结构存在缺陷是位于下层的填料比较松,位于上层的填料比较紧,在高压工况下容易出现泄漏。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型要解决的技术问题是:为了解决现有技术中的平环叠加式密封填料结构密封效果差的问题,现提供一种高压密封填料结构,该密封填料结构可以使密封填料在填料腔中压紧的较为均匀,且增加填料的轴向密封力,来满足阀门在高压工况下有更好的密封效果。
[0004]本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种高压密封填料结构,包括上衬垫和下衬垫,所述上衬垫和下衬垫之间从上至下依次设置有若干组填料单元,相邻两组填料单元之间设置有均压环,所述均压环具有两个面对填料单元的均压环接触面,所述填料单元具有面对均压环的填料单元接触面,所述均压环接触面与所述填料单元接触面相匹配,所述均压环接触面由外至内向上倾斜。
[0005]本方案中填料单元与均压环的接触面由外至内向上倾斜,因此,在填料单元受到与阀杆轴线平行的压紧力时,可以将其分成具有一个朝向阀杆的分力,这个分力会迫使填料单元抱紧阀杆,而均压环可以使每组填料单元压紧的较为均一,从而使填料获得更好的密封效果。
[0006]由于纯粹的密封填料之间的叠加容易出现上层紧,下层松的现象,进一步地,所述均压环为金属件,选用硬度大于填料单元的金属件,通过金属材质的均压环使填料单元压紧的较为均匀,以此增加密封效果。
[0007]进一步地,所述均压环的内圈壁上开设有内圈均压槽,随着阀门的长时间运转,内圈均压槽可以将阀杆上的污垢清除、收集,减少阀杆与填料单元之间的摩擦,内圈均压槽还可以有效降低阀门的内压,高压介质通过内圈均压槽时,由于介质的运动行程增加,从而可以起到一定的降低阀门内压的作用,降压原理通过增加介质的行程来达到降压的目的。
[0008]进一步地,所述均压环的外圈壁上开设有外圈均压槽,高压介质通过外圈均压槽时,由于介质的运动行程增加,从而可以起到一定的降低阀门内压的作用,降压原理通过增加介质的行程来达到降压的目的。[0009 ] 优选地,所述均压环接触面为圆锥面。
[0010]进一步地,每组所述填料单元由两层填料层叠加组成,所述填料单元接触面分别为每组填料单元中位于上层填料层的上表面和位于下层填料层的下表面。
[0011]进一步地,所述上衬垫的下表面与填料单元中位于上层填料层的上表面相匹配。
[0012]进一步地,所述下衬垫的下表面与填料单元中位于下层填料层的下表面相匹配。
[0013]优选地,每组所述填料单元中位于上层填料层的上表面至位于下层填料层的下表面之间的最短距离为LI,所述述均压环的两个均压环接触面之间的最短距离为L2,所述LI等于两倍的L2。
[0014]本实用新型的有益效果是:本实用新型的高压密封填料结构在填料单元之间增设均压环,使得填料单元被压紧的均实,均压环还可以分解对填料单元的压紧力,来增加填料单元的轴向密封力,从而获得更好的密封效果,由于每组填料单元压紧的都较为均实,因此在下端填料单元失效时,上端填料单元还可以很好的密封,本实用新型可以满足填料在高压工况下有更好的密封效果,有效地提高了高压阀门的密封性能及阀门阀杆运行的平稳性會K。
【附图说明】
[0015]下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
[0016]图1是本实用新型高压密封填料结构示意图;
[0017]图2是本实用新型高压密封填料结构中均压环的示意图;
[0018]图3是本实用新型高压密封填料结构中填料单元的示意图;
[0019]图4是本实用新型高压密封填料结构应用在阀门上的示意图。
[°02°]图中:1、上衬垫,2、下衬垫,3、填料单元,301、填料层,4、均压环,401、内圈均压槽,402、外圈均压槽,5、上阀盖,6、填料压盖;
[0021]L1:每组填料单元中位于上层填料层的上表面至位于下层填料层的下表面之间的最短距离;
[0022]L2:均压环的两个均压环接触面之间的最短距离。
【具体实施方式】
[0023]现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图,仅以示意方式说明本实用新型的基本结构,因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
[0024]实施例1
[0025]如图1所示,一种高压密封填料结构,包括上衬垫I和下衬垫2,所述上衬垫I和下衬垫2之间从上至下依次设置有若干组填料单元3,相邻两组填料单元3之间设置有均压环4,所述均压环4具有两个面对填料单元3的均压环接触面,所述填料单元3具有面对均压环4的填料单元接触面,所述均压环接触面与所述填料单元接触面相匹配,所述均压环接触面由外至内向上倾斜,所述均压环接触面为圆锥面,所述均压环4为金属件,选用硬度大于填料单元3的金属件,通过金属材质的均压环4使填料单元3压紧的较为均匀,以此增加密封效果O
[0026]如图2所示,所述均压环4的内圈壁上开设有内圈均压槽401,所述均压环4的外圈壁上开设有外圈均压槽402。
[0027]如图3所示,每组所述填料单元3由两层填料层301叠加组成,所述填料单元接触面分别为每组填料单元3中位于上层填料层301的上表面和位于下层填料层301的下表面,所述上衬垫I的下表面与填料单元3中位于上层填料层301的上表面相匹配,所述下衬垫2的下表面与填料单元3中位于下层填料层301的下表面相匹配。
[0028]如图3所示,每组所述填料单元3中位于上层填料层301的上表面至位于下层填料层301的下表面之间的最短距离为LI,所述述均压环4的两个均压环接触面之间的最短距离为L2,所述LI等于两倍的L2,每组填料单元3的厚度一致,可以使每组填料单元3被压紧的松紧度一致。
[0029]以上述高压密封填料结构应用于阀门上来阐述本实用新型的原理:
[0030]如图4所示,阀门的上阀盖5上具有填料腔,在填料腔中放置下衬垫2,然后在下衬垫2上沿阀杆的轴线方向交替设置填料单元3和均压环4,接着在顶端的填料单元3上方放置上衬垫I,在上衬垫I的上方压紧有填料压盖6,位于填料腔顶端的填料单元3由上衬垫I与其下方的均压环4压紧,位于填料腔底端的填料单元3由下衬垫2与其上方的均压环4压紧,其余的填料单元3由相邻的两个均压环4压紧,因此,每组填料单元3在填料腔中被压紧的均较为均勾,且上衬垫I与填料单元3、填上衬垫I与均压环4、填料单元3与均压环4之间的接触面均为圆锥面,可以分解填料压盖6对填料单元3的压紧力,使得填料单元3具有朝向阀杆的分力将阀杆抱紧,从而使填料单元3获得更好的密封效果。
[0031]上述依据本实用新型的理想实施例为启示,通过上述的说明内容,相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内,进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容,必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。
【主权项】
1.一种高压密封填料结构,其特征在于:包括上衬垫(I)和下衬垫(2),所述上衬垫(I)和下衬垫(2)之间从上至下依次设置有若干组填料单元(3),相邻两组填料单元(3)之间设置有均压环(4),所述均压环(4)具有两个面对填料单元(3)的均压环接触面,所述填料单元(3)具有面对均压环(4)的填料单元接触面,所述均压环接触面与所述填料单元接触面相匹配,所述均压环接触面由外至内向上倾斜。2.根据权利要求1所述的高压密封填料结构,其特征在于:所述均压环(4)为金属件。3.根据权利要求1所述的高压密封填料结构,其特征在于:所述均压环(4)的内圈壁上开设有内圈均压槽(401)。4.根据权利要求1所述的高压密封填料结构,其特征在于:所述均压环(4)的外圈壁上开设有外圈均压槽(402)。5.根据权利要求1所述的高压密封填料结构,其特征在于:所述均压环接触面为圆锥面。6.根据权利要求1所述的高压密封填料结构,其特征在于:每组所述填料单元(3)由两层填料层(301)叠加组成,所述填料单元接触面分别为每组填料单元(3)中位于上层填料层(301)的上表面和位于下层填料层(301)的下表面。7.根据权利要求6所述的高压密封填料结构,其特征在于:所述上衬垫(I)的下表面与填料单元(3)中位于上层填料层(301)的上表面相匹配。8.根据权利要求6所述的高压密封填料结构,其特征在于:所述下衬垫(2)的下表面与填料单元(3)中位于下层填料层(301)的下表面相匹配。9.根据权利要求8所述的高压密封填料结构,其特征在于:每组所述填料单元(3)中位于上层填料层(301)的上表面至位于下层填料层(301)的下表面之间的最短距离为LI,所述述均压环(4)的两个均压环接触面之间的最短距离为L2,所述LI等于两倍的L2。
【文档编号】F16K41/02GK205446910SQ201620128199
【公开日】2016年8月10日
【申请日】2016年2月19日
【发明人】马玉山, 常占东, 苏海霞, 李虎生, 刘少波, 贾华
【申请人】吴忠仪表有限责任公司
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