垂直铺塑铺膜深度的探测方法
【专利摘要】本发明公开了一种垂直铺塑铺膜深度的探测方法，在垂直铺塑工程施工完毕后，利用电阻变化无损探测其铺膜深度，具体为：首先在垂直铺塑的防渗体表面选择一个探测位置，在铺膜两侧对称布置测点，对称的两个测点为一组，其连线垂直于铺膜；其次运用电阻测量仪测量所布置的每组测点之间的电阻值；再次找出所测电阻值中的最小值，其对应的测点间距的二分之一即为该探测位置的铺膜深度；最后沿铺膜方向按一定间距改变探测位置，重复以上步骤，即可测量出垂直铺塑不同断面的铺膜深度，从而对垂直铺塑的施工质量作出整体评价。本发明可以在垂直铺塑工程施工完毕后，无损进行探测其铺膜深度，操作简单，仪器简便，测量精度高。
【专利说明】垂直铺塑铺膜深度的探测方法【技术领域】
[0001]本发明涉及一种垂直铺塑铺膜深度的探测方法，属于土工膜防渗检测领域。
【背景技术】
[0002]垂直铺塑是20世纪80年代中期开始研究试验，20世纪90年代初发展起来的新型防渗技术。由于其具有防渗效果好、适应性强、耐久、造价低、工效高等优点，近些年垂直铺塑在水库大坝、江河堤防等防渗工程中得到了广泛应用。垂直铺塑施工工艺以机械开槽、塑膜铺设、沟槽回填为主要工序。然而在施工中，特别地质条件为粉砂和细砂，会出现成型槽塌落、淤堵等情况，从而造成垂直铺塑达不到设计深度，铺膜放不到槽底等问题。
[0003]以往对于垂直铺塑防渗体的效果检测通常是通过监测铺膜上下游的测压管的水头下降多少来评估的，这种方法只是评价垂直铺塑整体的防渗效果如何。而对垂直铺塑的铺膜深度，现在只能是进行开挖一探究竟，然而铺膜工程一般距离很长，少则几公里，多则几百公里，不可能将施工完毕的铺膜防渗体一一开挖。目前还尚无有效的无损检测方法来检测垂直铺塑的铺膜深度。
【发明内容】
[0004]本发明所要解决的技术问题是提供一种垂直铺塑铺膜深度的探测方法，通过测量电阻的变化确定垂直铺塑的铺膜深度，此方法对防渗体无损伤，操作简单，仪器简便，测量精度高。
[0005]本发明为解决上述技术问题采用以下技术方案:
本发明提供一种垂直铺塑铺膜深度的探测方法，在垂直铺塑工程施工完毕后，利用电阻变化无损探测其铺膜深度，具体实施步骤如下:
步骤1，在垂直铺塑的防渗体表面选择一个探测位置，在铺膜两侧对称布置测点；对称的两个测点为一组，其连线垂直于铺膜；
步骤2，运用电阻测量仪测量步骤I中所布置的每组测点之间的电阻值；
步骤3，找出步骤2中所测电阻值中的最小值，其对应的测点间距的二分之一即为该探测位置的铺膜深度；
步骤4，沿铺膜方向按一定间距改变探测位置，重复步骤I至3，即可测量出垂直铺塑不同断面的铺膜深度，从而对垂直铺塑的施工质量作出整体评价。
[0006]作为本发明的进一步优化方案，步骤I中所述探测位置的选择根据垂直铺塑工程的实际情况确定。
[0007]作为本发明的进一步优化方案，步骤I中布置不少于7组的对称测点，且所布置的对称测点中，至少有2组对称测点的间距超过两倍的铺膜设计深度。
[0008]作为本发明的进一步优化方案，步骤4中所述一定间距根据垂直铺塑工程的实际情况确定。
[0009]本发明采用以上技术方案与现有技术相比，本发明对防渗体无损伤；测量过程简单，快速，且易掌握；采用通用的仪器设备即可完成探测，探测成本低；探测精度高，且能快速地探测出铺膜的深度。
【专利附图】
【附图说明】
[0010]图1是本发明的方法流程图。
[0011]图2是本发明实施例的探测示意图。
[0012]图3是探测位置I对应的电阻关于测点间距的变化曲线图。
[0013]图4是探测位置2对应的电阻关于测点间距的变化曲线图。
【具体实施方式】
[0014]下面详细描述本发明的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本发明，而不能解释为对本发明的限制。
[0015]本【技术领域】技术人员可以理解的是，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本发明的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。应该理解，当我们称元件被“连接”或“耦接”到另一元件时，它可以直接连接或耦接到其他元件，或者也可以存在中间元件。此外，这里使用的“连接”或“耦接”可以包括无线连接或耦接。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的任一单元和全部组合。
[0016]本【技术领域】技术人员可以理解的是，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样定义，不会用理想化或过于正式的含义来解释。
[0017]下面结合附图对本发明的技术方案做进一步的详细说明:
本发明设计一种垂直铺塑铺膜深度的探测方法，在垂直铺塑工程施工完毕后，利用电阻变化无损探测其铺膜深度，具体实施步骤如下:
步骤1，在垂直铺塑的防渗体表面选择一个探测位置，在铺膜两侧对称布置测点；对称的两个测点为一组，其连线垂直于铺膜；
步骤2，运用电阻测量仪测量步骤I中所布置的每组测点之间的电阻值；
步骤3，找出步骤2中所测电阻值中的最小值，其对应的测点间距的二分之一即为该探测位置的铺膜深度；
步骤4，沿铺膜方向按一定间距改变探测位置，重复步骤I至3，即可测量出垂直铺塑不同断面的铺膜深度，从而对垂直铺塑的施工质量作出整体评价。
[0018]下面通过具体的实施例对本发明的技术方案作进一步阐述，本实施例中垂直铺塑的铺膜设计深度为2米，具体实施过程如下:
(I)已经施工完毕的垂直铺塑防渗体表面上选择一处探测位置1，在铺膜两侧沿其垂线对称布置测点，对称两测点为一组。
[0019]本实施例中测点布置如图2所示，所布置的测点共15组，而且多组测点间距超过两倍铺膜设计深度4米。
[0020](2)将电阻测量仪的两个电极插入铺膜两侧的对称两点中，运用电阻测量仪测出铺膜两侧各组测点之间的电阻值。
[0021](3)通过绘制出电阻关于测点间距的变化曲线，如图3所示，可以迅速找出电阻最小值相对应的测点间距为4米，那么此铺膜深度则为对应测点间距的二分之一，即为2米，与铺膜设计深度一致，此探测位置I的铺膜到位。
[0022](4)沿铺膜方向选择另一探测位置2，重复步骤I至3。此测量位置2处，电阻关于测点间距的变化曲线如图4所示，电阻最小值对应的测点间距为3.2米，那么此探测位置2的铺膜深度则为1.6米，铺膜深度未达到设计值2米。从而可以得出垂直铺塑不同断面的铺膜深度未全部达到设计值，此防渗体的垂直铺塑施工质量未能全部到位。
[0023]以上所述，仅为本发明中的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉该技术的人在本发明所揭露的技术范围内，可理解想到的变换或替换，都应涵盖在本发明的包含范围之内，因此，本发明的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。
【权利要求】
1.一种垂直铺塑铺膜深度的探测方法，其特征在于，在垂直铺塑工程施工完毕后，利用电阻变化无损探测其铺膜深度，具体实施步骤如下: 步骤1，在垂直铺塑的防渗体表面选择一个探测位置，在铺膜两侧对称布置测点；对称的两个测点为一组，其连线垂直于铺膜； 步骤2，运用电阻测量仪测量步骤I中所布置的每组测点之间的电阻值； 步骤3，找出步骤2中所测电阻值中的最小值，其对应的测点间距的二分之一即为该探测位置的铺膜深度； 步骤4，沿铺膜方向按一定间距改变探测位置，重复步骤I至3，即可测量出垂直铺塑不同断面的铺膜深度，从而对垂直铺塑的施工质量作出整体评价。
2.根据权利要求1所述的一种垂直铺塑铺膜深度的探测方法，其特征在于，步骤I中所述探测位置的选择根据垂直铺塑工程的实际情况确定。
3.根据权利要求1所述的一种垂直铺塑铺膜深度的探测方法，其特征在于，步骤I中布置不少于7组的对称测点。
4.根据权利要求3所述的一种垂直铺塑铺膜深度的探测方法，其特征在于，所布置的对称测点中，至少有2组对称测点的间距超过两倍的铺膜设计深度。
5.根据权利要求1所述的一种垂直铺塑铺膜深度的探测方法，其特征在于，步骤4中所述一定间距根据垂直铺塑工程的实际情况确定。
【文档编号】G01B7/26GK104034253SQ201410220462
【公开日】2014年9月10日 申请日期:2014年5月22日 优先权日:2014年5月22日
【发明者】陈亮, 胡海星, 高为壮, 夏兵兵, 丁小闯, 赵小龙, 赵敬川 申请人:河海大学