专利名称：基版平面度测量装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及基版的测量装置，尤其是涉及进行基版平面度测量的测量装置。
背景技术：
平面度是指基版具有的宏观凹凸高度相对理想平面的偏差。平面度误差测量的常用方法有如下几种平面是由直线组成的，因此直线度测量中直尺法、光学准直法、光学自准直法、重力法等也适用于测量平面度误差。测量平面度时，先测出若干截面的直线度，再把各测点的量值按平面度公差带定义利用图解法或计算法进行数据处理即可得出平面度误差。也有利用光波干涉法和平板涂色法测量平面误差的。平晶干涉法用光学平晶的工作面体现理想平面，直接以干涉条纹的弯曲程度确定被测表面的平面度误差值。主要用于测量小平面，如量规的工作面和千分尺测头测量面的平面度误差。对大尺寸基版平面度的测量，若用平晶来测量，需购置尺寸较大的平晶，大尺寸平晶加工起来非常困难，在市场上基本买不到，即使能买到，价格也十分昂贵。由于上述原因，企业对大尺寸基版平面度一直没有检测，由于不能提供有关大尺寸基版平面度的数据，经常受到用户关于大尺寸基版平面度方面的质询。
实用新型内容鉴于以上内容，有必要提供一种便于测量大尺寸基版且测量结果精确的平面度测
量装置。为了解决上述技术问题，本实用新型提供的基版平面度测量装置，用来测量平板型待测元件的平面度，包括用来支撑测量系统的支承杆；至少三支用来支撑所述支承杆并位于所述支承杆两端的支承腿，所述支承腿垂直安装于所述支承杆的两侧，所述平面度测量装置还包括至少三套用于测量待侧元件的平面度而安装于所述支承杆上的测量系统，所述测量系统包括一带可弹性伸缩的表杆的测量表、操控所述测量表水平方向运动的微调机构和垂直方向运动的微调机构、及固定测量表水平和垂直位置的固定机构，测量时，将支承腿放在基准平板的基准面上，然后调整所述测量表，将所述测量表均调整为零，实现基准平板的基准面作为测量基准，将支承腿放在待测元件的基面上，然后观察各测量表的变化，读取最大值和最小值，至少在待测元件两个对角线上测量，将最大值与最小值的差作为待测元件的平面度。优选地，所述基版平面度测量装置的测量表为百分表。本实用新型带来的有益效果本实用新型提供的技术方案，以高等级基准平板的基准面作为基准，来确定大尺寸基版的平面度，为大尺寸基版的平面度检测提供了实用的检测方法，投资低。
附图用来提供对本实用新型的进一步理解，构成本申请的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中图I为实施例测量装置的结构示意图；图2为图I的左视结构示意图；图3为图I的局部放大图。
具体实施方式
如图I至图3所示的基版平面度测量装置，具有用来支撑测量系统的支承杆2 ;用来支撑所述支承杆并垂直安装于所述支承杆两端的支承腿I，其中一端的支承腿分成两支分腿，构成三支支承腿，所述支承腿垂直安装于所述支承杆2的同一侧，从而使基版平面度测量装置有三个支承点与基版或基准平板6接触。所述平面度测量装置还包括七套用于测量待侧元件的平面度而安装于所述支承杆2上的测量系统4，每一测量系统4包括一带可弹 性伸缩的表杆5的百分表3、操控所述百分表水平方向运动的微调机构7和垂直方向运动的微调机构8、及固定百分表水平和垂直位置的固定机构，本实施例中的固定机构为紧固螺钉。测量时，将三支支承腿I放在基准平板6的基准面上，然后调整每一块百分表3，将所述百分表3均调整为零，实现基准平板的基准面作为测量基准，将支承腿放在待测元件的基面上,然后观察各百分表的变化,读取最大值和最小值，至少在待测元件两个对角线上测量，将最大值与最小值的差作为待测元件的平面度。显然，本实用新型不限于以上优选实施方式，还可在本实用新型权利要求和说明书限定的精神内，进行多种形式的变换和改进，能解决同样的技术问题，并取得预期的技术效果，故不重述。本领域的普通技术人员能从本实用新型公开的内容直接或联想到的所有方案，只要在权利要求限定的精神之内，也属于本实用新型的保护范围。
权利要求1.一种基版平面度测量装置，用来测量平板型待测元件的平面度，包括用来支撑测量系统的支承杆(2);至少三支用来支撑所述支承杆并位于所述支承杆两端的支承腿(1)，所述支承腿(I)垂直安装于所述支承杆(2)的两侧，其特征在于所述平面度测量装置还包括至少三套用于测量待侧元件的平面度而安装于所述支承杆(2)上的测量系统(4)，所述测量系统(4)包括一带可弹性伸缩的表杆(5)的测量表(3)、操控所述测量表水平方向运动的微调机构(7)和垂直方向运动的微调机构(8)、及固定测量表水平和垂直位置的固定机构，测量时，将支承腿(I)放在基准平板的基准面上，然后调整所述测量表(3)，将所述测量表(3)均调整为零，实现基准平板的基准面作为测量基准，将支承腿放在待测元件的基面上，然后观察各测量表的变化，读取最大值和最小值，至少 在待测元件两个对角线上测量，将最大值与最小值的差作为待测元件的平面度。
2.根据权利要求I所述的基版平面度测量装置，其特征在于所述测量表(3)为百分表。
专利摘要基版平面度测量装置，包括用来支撑测量系统的支承杆；至少三支用来支撑所述支承杆并位于支承杆两端的支承腿，支承腿垂直安装于支承杆的两侧；至少三套用于测量待侧元件的平面度而安装于支承杆上的测量系统；测量系统包括一带可弹性伸缩的表杆的测量表、操控测量表水平和垂直方向运动的微调机构、及固定测量表水平和垂直位置的固定机构，测量时，将支承腿放在基准平板的基准面上，然后调整测量表，将测量表均调整为零，实现基准平板的基准面作为测量基准，将支承腿放在待测元件的基面上，然后观察各测量表的变化，读取最大值和最小值，至少在待测元件两个对角线上测量，将最大值与最小值的差作为待测元件的平面度。
文档编号G01B21/30GK202719973SQ20122035969
公开日2013年2月6日 申请日期2012年7月24日 优先权日2012年7月24日
发明者李军, 陈保国 申请人:长沙韶光铬版有限公司