用于二维点阵列倾斜入射扫描的系统和方法与流程

文档序号:13451285
技术总结
本发明公开一种在倾斜角多光束点扫描晶片检验系统中产生多个光束线的系统,其包含:光束扫描装置,其经配置以扫描照明光束;物镜,其相对于样本的表面定向成倾斜角,且具有垂直于所述样本上的第一扫描方向的光轴;以及一或多个光学元件,其经定位在所述物镜与所述光束扫描装置之间。所述一或多个光学元件将所述光束分割为两个或更多个偏移光束,使得所述两个或更多个偏移光束在垂直于所述第一方向的至少第二方向上分离。所述一或多个光学元件进一步修改所述两个或更多个偏移光束的相位特性,使得所述两个或更多个偏移光束在扫描期间同时聚焦在所述样本上。

技术研发人员:J·沙利文;Y·丘林
受保护的技术使用者:科磊股份有限公司
文档号码:201680025753
技术研发日:2016.05.04
技术公布日:2018.01.12

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