专利名称：一种用于x射线衍射仪的全反射平行光狭缝的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种用于X射线衍射仪的全反射平行光狭缝。
背景技术：
X射线衍射仪作为物质结构分析的仪器在物理、化学、化工、地质、矿物、冶金、建材、陶瓷、高分子材料、药物、医学、农业...等许多领域里得到广泛的应用。常规X射线衍射仪使用线焦点的X射线源，采用聚焦光路，但是，在某些情况下，采用平行光路将有独特的优点。平行光路的几何，要求入射到样品表面的射线束为一平行射线束。为了获得一束一维准平行的射线束，如图1所示，已有的方法是用两组与源焦线平行的有一定距离的宽度很小的狭缝1、2可以从出射的发散的X射线束中截取得一窄束的准平行的射线束(忽略射线束在狭缝长度方向上的发散)。但是，这种传统的简单的方法，狭缝1、2必须很窄，限制了照射到样品的入射线束的总强度。
实用新型内容针对上述存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种用于X射线衍射仪的全反射平行光狭缝，在X射线衍射仪的出射光路上可以获得较宽的准平行的射线束，从而大大提高了入射到样品的射线束的总强度。
为实现上述目的，本实用新型一种用于X衍射仪的全反射平行光狭缝为对称设置在X射线出射光路上的两片长度适当的反光板，所述反光板的反光面具有适当的几何弯曲形状。
进一步地，所述适当几何弯曲形状为抛物柱面，所述X射线的光源位于该抛物柱面的焦点上。
进一步地，所述两片反光板反光面上还涂有反光材料。
本实用新型由于在X射线源出射光路上设置两片具有适当形状的反光板构成一个有壁狭缝，因此可以获得较宽的准平行的射线束，从而大大提高了入射到样品的射线束的总强度，能够有效地增强衍射线的强度。
图1为传统的双狭缝平行光路的示意图；图2为本实用新型的狭缝的原理图——垂直射线源的焦线的剖面图。
具体实施方式
如图2所示，本实用新型为在X射线出射光路上对称设置有两片长度适当的反光板4、5，反光板4、5的反光面具有适当的几何弯曲形状，该适当几何弯曲形状为抛物柱面，X射线的光源3位于该抛物柱面的焦点上，为了增强反射效果，反光板4、5反光面上还涂有反光材料，比如可以镀上一层金。
权利要求1.一种用于X射线衍射仪的全反射平行光狭缝，其特征在于，该狭缝为对称设置在X射线出射光路上的两片长度适当的反光板，所述反光板的反光面具有适当的几何弯曲形状。
2.根据权利要求1所述的一种用于X射线衍射仪的全反射平行光狭缝，其特征在于，所述适当几何弯曲形状为抛物柱面，X射线的光源位于该抛物线的焦点上。
3.根据权利要求1或2所述的一种用于X射线衍射仪的全反射平行光狭缝，其特征在于，所述两片反光板反光面上还涂有反光材料。
专利摘要本实用新型公开了一种用于X射线衍射仪的全反射平行光狭缝，该狭缝为在X射线出射光路上对称设置有两片长度适当的反光板，所述反光板的相对面延光路为适当几何弯曲形状。本实用新型由于在X射线源出射光路上设置两片具有适当形状的反光板构成一个有壁狭缝，因此可以获得较宽的准平行的射线束，从而大大提高了入射到样品的射线束的总强度，能够有效地增强衍射线的强度。
文档编号G01N23/20GK2844957SQ20052012212
公开日2006年12月6日 申请日期2005年9月27日 优先权日2005年9月27日
发明者付献, 江超华 申请人:北京普析通用仪器有限责任公司