不良检查系统及其方法

文档序号:9563250阅读:620来源:国知局
不良检查系统及其方法【
技术领域
】[0001]本发明涉及一种不良检查系统及其方法。【
背景技术
】[0002]通过检查基板不良来预先检测出现不良的基板是非常重要的。通常如图1所示地进行基板的边缘不良检查。[0003]图1为显示通常的基板边缘不良检查的示意图。[0004]如图1所不,基板的横切方向设置有摄像头102,摄像头102检查基板的边缘不良。此时基板的四个边缘均需要检查,因此需要多个摄像头。[0005]尤其,用于不良检查的摄像头价格高,因此不良检查系统的费用相当高。[0006]现有技术文献[0007]专利文献:韩国授权专利公报第1251852(授权日期:2013年4月1日)。【
发明内容】[0008]技术问题[0009]本发明的目的为提供一种能够降低费用的不良检查系统及其方法。[0010]技术方案[0011]为达成上述目的,根据本发明一个实施例的基板不良检查方法包括:第一不良检查步骤,其在向第一方向移送第一基板的同时检查所述第一基板的一部分;以及第二不良检查步骤,其在向第二方向移送所述第一基板的同时检查所述第一基板的其他部分。其中所述第一方向与所述第二方向不同。[0012]根据本发明另一实施例的基板不良检查系统包括:支撑结构体(Profilestructure),其包括支撑件(Profile);第一图像获取装置,其设置于所述支撑结构体的一部分;以及第二图像获取装置,其设置于所述支撑结构体的其他部分。其中所述第一图像获取装置在第一基板向第一方向移送时检查所述第一基板的一部分,所述第二图像获取装置在所述第一基板向不同于所述第一方向的第二方向移送时检查所述第一基板的其他部分。[0013]根据本发明一个实施例的基板不良检查系统包括作为机械手移动空间的移送通道部、转台及清洗机。其中,在被所述清洗机清洗的第一基板从所述清洗机向所述转台移送期间接受第一次不良检查,在所述第二基板从所述转台移送到所述移送通道部期间接受第二次不良检查。[0014]根据本发明一个实施例的支撑结构体包括:支撑件,其形成有槽;支架,其支撑用于检查不良的图像获取装置;螺母,其插入到所述支撑件的槽内;以及结合构件,其贯通所述支架结合到所述螺母,将所述图像获取装置固定在所述支撑件。[0015]技术效果[0016]本发明的不良检查系统及其方法可利用两个摄像头检查向第一方向移送的第一基板的边缘中的一部分,并利用两个摄像头检查向第二方向移送的第一基板的其他边缘。艮P,所述不良检查系统用四个摄像头即可检查基板上的所有边缘的不良,设置的摄像头数量比现有的不良检查系统少。因此能够大幅降低上述不良检查系统的费用。【附图说明】[0017]图1为显—般的基板的边缘不良检查的不意图;[0018]图2为显示本发明第一实施例的不良检查系统的示意图;[0019]图3为显示本发明第二实施例的不良检查系统的示意图;[0020]图4为显示本发明一个实施例的处理工序的框图;[0021]图5为显示本发明一个实施例的第二不良检查工序的立体图;[0022]图6及图7为显不本发明一个实施例的第一不良检查工序的不意图;[0023]图8至图15为显示本发明一个实施例的不良检查方法的示意图;[0024]图16为显示本发明一个实施例的摄像头设置结构的示意图。[0025]附图标记说明[0026]200:基板202:图像获取装置(摄像头)[0027]300:封装盒(Cassette)302:移送通道部(Index)[0028]304:转台(Turntable)306:清洗机[0029]308:腔室310:移送腔室[0030]312:工程腔室500:第一基板[0031]502:第二基板504:支撑结构体(Profilestructure)[0032]510:支撑件600:光源[0033]800:升降构件802:移送构件[0034]810:支撑结构体1000:机械手的第一臂[0035]1002:机械手的第二臂1600:摄像头支架[0036]1610:支撑件(Profile)1612:螺母[0037]1614:结合构件【具体实施方式】[0038]以下参照【附图说明】本发明的实施例。[0039]本发明涉及一种不良检查系统,尤其涉及边缘不良检查系统,可包括检查基板的边缘中的一部分的第一不良检查工序及检查基板的其他边缘的第二不良检查工序。[0040]例如,所述不良检查系统可包括在把清洗后的基板从清洗机移送到转台(TurnTable)的过程中进行的第一不良检查工序,以及在从转台移送到移送通道部(Index)的过程中进行的第二不良检查工序。[0041]通常,为检查基板四个边缘的不良,必须向横切基板的方向设置多个摄像头。但是,本发明的不良检查系统分为第一不良检查工序及第二不良检查工序检查基板的边缘不良,因此只需下述的四个摄像头即可检查基板的所有边缘。即,与现有技术相比,能够减少用于检查基板的边缘不良的摄像头数量,从而能够降低不良检查系统的费用。[0042]并且,不同于一个基板的处理工序(例如,清洗工序及沉积工序)结束后执行另一基板的处理工序的现有方法,其利用机械手的两个臂同时交换清洗后的第一基板与待清洗的第二基板的方式同时对多个基板进行处理,因此能够缩短基板的处理工序时间。[0043]以下参照附图详细说明本发明的不良检查系统的多种实施例。[0044]图2为显示本发明第一实施例的不良检查系统的示意图。[0045]如图2所示,本实施例的不良检查系统可包括第一不良检查工序及第二不良检查工序。[0046]例如,可以在基板200向第一方向移送期间对基板200的边缘A、B、C及D中一部分,尤其对位于移送方向的边缘A及B进行第一不良检查,在基板200向垂直于第一方向的第二方向移送期间对基板200的剩余边缘,尤其对位于移送方向的边缘C、D进行第二不良检查。[0047]此时,在将用于不良检查的图像获取装置,例如摄像头设置在基板200的移送方向的状态下,移送基板200的同时进行检查,因此在第一不良检查工序中只需两个摄像头202a、202b即可检查基板200的边缘A、B的不良,在第二不良检查工序中只需两个摄像头202c及202d即可检查基板200的边缘C、D的不良。例如如图2所示,当摄像头202c设置得对应于边缘C的状态下将基板200从右侧移送至左侧时,摄像头202c可以拍摄到基板200的整个边缘C。即,所述不良检查系统只需一个摄像头202c即可检查基板200的整个边缘C的不良。[0048]综上,本发明的不良检查系统通过多个不良检查工序检查基板200的边缘A、B、C及D,因此不同于只通过一次不良检查工序检查基板的边缘不良的现有技术,只需四个摄像头202a、202b、202c及202d即可检查基板200的整个边缘A、B、C及D的不良。[0049]图3为显示本发明第二实施例的不良检查系统的示意图,图4为显示本发明一个实施例的处理工序的框图。图5为显示本发明一个实施例的第二不良检查工序的立体图,图6及图7为显本发明一个实施例的第一不良检查工序的意图。[0050]如图3所示,本实施例的不良检查系统可包括封装盒(Cassette)300、移送通道部(Index)302、转台(Turntable)304、清洗机306及腔室308。[0051]封装盒300装载有基板,基板由机械手搬入。具体来讲,机械手可以从封装盒300移出待清洗的基板,或可以向封装盒300输入沉积有特定层的基板。[0052]移送通道部302是机械手的移动空间。[0053]转台304是待清洗基板与清洗后的基板交叉的地点。[0054]清洗机306的作用是清洗基板。[0055]腔室308是进行沉积等工序的装置,可以包括用于移送基板的移送腔室(Transferchamber,TC)310及用于向基板上沉积特定物质等的工程腔室(Processchamber,PC)312。[0056]以下说明具有这种结构的不良检查系统处理基板的过程。[0057]如图4至图7所示,机械手将第一基板500从封装盒300送至移送通道部302,之后将第一基板500移送到转台304。[0058]之后第一基板500从转台304移送到清洗机306,之后第一基板500得到清洗。[0059]接着,清洗后的第一基板500从清洗机306移送到转台304,其中可以在移送过程中对第一基板500进行第一不良检查。[0060]根据一个实施例,第一基板500可以如图6所示地以穿梭(shuttle)方式从清洗机306移送到转台304,此时可利用摄像头202a、202b及光源600a、600b对第一基板500进行不良检查。[0061]根据另一实施例,第一基板500可以如图7所示地利用传输机(Conveyor)从清洗机306移送到转台304,此时可利用摄像头202a、202b及光源600a、600b对第一基板500进行不良检查。[0062]接着,机械手将清洗后的第一基板500从转台304移送到移送通道部302。此时,机械手可将清洗前的第二基板502从移送通道部302移送到转台304。S卩,机械手可以在利用第一臂将清洗后的第一基板500从转台304移送到移送通道部302期间,利用第二臂把待清洗的第二基板502从移送通道部302移送到转台304。这种基板500、502的移送过程可同时进行。[0063]根据一个实施例,如图4的虚线框所示,可以在机械手将清洗后的第一基板500从转台304移送到移送通道部302期间,对第一基板500进行第二不良检查。例如如图5所示,摄像头202c、202d可以在第一基板500位于第二基板502的上部且第一基板500从转台304移送到移送通道部302时,检查第一基板500的边缘不良。另外,摄像头202c或202d可设置在由支撑件510构成的支撑结构体504上。[0064]接着,机器人将清洗后的第一基板500从移送通道部302移送到腔室308。此时,第二基板502可从转台304移送到清洗机306。[0065]之后,可以在腔室308内对第一基板500进行特定处理工序,例如沉积工序。[0066]沉积工序结束时机械手将沉积有特定物质的第一基板从腔室308移送到移送通道部302,之后将经过沉积的第一基板500装载到封装盒30当前第1页1 2 
当前第1页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1