一种便于读数的高精平整度检测装置的制作方法

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一种便于读数的高精平整度检测装置的制作方法

本实用新型涉及检测装置领域,具体的说,是一种便于读数的高精平整度检测装置。



背景技术:

现有技术条件下,用来测量地面平整度的方式多采用仪器法和水平法。仪器法就包括使用水准仪、水准尺等多种设备进行检测。其中水准仪操作复杂,并且需要建立精确的坐标系,测得的数据需要经过计算,无法直接利用。并且仪器笨重,运输不便,使用的话,需要花费的时间较长。而水准尺无法得出精确的数值,受到人为影响或材质本身变形影响而使得误差较大。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种误差小、使用方便、适用范围广的便于读数的高精平整度检测装置。

本实用新型通过下述技术方案实现:一种便于读数的高精平整度检测装置,包括设置有参考面的支座、设置在支座上靠重力始终保持竖直的参考件和若干个设置在支座上用于支撑支座的最底端位于同一平面的支撑杆;所述的参考件上设有以参考面为基准用于反馈平整度的刻度。通过将本实用新型放置在需检测的地面,由支撑杆进行支撑,通过观察参考面与参考件的相对变化情况就能够得出地面是否倾斜的结论,并且能够利用参考件上的刻度与参考面进行对比得出倾斜的程度,其使用方便,不用人工刻意调控,能够有效避免人为误差的干扰。

所述的参考件为质量分布为下重上轻、具有旋转对称轴且能够相对于支座自由转动的球形零件。以此有利于使参考件始终保持竖直,并且以参考件的旋转对称轴作为参考线,能够建立统一的坐标系,从而减小测量误差,提高测量精度。将参考件设置为球形还能够使得参考件与支座发生相对转动时更加方便,减小支座对参考件位置精度的影响,有利于保证测量精度。

所述的支座上设置有直径大于或等于参考件直径的球面凹槽。以此能够利用球面与球面的配合来减小支座对参考件位置精度的影响,有利于保证测量精度。

所述的球面凹槽的直径大于参考件的直径,所述的球面凹槽内设有若干个滚珠。通过由滚珠支撑参考件能够将滑动摩擦变为滚动摩擦从而减小参考件受到的磨损,使得参考件的相对转动更加方便,有利于缩短等待本实用新型放置稳定所需的时间,并且能够有效避免参考件的形状精度受到影响而导致本实用新型的精度下降。

所述的球面凹槽的直径大于参考件的直径;所述的球面凹槽内设有A磁铁,参考件的外表面均匀设置有B磁铁。以此能够有效避免参考件被磨损,并且避免支座的支撑力对参考件的位置精度造成影响,从而有利于保证参考件的旋转对称轴始终竖直以及测量的精度。

所述的刻度为与参考件旋转对称轴垂直的圆环形刻度线。通过设置刻度线能够方便读取地面发生倾斜的角度,从而使得读数方便快捷,通过将刻度线设计为圆环形能够从多个角度读取数据,从而得到精确地最大倾斜角数据。

所述的参考件的顶部设置有与参考件旋转对称轴垂直的截面。以此有利于减小参考件上部的重量,从而保证参考件旋转对称轴的竖直度以及测量的精度。

所述的截面的中心处设置有指南针;所述的指南针上方设置有水准气泡。通过设置指南针,便于观擦地面发生倾斜的方向,通过设置水准气泡有利于观察参考件旋转对称轴是否在竖直。

所述的支座为与参考件同轴设置的圆柱形支撑件,所述的参考面设置在支座朝上的一端并且垂直于支座的轴线。将支座设计为圆柱形有利于使支座的质量以及支撑杆的位置均匀分布,从而避免支座因为质量不均匀发生倾斜而影响测量的精度。

所述的支撑杆有三个且均匀分布在支座的圆周方向,支撑杆的最低端为共面且与参考面平行的平面。以此能够利用三点确定一个平面来提高支撑杆底面的平面度,从而有利于提高测量的精度。

本实用新型与现有技术相比,具有以下优点及有益效果:

本实用新型放置在地面之后等待参考件位置稳定即可读数,不需要复杂的操作,使用方便快捷,通过观察参考面与刻度的相对位置即可直观的得出本实用新型所在地面是否与水平面倾斜以及倾斜的具体角度,其测量精度高,并且不需要后期再经过计算,从而提高了测量的效率。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图;

图2为本实用新型的俯视图;

图3为参考件的安装示意图;

图4为实施例3的结构示意图;

图5为实施例4的结构示意图;

其中1—支座,2—参考件,3—支撑杆,4—截面,5—指南针,6—刻度线,7—滚珠,8—A磁铁,9—B磁铁,11—参考面。

具体实施方式

下面结合实施例对本实用新型作进一步地详细说明,但本实用新型的实施方式不限于此。

实施例1:

本实施例中,一种便于读数的高精平整度检测装置,包括设置有参考面11的支座1、设置在支座1上靠重力始终保持竖直的参考件2和若干个设置在支座1上用于支撑支座1的最底端位于同一平面的支撑杆3;所述的参考件2上设有以参考面11为基准用于反馈平整度的刻度。将本实用新型放置在待检测的地面上,使支撑杆3全部与地面接触,由于支撑杆3的最底端位于同一平面,使得支撑杆3的最底端所在的平面与待检测的地面平行,而参考面11根据地面的倾斜程度发生一定角度的相应倾斜,由于参考件2始终保持竖直,所以能够通过参考面11与参考件2之间的角度变化判断出地面是否倾斜,当检测出地面发生倾斜,通过参考面11指向的参考件2上的刻度能够直接读出参考面11与参考件2之间的角度或角度变化值,从而得出地面倾斜的角度。本实用新型通过放置在地面就能够直接使用,通过等待参考件2稳定之后能够直接读取数据,具有使用方便、操作简单、测量精度高的优点。

实施例2:

如图1所示,在上述实施例的基础上,本实施例中,所述的参考件2为质量分布为下重上轻、具有旋转对称轴且能够相对于支座1自由转动的球形零件。以此能够利用重力使参考件2始终保持竖直,并且以参考件2的旋转对称轴作为参考线,能够建立统一的坐标系,从而减小测量误差,提高测量精度,本实施例中,所述的旋转对称轴为参考件2在保持稳定的状态下的竖直轴线。将参考件2设计为球形还能够使得参考件2与支座1发生相对转动时更加方便,减小支座1对参考件2位置精度的影响,有利于保证测量精度。如图3所示,本实施例中,所述的支座1上设置有直径大于或等于参考件2直径的球面凹槽。以此能够利用球面与球面的配合来减小支座1对参考件2位置精度的影响,有利于保证测量精度。本实施例中,其他未描述的部分与上述实施例的内容相同,故不赘述。

实施例3:

如图4所示,在上述实施例的基础上,本实施例中,所述的球面凹槽的直径大于参考件2的直径,所述的球面凹槽内设有若干个滚珠7。所述的滚珠7呈环形均匀分布在球面凹槽内。以此能够通过由滚珠7来支撑参考件2,从而将参考件2的滑动摩擦变为滚动摩擦,有利于减小参考件2受到的磨损,使得参考件2的相对转动更加方便,有利于缩短等待本实用新型放置稳定所需的时间,并且能够有效避免参考件2的形状精度受到影响而导致本实用新型的精度下降。本实施例中,其他未描述的部分与上述实施例的内容相同,故不赘述。

实施例4:

如图5所示,在上述实施例的基础上,本实施例中,所述的球面凹槽的直径大于参考件2的直径;所述的球面凹槽内设有A磁铁8,参考件2的外表面均匀设置有B磁铁9。所述的A磁铁8呈圆环形,B磁铁9呈圆环形均匀设置在参考件2的外表面,且B磁铁9的宽度大于A磁铁8的宽度。以此能够利用B磁铁9与A磁铁8相互之间的作用力对参考件2形成支撑,优选的使B磁铁9与A磁铁8同极相对,以在B磁铁9与A磁铁8之间形成斥力,使参考件2的得重力大于B磁铁9与A磁铁8之间的斥力。以此有效避免参考件2被磨损,并且避免支座1的支撑力对参考件2的位置精度造成影响,从而有利于保证参考件2的旋转对称轴始终竖直以及保证测量的精度。本实施例中,其他未描述的部分与上述实施例的内容相同,故不赘述。

实施例5:

在上述实施例的基础上,本实施例中,所述的刻度为与参考件2旋转对称轴垂直的圆环形刻度线6。通过利用三角函数能够计算出参考面11指向的刻度线6所代表的偏转的角度,优选的使参考面11与参考件2的球心共面,从而使得参考面11朝任意方向偏转都能够使参考面11与参考件2的球心共面,从而有利于简化角度的计算。本实施例中,其他未描述的部分与上述实施例的内容相同,本领域的技术人员利用已知的三角函数知识以及几何知识能够实现角度的换算,故不赘述。

实施例6:

如图2所示,在上述实施例的基础上,本实施例中,所述的参考件2的顶部设置有与参考件2旋转对称轴垂直的截面4。以此有利于减小参考件2上部的重量,从而保证参考2件旋转对称轴的竖直度以及测量的精度。本实施例中,其他未描述的部分与上述实施例的内容相同,故不赘述。所述的截面4的中心处设置有指南针5,便于观擦地面发生倾斜的方向。所述的指南针5上方设置有水准气泡。以此有利于观察参考件2的旋转对称轴是否在竖直。本实施例中,其他未描述的部分与上述实施例的内容相同,故不赘述。

实施例7:

在上述实施例的基础上,本实施例中,所述的支座1为与参考件2同轴设置的圆柱形支撑件,所述的参考面11设置在支座1朝上的一端并且垂直于支座1的轴线。将支座1设计为圆柱形有利于使支座1的质量以及支撑杆3的位置均匀分布,从而避免支座1因为质量不均匀发生倾斜而影响测量的精度。所述的支撑杆3有三个且均匀分布在支座1的圆周方向,支撑杆3的最低端为共面且与参考面11平行的平面。以此能够利用三点确定一个平面来提高支撑杆3底面的平面度,从而有利于提高测量的精度。所述的支座1能够设计为直径大于参考件2的半球形。本实施例中,其他未描述的部分与上述实施例的内容相同,故不赘述。

实施例8:

在上述实施例的基础上,本实施例中,所述的参考件2设计为质量分布均匀的球形,参考件2上连接有铅锤,通过利用铅锤使参考件2上与铅锤在同一直线的轴始终保持竖直。以此有利于降低参考件2的加工难度。本实施例中,其他未描述的部分与上述实施例的内容相同,故不赘述。

以上所述,仅是本实用新型的较佳实施例,并非对本实用新型做任何形式上的限制,凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化,均落入本实用新型的保护范围之内。

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