专利名称：一种应用于雷达液位计的抗干扰装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种应用于雷达液位计的抗干扰装置。
背景技术：
雷达液位计的原理是通过发射能量极低的极短微波脉冲信号，配合天线系统对反射回信号的接收，达到实现判断液面高度的目的。酯化反应釜既用于反应，又用于蒸馏，液面波动幅度较大，且常常被泡沫覆盖，泡沫既可以吸收微波，又可以将其反射，因此液面波动及泡沫对雷达液位计的测量有严重干扰作用，用雷达液位计来显示酯化反应釜等的液面情况时经常不准确。
实用新型内容实用新型目的本实用新型的目的在于针对现有技术的不足，提供一种应用于雷达液位计的能够准确测量液面高度的抗干扰装置。技术方案本实用新型所述的一种应用于雷达液位计的抗干扰装置，套管和配重块，所述套管设置在雷达液位计的下方，所述配重块设置在所述套管内部空间的下部，所述配重块的上端通过导波缆绳与所述雷达液位计相连，所述配重块的侧面和下部分别通过固定支撑和牵引支撑固定在所述套管的内部空间的下部；所述套管的上部管壁上设置有泪孔 (排气孔)，所述套管的下部管壁设置有进液孔。工作时，套管的底部插入液面下，液体可以通过进液孔进出，套管内的液位相对平稳，套管外的泡沫不容易进入套管内，即使有少量进入，空间较小，也会很快破裂，这样就实现了抗干扰的目的。本实用新型与现有技术相比，其有益效果是本实用新型消除了雷达液位计在测量酯化反应釜中液面高度时由于液面波动及泡沫的干扰而产生的测量误差，使其准确显示液位，为操作控制提供准确的数据。
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
下面对本实用新型技术方案进行详细说明，但是本实用新型的保护范围不局限于所述实施例。实施例1 如图1所示，一种应用于雷达液位计的抗干扰装置，包括套管1、泪孔 3、进液孔4、导波缆绳5、配重块6、固定支撑7、牵引支撑8，所述套管1设置在雷达液位计2 的下方，所述泪孔3位于套管1管壁的顶部，所述进液孔4位于套管1管壁的底部，所述配重块6位于套管1内部空间的底部，所述配重块6的上端通过所述导波缆绳5与雷达液位计2相连，所述配重块6的侧面和底部分别通过固定支撑7和牵引支撑8固定在套管1内部空间中。具体工作原理为套管顶部为泪孔用于排气，底部插入液面下，液体通过进液孔方便进出，套管内的液位相对平稳，套管外的泡沫不容易进入套管内，即使有少量进入，空间较小，也会很快破裂，这样就实现了抗干扰的目的，使上面的雷达液位计准确测量液体高度。如上所述，尽管参照特定的优选实施例已经表示和表述了本实用新型，但其不得解释为对本实用新型自身的限制。在不脱离所附权利要求定义的本实用新型的精神和范围前提下，可对其在形式上和细节上作出各种变化。
权利要求1. 一种应用于雷达液位计的抗干扰装置，其特征在于包括套管(1)和配重块(6)，所述套管(1)设置在雷达液位计(2)的下方，所述配重块(6)设置在所述套管(1)内部空间的下部，所述配重块(6)的上端通过导波缆绳(5)与所述雷达液位计(2)相连，所述配重块 (6)的侧面和下部分别通过固定支撑(7)和牵引支撑(8)固定在所述套管(1)的内部空间的下部；所述套管(1)的上部管壁上设置有泪孔(3)，所述套管(1)的下部管壁设置有进液孔(4)。
专利摘要本实用新型公开一种应用于雷达液位计的抗干扰装置，包括套管和配重块，所述套管设置在雷达液位计的下方，所述配重块设置在所述套管内部空间的下部，所述配重块的上端通过导波缆绳与所述雷达液位计相连，所述配重块的侧面和下部分别通过固定支撑和牵引支撑固定在所述套管的内部空间的下部；所述套管的上部管壁上设置有泪孔，所述套管的下部管壁设置有进液孔。本实用新型消除了雷达液位计在测量酯化反应釜中液面高度时由于液面波动及泡沫的干扰而产生的测量误差，使其准确显示液位，为操作控制提供准确的数据。
文档编号G01F23/284GK202195856SQ201120247810
公开日2012年4月18日 申请日期2011年7月14日 优先权日2011年7月14日
发明者刘兴荣, 徐彬彬, 李旭东, 林毓勇, 江起培, 郑必武, 黄胜 申请人:南京乌江化工有限公司