用于检查及量测的方法和设备与流程

文档序号:13426389阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明公开了一种方法,所述方法涉及:通过光学部件将第一偏振状态的入射辐射提供至物体与外部环境界面中,其中一个表面被设置成邻近于所述界面且与所述界面分离开一段间隙;由从所述界面和从所述表面反射的入射辐射来检测由所述界面处的所述第一偏振状态的入射辐射的所述反射引起的、与经反射的辐射中的所述第一偏振状态的所述辐射不同的具有不同的第二偏转状态的辐射;和产生表示所述光学部件的焦点与所述物体之间的相对位置的位置信号。

技术研发人员:F·泽普;D·阿克布卢特;P·D·范福尔斯特;J·J·M·范德维基德翁;K·范贝尔克
受保护的技术使用者:ASML荷兰有限公司
技术研发日:2016.04.19
技术公布日:2018.01.09
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