同轴调节装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及同轴调节，特别涉及两个部件间的同轴调节装置。
【背景技术】
[0002]半导体激光气体分析仪表主要由发射单元和接收单元组成。在实际应用中，发射单元和接收单元分别安装到测量区域的两端，通过连接单元固定在现场装置上。现场测量区域可以为气体管道的中心区域，也可以是开放空间区域或其他区域。因此发射单元和接收单元之间的间距范围覆盖几米至十几米。现场测量区域的环境温度范围从常温到高温。
[0003]现场安装时，发射单元安装在现场测量区域的一侧，辐射发出的激光被引导至测量区域，穿过测量区域后被安装在现场测量区域另一侧的接收单元捕获。为使分析仪表能按上述流程正常工作，需保证测量区域一侧的发射单元出射光能被另一侧的接收单元所捕获。根据半导体激光气体分析仪表的特点，则需要保证测量区域两侧的连接单元轴心位置在一定误差范围以内。该误差允许范围不随测量区域的尺寸变化而不同，因此发射单元和接收单元穿过测量区域的间距越长，则对测量区域两侧安装单元的调节要求越高。
[0004]为了使测量区域两侧安装单元轴心位置在一定范围内，目前的解决方案如下:如专利CN102121679B所述，采用一种用于分析仪定位的定位器，包括激光二极管、电池、安装座和外壳。将定位器依次安装在测量区域两侧的安装单元上，通过观察定位器所发出激光在测量区域另一侧所指示的位置对安装了定位器一侧的安装单元进行引导方向调节，最终使定位器指示激光落在测量区域另一侧安装单元轴心位置处的允许误差范围以内。
[0005]如专利CN102121679B所述解决方案，能实现对安装单元一定范围内的调整，但仍存在显著问题:
[0006]1.定位器指示激光初始允许误差范围较小
[0007]上述解决方案为根据定位器指示激光落在测量区域另一侧的位置进行判断安装了定位器的安装单元的引导方向，从而对安装单元进行引导方向调节。但在实际的在线分析仪表安装过程中，只在测量区域两侧开与分析仪表探头直径相近的孔。因此只有定位器指示激光落入已开孔的区域内才能被观察者观察到，而当安装单元初始引导方向误差稍大时，则无法得知定位器指示激光位置，从而无法对安装单元进行调节。
[0008]2.在高温背景辐射下分辨难度大
[0009]现场测量区域的环境温度范围从常温至高温。当在高温环境下，由于黑体辐射影响，高温背景辐射会变得非常明显，温度到达一定程度时，高温背景辐射的影响即会与定位器指示激光强度相当，从而无法在测量区域另一侧的开孔区域内确定定位器指示激光位置。
[0010]3.观察定位器指示激光方法不易操作
[0011]上述解决方案为在测量区域一侧将定位器安装到安装单元上，在测量区域另一侧的开孔区域内观察指示器激光指示位置。现场测量区域一般短则几米，长则十几米，因此需要至少两个人配合。其中一人A在定位器安装位置处调节安装单元引导方向，另一人B在测量区域另一侧观察指示激光器位置。根据B的观察反馈信息，A获取指示器激光指示位置从而进行调节。现场测量区域长、环境噪音大会给两个人的沟通带来非常大的困难。
【实用新型内容】
[0012]为了解决上述现有技术方案中的不足，本实用新型提供了一种调节方便、准确的同轴调节装置。
[0013]本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的:
[0014]—种同轴调节装置，所述同轴调节装置包括:
[0015]光源，所述光源用于发出检测光；
[0016]分光部件，所述检测光穿过所述分光部件、待调节的第一部件后被漫反射体反射，反射光被所述分光部件反射；
[0017]漫反射体，所述漫反射体安装在第二部件上，所述第二部件固定；
[0018]调节部件，所述调节部件用于调节所述第一部件相对第二部件的空间位置。
[0019]根据上述的同轴调节装置，优选地，所述漫反射体上具有中心标记。
[0020]根据上述的同轴调节装置，优选地，所述标记是同心圆或交叉线。
[0021]根据上述的同轴调节装置，可选地，所述同轴调节装置进一步包括:
[0022]反射器件，所述反射器件用于反射经过所述分光部件反射后的反射光；
[0023]光学放大单元，经所述反射器件反射后的光进入所述光学放大单元。
[0024]根据上述的同轴调节装置，可选地，所述同轴调节装置进一步包括:
[0025]带通滤光片，所述带通滤光片设置在被所述分光部件反射的光的光路上，用于滤除第一部件和第二部件之间的背景光。
[0026]根据上述的同轴调节装置，优选地，所述光学放大单元是望远镜系统。
[0027]根据上述的同轴调节装置，优选地，所述漫反射体是磨砂镜或漫反射反光纸或均光板。
[0028]根据上述的同轴调节装置，优选地，所述分光部件具有通孔，所述检测光穿过所述通孔。
[0029]与现有技术相比，本实用新型具有的有益效果为:
[0030]1.指示检测光初始允许误差范围大
[0031]采用反射光进行观察指示检测光如激光:当检测光落在第二部件内时，检测光将被第二部件内的漫反射装置反射回观察区域；当检测光落在另一侧开孔区域外，激光也将被安装单元的表面漫反射回观察区域。因此无论哪种情况，都容易观察到指示检测光所在位置，从而进行第一部件的引导方向调节；
[0032]2.容易从高温背景辐射中辨别出指示检测光
[0033]采用分光观察方式，在观察路线中加热窄带滤波镀膜玻片，可以衰减绝大部分的高温背景辐射，从而指示检测光在进入观察者视线中的比例将保证观察者容易从高温背景福射中辨别出指不检测光；
[0034]3.观察指示检测光更方便
[0035]采用同侧进行观察、调节，可由一人在进行观察指示检测光位置的同时进行第一部件的引导方向调节，因此可以避免两人进行操作时出现的沟通不便、调节反应慢等问题。
【附图说明】
[0036]参照附图，本实用新型的公开内容将变得更易理解。本领域技术人员容易理解的是:这些附图仅仅用于举例说明本实用新型的技术方案，而并非意在对本实用新型的保护范围构成限制。图中:
[0037]图1是根据本实用新型实施例1的同轴调节装置的结构简图；
[0038]图2是根据本实用新型实施例3的同轴调节装置的结构简图。
【具体实施方式】
[0039]图1-2和以下说明描述了本实用新型的可选实施方式以教导本领域技术人员如何实施和再现本实用新型。为了教导本实用新型技术方案，已简化或省略了一些常规方面。本领域技术人员应该理解源自这些实施方式的变型或替换将在本实用新型的范围内。本领域技术人员应该理解下述特征能够以各种方式组合以形成本实用新型的多个变型。由此，本实用新型并不局限于下述可选实施方式，而仅由权利要求和它们的等同物限定。
[0040]实施例1:
[0041]图1示意性地给出了本实用新型实施例的应用在对穿式激光气体分析仪中的同轴调节装置的结构图，如图1所示，所述同轴调节装置包括:
[0042]第二部件5B，如(用于固定光接收单元)安装法兰，所述第二部分固定在管道6的一侧，如通过焊接的方式固定；
[0043]第一部件5A，如(用于固定光发射单元)安装法兰，所述第一部件设置(尚未固定)在所述管道6的与所述第二部件相对的另一侧；
[0044]光源2，如激光器，所述光源用于发出检测光；
[0045]分光部件4，如倾斜设置的玻片，所述检测光穿过所述分光部件、待调节的第一部件后被漫反射体反射，反射光被所述分光部件反射；
[0046]漫反射体7，如磨砂镜或漫反射反光纸或均光板，所述漫反射体安装在第二部件上，所述第二部件固定;所述漫反射体上具有中心标记，如同心圆或交叉线。
[0047]调节部件，如一组调节螺钉，所述调节部件用于调节所述第一部件相对第二部件的空间位置；
[0048]反射器件8，所述反射器件用于反射经过所述分光部件反射后的反射光；
[0049]光学放大单元10，如望远镜系统，经所述反射器件反射后的光进入所述光学放大单元；
[0050]带通滤光片9，所述带通滤光片设置在被所述分光部件反射的光的光路上，用于滤除第一部件和第二部件之间(即管道内)的背景光。
[0051]本实用新型实施例的同轴调节方法，也即上述同轴调节装置的工作过程，应用在对穿式激光气体分析仪的两侧的安装法兰的同轴调节中，所述同轴调节方法包括以下步骤:
[0052](Al)光源发出的检测光穿过分光部件、管道后被安装在第二部件上的漫反射体反射；
[0053](A2)反射光被所述分光部件反射，再次被反射镜反射，之后穿过带通滤光片进入望远镜系统内；
[0054](A3)仅需一人观察被所述分光部件反射的光，并由该人调节第一部件相对第二部件的位置，使得观察到的光斑处于所述漫反射体的中心，从而确保了第一部件和第二部件同轴，将第一部件固定在管道上。
[0055]实施例2:
[0056]本实用新型实施例的同轴调节装置，与实施例1不同的是:
[0057]分光部件的中央具有通孔，光源发出的检测光的全部穿过所述通孔，之后穿过管道内被漫反射体反射。
[0058]实施例3:
[0059]本实用新型实施例的同轴调节装置，与实施例1不同的是:
[0060]分光部件4，所述检测光穿过所述分光部件、待调节的第一部件后被漫反射体反射，反射光被所述分光部件反射，经所述分光器件多次反射后的反射光穿过带通滤波片内。如图2所示。
【主权项】
1.一种同轴调节装置，其特征在于:所述同轴调节装置包括: 光源，所述光源用于发出检测光； 分光部件，所述检测光穿过所述分光部件、待调节的第一部件后被漫反射体反射，反射光被所述分光部件反射； 漫反射体，所述漫反射体安装在第二部件上，所述第二部件固定； 调节部件，所述调节部件用于调节所述第一部件相对第二部件的空间位置。2.根据权利要求1所述的同轴调节装置，其特征在于:所述漫反射体上具有中心标记。3.根据权利要求2所述的同轴调节装置，其特征在于:所述标记是同心圆或交叉线。4.根据权利要求1所述的同轴调节装置，其特征在于:所述同轴调节装置进一步包括: 反射器件，所述反射器件用于反射经过所述分光部件反射后的反射光； 光学放大单元，经所述反射器件反射后的光进入所述光学放大单元。5.根据权利要求1所述的同轴调节装置，其特征在于:所述同轴调节装置进一步包括: 带通滤光片，所述带通滤光片设置在被所述分光部件反射的光的光路上，用于滤除第一部件和第二部件之间的背景光。6.根据权利要求1所述的同轴调节装置，其特征在于:所述漫反射体是磨砂镜或漫反射反光纸或均光板。7.根据权利要求1所述的同轴调节装置，其特征在于:所述分光部件具有通孔，所述检测光穿过所述通孔。
【专利摘要】本实用新型提供了一种同轴调节装置，所述同轴调节装置包括：光源，所述光源用于发出检测光；分光部件，所述检测光穿过所述分光部件、待调节的第一部件后被漫反射体反射，反射光被所述分光部件反射；漫反射体，所述漫反射体安装在第二部件上，所述第二部件固定；调节部件，所述调节部件用于调节所述第一部件相对第二部件的空间位置。本实用新型具有调节方便、准确等优点。
【IPC分类】G01C15/00
【公开号】CN205384020
【申请号】CN201521140093
【发明人】蔡青, 俞大海
【申请人】聚光科技(杭州)股份有限公司
【公开日】2016年7月13日
【申请日】2015年12月31日