比色装置、掩模构件以及比色系统的制作方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及一种比色装置、其掩模构件以及在比色装置上安装有掩模构件的比色系统。
【背景技术】
[0002]对于各种工业产品等，为了确保固定的品质，例如表面的色彩在产品之间保持为相同。因此，在从制造到出厂的某一个阶段，需要通过利用比色计等测定表面的色彩来管理表面的色彩。在这种比色计中，例如设置有照明受光系统，该照明受光系统具有对产品等这样的作为比色的对象的物体(还称为比色对象物)的表面进行照明的光源以及接收从该表面发出的反射光等光的传感器。
[0003]另外，比色对象物的表面中的作为色彩的管理的对象的部位、即作为比色的对象的部位(还称为比色对象部位)的尺寸和形状有可能根据比色对象物的形状和尺寸、顾客的要求以及制造方法等各种条件而不同。但是，按每个条件准备不同的比色计对于制造者来说在经济上成为大的负担。
[0004]因此，提出了如下的便携用色彩测定装置:通过配置能够根据条件而在比色对象物与比色计的主体部之间更换的头锥体(nose cone)，使得能够变更作为比色的对象的区域(还称为比色对象区域)的尺寸等(例如专利文献I等)。该头锥体具有规定比色对象区域的尺寸等的窗部，以覆盖照明受光部的方式安装于比色计，在进行比色对象物的比色时能够作为与比色对象物接触的构件(还称为掩模构件)发挥功能。
[0005]在这种结构中，在更换掩模构件时，有时必须根据掩模构件的种类来变更在光学系统的变更以及比色的运算中使用的校正系数等。因此，在上述专利文献I的装置中，在主体部的下半部分设置I个以上的磁开关，利用磁开关来监视从配置于掩模构件的磁铁发出的磁场，由此自动地识别并显示掩模构件的种类。
[0006]专利文献1:日本特表2000-505887号公报
【发明内容】
[0007]发明要解决的问题
[0008]另外，在上述专利文献I的装置中设想如下情况:在设置于掩模构件的多个爪状的止动部分别被插入到在主体部侧以弧状设置的凹部的状态下掩模构件被旋转，从而掩模构件安装于主体部。这种安装机构的方式还被称为卡口式，通过该卡口式的机构，掩模构件能够更容易且可靠地安装于主体部。
[0009]然而，在采用卡口式的机构的情况下，如果通过掩模构件的旋转而止动部未到达至凹部的最里侧的部分，则掩模构件的磁铁配置于设想外的位置，由磁开关监视磁场的结果，有可能误认掩模构件的种类。
[0010]例如在为了实现主体部的小型化而在主体部的同心圆上排列多个磁开关的情况下，有可能由于在向主体部安装掩模构件时掩模构件的旋转不足而由与应该检测磁场的磁开关不同的其它磁开关来检测出磁场。也就是说，无法实现与掩模构件的种类相应的适当的磁性检测状态。而且，由此有可能误认为与实际安装的掩模构件不同的种类的掩模构件安装于主体部。
[0011]这种问题在通过旋转而掩模构件安装于主体部的结构以及通过直线或曲线的滑动而掩模构件安装于主体部的结构中均有可能产生。而且，上述问题是安装掩模构件的比色装置中一般所共有的。
[0012]本发明是鉴于上述问题而完成的，其目的在于提供一种能够实现与安装于比色装置的掩模构件的种类相应的适当的检测状态的技术。
[0013]用于解决问题的方案
[0014]为了解决上述问题，第I方式所涉及的比色装置具备:照明受光部，具有光源部和传感器部；被安装部，用于以覆盖所述照明受光部的方式安装具有窗部的掩模构件；多个检测部，沿着所述掩模构件在被安装到所述被安装部的中途的阶段中相对于所述被安装部移动的安装方向排列，能够分别检测配置于所述掩模构件的被检测部；以及识别部，识别与所述多个检测部中的检测出所述被检测部的2个以上的检测部的组合对应的检测模式。
[0015]第2方式所涉及的比色装置在第I方式所涉及的比色装置中，在正在进行所述掩模构件向所述被安装部中的为了执行比色而预先设定的安装位置的安装的中途的安装中途状态下，所述识别部识别与所述多个检测部中的检测出所述被检测部的I个以上的检测部对应的检测模式，在所述掩模构件向所述安装位置的安装完成的安装完成状态下由所述识别部识别的检测模式与在所述安装中途状态下由所述识别部识别的检测模式不同。
[0016]第3方式所涉及的比色装置在第I方式所涉及的比色装置中，所述多个检测部中的位于所述安装方向上的最里侧的检测部在所述掩模构件向所述安装位置的安装完成的安装完成状态下检测所述被检测部。
[0017]第4方式所涉及的比色装置在第I?第3方式中的任一个方式所涉及的比色装置中，所述多个检测部包括3个以上的检测部，关于所述3个以上的检测部中的两个检测部的所有组合各自的检测部间的距离不同。
[0018]第5方式所涉及的比色装置在第I?第4方式中的任一个方式所涉及的比色装置中，还具备:存储部，按每个检测模式存储在根据由所述传感器部得到的数据计算比色结果数据的比色运算中使用的校正数据；以及运算部，使用所述存储部中存储的多个所述校正数据中的与由所述识别部识别的检测模式对应的所述校正数据进行所述比色运算。
[0019]第6方式所涉及的比色装置在第I?第5方式中的任一个方式所涉及的比色装置中，还具备判别部，该判别部判别与由所述识别部识别的检测模式对应的所述掩模构件的种类。
[0020]第7方式所涉及的比色装置在第I?第6方式中的任一个方式所涉及的比色装置中，所述被检测部是磁铁。
[0021]第8方式所涉及的掩模构件具备:窗部；安装部，用于安装到比色装置的被安装部；以及2个以上的被检测部，沿着在被安装到所述被安装部的中途的阶段中相对于所述被安装部移动的安装方向排列，且能够由所述比色装置的检测部分别检测。
[0022]第9方式所涉及的掩模构件在第8方式所涉及的掩模构件中，具备多个被装配部，该多个被装配部能够配置所述2个以上的被检测部，且该多个被装配部沿着所述安装方向排列，在所述多个被装配部中的、位于所述安装方向上的最前头的被装配部中装配有所述被检测部。
[0023]第10方式所涉及的掩模构件在第8方式所涉及的掩模构件中，具备多个被装配部，该多个被装配部能够配置所述2个以上的被检测部，且该多个被装配部沿着所述安装方向排列，所述多个被装配部包括3个以上的被装配部，关于所述3个以上的被装配部中的两个被装配部的所有组合各自的被装配部间的距离不同，所述2个以上的被检测部配置于所述3个以上的被装配部中的至少两个被装配部。
[0024]第11方式所涉及的掩模构件在第8?第10方式中的任一个方式所涉及的掩模构件中，所述被检测部是磁铁。
[0025]第12方式所涉及的比色系统具备:第I?第7方式中的任一个方式所涉及的比色装置；以及安装于所述比色装置的所述被安装部的第8?第11方式中的任一个方式所涉及的掩模构件。
[0026]发明的效果
[0027]通过第I?第7方式中的任一个方式所涉及的比色装置，也能够实现与安装于比色装置的掩模构件的种类相应的适当的检测状态。
[0028]根据第2方式所涉及的比色装置，不易产生不与掩模构件的种类对应的错误的检测状态。
[0029]根据第3方式所涉及的比色装置，不易产生掩模构件的安装未完成的状态下的不与掩模构件的种类对应的错误的检测状态。
[0030]根据第4方式所涉及的比色装置，能够实现与更多的种类的掩模构件相应的适当的检测状态。
[0031]根据第5方式所涉及的比色装置，能够容易且适当地实现与掩模构件的种类相应的校正数据的变更。
[0032]根据第6方式所涉及的比色装置，能够适当地判别安装于比色装置的掩模构件的种类。
[0033]根据第7方式所涉及的比色装置，即使在例如细小的粒子或液体等是比色对象物的情况下粒子或液体等杂质进入被安装部与掩模构件之间，也能够通过比色装置的检测部来稳定地检测出被检测部。
[0034]通过第8?第11方式中的任一个方式所涉及的掩模构件，也能够在比色装置中实现与安装于比色装置的掩模构件的种类相应的适当的检测状态。
[0035]根据第9方式所涉及的掩模构件，在比色装置中不易产生掩模构件的安装未完成的状态下的不与掩模构件的种类对应的错误的检测状态。
[0036]根据第10方式所涉及的掩模构件，在比色装置中能够实现与更多的种类的掩模构件相应的适当的检测状态。
[0037]根据第11方式所涉及的掩模构件，即使在例如细小的粒子或液体等是比色对象物的情况下粒子或液体等杂质进入被安装部与掩模构件之间，也能够通过比色装置的检测部来稳定地检测出被检测部。
[0038]根据第12方式所涉及的比色系统，能够实现与安装于比色装置的掩模构件的种类相应的适当的检测状态。
【附图说明】
[0039]图1是例示一个实施方式所涉及的比色系统的外观的立体图。
[0040]图2是用于说明比色系统的前端部附近的一个结构例的图。
[0041]图3是用于说明比色系统的前端部附近的一个结构例的图。
[0042]图4是用于说明比色系统的前端部附近的一个结构例的图。
[0043]图5是表示相对于比色装置能够装卸掩模构件的情形的图。
[0044]图6是表示相对于比色装置能够装卸掩模构件的情形的图。
[0045]图7是表示相对于比色装置能够装卸掩模构件的情形的图。
[0046]图8是用于说明掩模检测部的结构的图。
[0047]图9是例示掩模构件的结构的图。
[0048]图10是例示比色系统的功能性结构的框图。
[0049]图11是表示参考例所涉及的比色系统中的掩模构件的检测方式的图。
[0050]图12是表示参考例所涉及的比色系统中的掩模构件的检测方式的图。
[0051]图13是例示装配模式与检测模式的关系的图。
[0052]图14是例示检测模式与判别结果的关系的图。
[0053]图15是用于说明检测部的配置条件的一例的图。
[0054]图16是用于说