一种测量钢轮偏距检具的制作方法

文档序号:13935182阅读:831来源:国知局
一种测量钢轮偏距检具的制作方法

本实用新型属于检具领域,涉及一种测量钢轮偏距检具。



背景技术:

对于钢制车轮制造领域来说,轮毂偏距是轮毂很重要的一个装车参数,它决定了轮毂是否会与轮眉、避震、卡钳等车辆部件剐蹭。偏距又叫offset/ET,是指轮毂中心面到轮毂安装面距离。轮毂偏距按类型有以下三种:

正偏距:以轮毂中心面为分界,轮毂安装面在更靠近轮毂正面一侧(即靠近车身外侧)

零偏距:轮毂安装面与中心线重合。

负偏距:以轮毂中心面为分界,轮毂安装面在更靠近车身内侧一侧。

如果轮毂偏距有较大误差,轮毂会与其他部件干涉。轮毂ET值过大:轮毂容易与避震干涉。轮毂ET值过小:轮毂凸出车身容易与翼子板干涉。

因此准确检测车轮的偏距,对于产品的质量,是非常重要的一个环节。

现在采用的测量方法,是分三部。

1.测量轮辋宽度数据A;

2.测量轮缘上端面到检测平台的高度数据B;

3.测量安装面平台高度C;

偏距D计算公式:C-A/2-B=D

原检测方法,存在以下几个缺点:(1)由于步骤较多,需要测量三个数据,效率低下;(2)定位标准需在专用检测平台上,来回搬运浪费时间;(3)累计误差,存在数据与实际值偏差风险。



技术实现要素:

本实用新型提供一种测量钢轮偏距检具,以解决现在钢轮偏距检测中步骤较多,效率低,须在专用检测平台上检测,检测不便的技术问题。

为了实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:

所述的测量钢轮偏距检具,包括一根长杆、两个支撑柱和深度尺,所述长杆具有沿长度方向延伸的滑槽,所述支撑柱安装在所述滑槽下方与所述滑槽滑动配合,所述深度尺安装在长杆上方且尺身伸出端穿过所述滑槽。

所述长杆为工字形,所述滑槽有两个位于所述长杆中间连接部的两侧,所述支撑柱分别安装在两个滑槽上。

所述支撑柱通过穿过所述滑槽的螺栓安装。

所述滑槽上设有滑块,所述深度尺安装在所述滑块上。

所述深度尺与所述滑块可拆卸连接。

使用上述技术方案,测量时将该检具置于平放的车轮上面,调整两个支撑柱让该检具支撑在轮辋上端面周边。再调整深度尺位置,让其尺身伸出端接触到轮毂安装面,从而测得检具至安装面高度数据B。再用游标卡尺测得轮辋宽度数据A。固定检具长杆的厚度C和轮辋板料厚度δ都是制造时已知的。可得偏距D计算公式:B-A/2-C-δ=D。

利用该检具只需要测量两个数据,即可计算出偏距值,省时省力,而且测量不需要检测平台,不易受场地限制。支撑柱和游标卡尺位置可调,方便应对不同型号的轮辋,泛用性较广。两个支撑柱底面位于同一平面保证长杆与轮辋上端面平行。长杆上下表面相互平行,粗糙度要小,保证测量数据可靠。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图;

图2为图1所示结构中长杆的俯视图;

图3为图1所示结构中支撑柱的结构示意图。

图中的标记为:

1.长杆、2.支撑柱、3.深度尺、4.螺栓、5.轮毂安装面、6.轮辋、7.滑槽、8.滑块。

具体实施方式

下面对照附图,通过对实施例的描述,对本实用新型具体实施方式作进一步详细的说明,以帮助本领域的技术人员对本实用新型的发明构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解。

如图1-图3所示,本实用新型提供了一种测量钢轮偏距检具,包括一根长杆1、两个支撑柱2和深度尺3。长杆1为工字形,具有沿长度方向延伸的两个滑槽7。滑槽7分别位于所述长杆1中间连接部的两侧,在长杆1端部有开口。

所述支撑柱2分别安装在两个滑槽7上。支撑柱2通过穿过所述滑槽7的螺栓4安装,螺栓4松开时能沿滑槽7滑动。调节好支撑柱2位置上紧螺栓4固定支撑柱2。两个支撑柱2底面位于同一平面保证长杆1与轮辋6上端面平行。滑槽7上还设有滑块8,深度尺3通过卡扣可拆卸地安装在该滑块8上。深度尺3位于长杆1上方且尺身伸出端穿过所述滑槽7。

该检具也可以不安装滑块8,直接将深度尺3的基座压在长杆1上表面,尺身伸出端穿过所述滑槽7进行测量。长杆1上下表面相互平行,表面光滑,以保证测量数据可靠。

测量时将该检具置于平放的车轮上面,调整两个支撑柱2让该检具支撑在轮辋6上端面周边。再调整深度尺3位置,让其尺身伸出端接触到轮毂安装面5,从而测得检具至安装面高度数据B。再用游标卡尺测得轮辋6宽度数据A。固定检具长杆1的厚度C和轮辋6板料厚度δ都是制造时已知的。可得偏距D计算公式:B-A/2-C-δ=D。

利用该检具只需要测量两个数据,即可计算出偏距值,省时省力效率高。而且该检具测量时不需要检测平台,不易受场地限制。支撑柱2和游标卡尺位置可调,方便应对不同型号的轮辋6,泛用性较广。

上面结合附图对本实用新型进行了示例性描述,显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本实用新型方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进,或未经改进将本实用新型构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本实用新型保护范围之内。

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