用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具的制作方法

本实用新型属于坩埚检测技术领域，尤其涉及一种用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具。

背景技术：

石英玻璃坩埚是拉制半导体单晶硅棒的重要组成部件，石英坩埚也可以说是最重要的热区元件之一，它不仅能影响长晶的良率，也会影响长晶的品质。而石英坩埚尺寸与客户热场的匹配性更是决定性因素，匹配性不好严重时可以导致直接无法拉晶。

常规有以下几种情况石英坩埚外形态或尺寸影响拉晶：一、石英坩埚外形态尺寸与热场中的石墨坩埚不匹配，石墨坩埚无法完全放入拉晶用石墨坩埚中，出现架空状态。二、石英坩埚放入石墨坩埚时，石英坩埚不稳定，能够旋转，晃动；三、石英坩埚外形态尺寸不匹配或与客户指定检测点出现偏差时，会影响坩埚切割高度、石英坩埚实际内容积，从而使客户在拉晶中需要不断调整工艺。最终影响客户的拉晶效率与拉晶的稳定性。长久以往会让客户对厂家坩埚失去信心，因此，迫在眉睫需要解决提供给客户产品的外形态尺寸问题，控制出货；而石英坩埚外形态尺寸在制造中受熔融模具形状、熔融成型手法、熔融工艺等多种因素的影响，熔融石英坩埚的外形态尺寸变动较大，熔融过程控制石英坩埚外形态尺寸较难；因此，只能着手保证出货产品合格率。

技术实现要素：

有鉴于此，有必要提供一种对加工完成的坩埚进行快速、准确检测的用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具。

一种用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具包括至少两个结构相同的检测板，检测板的内侧的上端为弧形，检测板的弧度与合格坩埚的底部的弧度相同，检测板的内侧的下端竖直向下，检测板的内侧的下端的边沿到检具的中心的水平距离与合格坩埚的外径相同，检测板的内侧的底部与检测板的内侧的顶部之间的高度与合格坩埚的高度相同，以确认检测坩埚的切割位置。

优选的，所述用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具还包括间隙塞尺，以测量检测板与坩埚之间的空隙的距离。

优选的，所述用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具包括两个结构相同的检测板，两个检测板一体成型且在同一平面内。

优选的，所述用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具包括四个结构相同的检测板，四个检测板呈十字形设置。

优选的，所述检测板的弧形处设有弧度检测点，以检测坩埚的弧度；检测板的下端设有直臂检测点，以检测坩埚的外径、厚度。

优选的，所述检测板的下端的直臂检测点有三个，以检测坩埚尺寸的均匀性。

有益效果：本实用新型的用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具包括至少两个结构相同的检测板，检测板的内侧的上端为弧形，检测板的弧度与合格坩埚的底部的弧度相同，检测板的内侧的下端竖直向下，检测板的内侧的下端的边沿到检具的中心的水平距离与合格坩埚的外径相同，检测板的内侧的底部与检测板的内侧的顶部之间的高度与合格坩埚的高度相同，以确认检测坩埚的切割位置。检测时，将坩埚倒放在检查台上，检具放置在坩埚上，通过检具与坩埚进行对照，以判断坩埚是否合格。检测过程简单、快速且准确。

附图说明

图1为本实用新型的用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具的结构示意图。

图2为本实用新型的用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具的使用状态的结构示意图。

图中：用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具10、检测板20、弧度检测点201、直臂监测点202、坩埚30。

具体实施方式

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

请参看图1至图2，一种用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具10包括至少两个结构相同的检测板20，检测板20的内侧的上端为弧形，检测板20的弧度与合格坩埚的底部的弧度相同，检测板20的内侧的下端竖直向下，检测板20的内侧的下端的边沿到检具的中心的水平距离与合格坩埚的外径相同，检测板20的内侧的底部与检测板20的内侧的顶部之间的高度与合格坩埚的高度相同，以确认检测坩埚的切割位置。

进一步的，所述用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具10还包括间隙塞尺，以测量检测板20与坩埚之间的空隙的距离。

进一步的，所述用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具10包括两个结构相同的检测板20，两个检测板20一体成型且在同一平面内。

进一步的，所述用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具10包括四个结构相同的检测板20，四个检测板20呈十字形设置。

进一步的，所述检测板的弧形处设有弧度检测点201，以检测坩埚的弧度；检测板的下端设有直臂检测点202，以检测坩埚的外径、厚度。厚度包括坩埚的整体厚度以及坩埚的透明层厚度。

由于坩埚直臂的高度比较高，因此，进一步的，所述检测板的下端的直臂检测点有三个，以检测坩埚尺寸的均匀性。

本实用新型的用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具10有以下几种实施方式，但不限于下述实施方式：

把坩埚倒放在检查台上，检具的中心对准坩埚的底部中心，用间隙塞尺或者直尺测量坩埚底部圆角与检具之间的距离，判断坩埚底部弧度是否符合要求。

检具一侧贴紧坩埚直壁，用间隙塞尺或直尺测量检具另一侧与坩埚之间的距离，判断坩埚的外径是否符合要求。

将检具垂直往下卡，如果无法正常放入，出现卡点处尺寸不符合，那么有可能圆角突出或坩埚外径尺寸超上限或者坩埚中心切斜。

将检具放置坩埚底部中心，确认检具两侧直壁位置的空隙，查看两侧是否均匀一致，可旋转90度，对比确认坩埚的圆度。

将检具防止在坩埚上，检具的底部所在的位置即为坩埚需要切割的位置。如此，能够保证切割后的坩埚的高度一致。

由于石英坩埚检查点较多，且不同客户的检查位置不尽相同，设计产品检规时根据不同客户要求可定制不同的产品检规，并在产品说明书上要求标注测量点，员工确认坩埚外形符合性时，按产品检具的标识，标识出检测点。

以上所揭露的仅为本实用新型较佳实施例而已，当然不能以此来限定本实用新型之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本实用新型权利要求所作的等同变化，仍属于实用新型所涵盖的范围。

技术特征：

1.一种用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具，其特征在于：包括至少两个结构相同的检测板，检测板的内侧的上端为弧形，检测板的弧度与合格坩埚的底部的弧度相同，检测板的内侧的下端竖直向下，检测板的内侧的下端的边沿到检具的中心的水平距离与合格坩埚的外径相同，检测板的内侧的底部与检测板的内侧的顶部之间的高度与合格坩埚的高度相同，以确认检测坩埚的切割位置。

2.如权利要求1所述的用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具，其特征在于：所述用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具还包括间隙塞尺，以测量检测板与坩埚之间的空隙的距离。

3.如权利要求1所述的用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具，其特征在于：所述用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具包括两个结构相同的检测板，两个检测板一体成型且在同一平面内。

4.如权利要求1所述的用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具，其特征在于：所述用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具包括四个结构相同的检测板，四个检测板呈十字形设置。

5.如权利要求1所述的用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具，其特征在于：所述检测板的弧形处设有弧度检测点，以检测坩埚的弧度；检测板的下端设有直臂检测点，以检测坩埚的外径、厚度。

6.如权利要求5所述的用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具，其特征在于：所述检测板的下端的直臂检测点有三个，以检测坩埚尺寸的均匀性。

技术总结
本实用新型的用于检验半导体石英坩埚外形态及标识检测点的检具包括至少两个结构相同的检测板，检测板的内侧的上端为弧形，检测板的弧度与合格坩埚的底部的弧度相同，检测板的内侧的下端竖直向下，检测板的内侧的下端的边沿到检具的中心的水平距离与合格坩埚的外径相同，检测板的内侧的底部与检测板的内侧的顶部之间的高度与合格坩埚的高度相同，以确认检测坩埚的切割位置。检测时，将坩埚倒放在检查台上，检具放置在坩埚上，通过检具与坩埚进行对照，以判断坩埚是否合格。检测过程简单、快速且准确。

技术研发人员：陈金莲;李卫;李常国;王亮;闫吉致;蔡喆
受保护的技术使用者：宁夏富乐德石英材料有限公司
技术研发日：2020.12.02
技术公布日：2021.07.02