基质辅助激光解析离子源进样装置的制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种基质辅助激光解析离子源进样装置，包括内部具有腔室的中空部件，安装在中空部件内部的Y向平台和安装在Y向平台上的X向平台，放置在安装在X向平台上的靶槽平台上的靶槽，安装在中空部件内部且与X向平台正向相对的顶靶机构和举靶机构，以及安装在中空部件顶部的具有凹槽的盖板；本发明通过举靶机构和顶靶机构的运动使得盖板上的凹槽与靶槽平台形成封闭腔室并由真空系统抽真空，以形成过渡真空腔室，可以有效地使得样品进行一个动态的样品对于真空度的适应过程，操作更加灵活和便捷。
【专利说明】基质辅助激光解析离子源进样装置
[0001]
技术领域
[0002]本发明型涉及基质辅助激光解析(MALDI)离子源技术领域，特别是涉及一种基质辅助激光解析离子源进样装置。
【背景技术】
[0003]在基质辅助激光解析离子源进行的固态样品解析过程中，样品在常压下形成固体，经过进样系统，由常压进入真空系统，并需进行精确定位，以实现样品在一个微小的区域内解析，在极短的时间间隔，激光对样品提供高的能量，对它们进行极快的加热，这样可以避免热敏感的化合物加热分解，基质分子能有效地吸收激光的能量，并间接地传给样品分子，从而得到电离，也就实现了离子进入质量分析器，完成进样。
[0004]基质辅助激光解析(MALDI)离子源进样装置在真空中进样有着至关重要的作用，由于待测样品(多为生物样品)不能直接从常压环境中立即转变为高真空环境，因此进样装置需要保证样品从常压环境进入到高真空环境的过程中逐渐适应高真空环境，不会对样品产生破坏以致影响解析结果，因此需要寻找一种能够先进行一种低真空过度，进而进入高真空的设备。
【发明内容】
[0005]有鉴于此，需要克服现有技术中的上述缺陷中的至少一个，本发明提供了一种基质辅助激光解析离子源进样装置，包括内部具有腔室的中空部件，安装在所述中空部件内部的Y向平台和安装在所述Y向平台上的X向平台，放置在安装在所述X向平台上的靶槽平台上的靶槽，安装在实时中空部件内部且与所述X向平台正向相对的顶靶机构和举靶机构，以及安装在所述中空部件顶部的盖板;所述盖板上设置有检测孔及所述样品放置孔，所述样品放置孔处设置有样品盖板;所述X向平台具有固定安装的第一挡块和第二挡块，所述顶靶机构具有与所述第一挡块动态接触的顶靶接触部件，所述举靶机构具有与所述第二挡块动态接触的举靶接触部件，所述举靶接触部件具有举靶接触前部和举靶接触后部，所述第二挡块在进靶过程中与所述举靶接触前部动态接触且在退靶过程中与所述举靶接触后部动态接触;所述举靶机构具有举靶平台，所述举靶平台在进靶过程中向上托举所述靶槽且在退靶过程中向下放下所述靶槽及将靶槽放置在所述X向平台上的靶槽平台上;所述顶靶机构具有顶靶部件，所述顶靶部件在进靶过程中向上顶起所述靶槽且在退靶过程中向下运动放松所述靶槽。
[0006]在操作过程中，在进靶位时，X向平台和Y向平台推动所述靶槽至预定位置过程中，所述第二挡块与所述举靶接触部件的所述举靶接触前部接触，推动所述举靶机构中的所述举靶平台向上托起所述靶槽，当X向平台和Y向平台继续运动时，进一步使得所述第一挡块与所述顶靶接触部件接触，使得所述顶靶机构的所述顶靶部件向上顶起所述靶槽，以使所述靶槽向上和所述盖板紧密接触，此时将样品放入所述靶槽，关闭所述样品盖板，此时，所述靶槽与所述盖板以及所述样品盖板形成已第一密封腔室，其具有相应的抽真空通孔，如此，可以对此腔室进行低真空处理，而整个腔室中也同步进行高真空处理;待达到预定要求后，进行退靶位时，X向平台和Y向平台向后运动，所述顶靶接触部件具有回弹力，因此会顶住所述第一挡块一同运动，所述顶靶部件下落，所述靶槽随着下落至上述举靶平台上，所述第二挡块随之后退并与所述举靶接触前部脱离进而带动所述举靶接触后部，使得所述举靶平台带动所述靶槽运动至所述X向平台的所述靶槽平台上，之后，X向平台和Y向平台运动至所述盖板上的所述检测孔位置，由此可以进行解析处理。
[0007]根据本专利【背景技术】中对现有技术所述，由于在相应解析过程中，样品若快速进入高真空环境下，必定会样品本身造成一定的破坏，如此对检测结果也必然存在很大误差；而本发明公开的基质辅助激光解析离子源进样装置，通过利用举靶机构和顶靶机构运动使得具有凹槽的盖板和靶槽平台以及靶槽形成一个动态过渡低真空腔室，可以有效地使得样品进行一个动态的样品对于真空度的适应过程，操作更加灵活和便捷。
[0008]另外，根据本发明公开的基质辅助激光解析离子源进样装置还具有如下附加技术特征:
进一步地，所述第一挡块为一个，所述第二挡块为两个且位于第一挡块的两侧，所述举靶接触部件为一个且在进靶过程和退靶过程中与所述第一挡块动态接触，所述顶靶接触部件为两个且与所述第二挡块一一对应并动态接触。
[0009]此处的动态接触指的是非固定接触，其可随着相互之间的运动或处于不同的状态位时，处于接触或非接触状态。
[0010]进一步地，所述盖板具有凹槽，所述凹槽与所述靶槽动态接触且与所述样品盖板形成密封腔室，所述凹槽中有联通真空设备的凹槽真空联通孔。
[0011]在所述凹槽中存在所述凹槽真空联通孔，可以使得低真空处理更加方便。
[0012]进一步地，所述举靶机构还具有托块，所述顶靶机构安装在所述托块上。
[0013]进一步地，所述举靶机构具有定位杆，安装在所述顶靶机构的滑动部件安装在所述定位杆上且可上下运动。
[0014]进一步地，所述举靶接触部件具有轴承的可转动部件。
[0015]更进一步地，所述举靶接触部件为滚柱结构。
[0016]进一步地，所述顶靶部件具有轴承的可转动部件。
[0017 ]更进一步地，所述顶勒I接触部件为滚柱结构。
[0018]滚动运动可以更加使得整体运动顺滑。
[0019]优选地，所述滚柱结构的外表面使用弹性体作为接触部位，如此可以使得运动更加具有缓冲性。
[0020]进一步地，所述靶槽平台上具有定位装置。
[0021 ]更进一步地，所述定位装置位三个定位柱。
[0022]进一步地，所述X向平台或所述Y向平台包括动力源和丝杠结构以及线性滑轨滑块。
[0023]更进一步地，所述动力源为电机。
[0024]进一步地，所述进样装置还包括真空系统，所述凹槽中有联通真空设备的凹槽真空联通孔。
[0025]更进一步地，所述真空系统包括分子栗和机械栗，所述分子栗与所述腔室相联，所述机械栗与所述分子栗相联且与所述凹槽真空联通孔相联。
[0026]进一步地，所述举靶机构中的所述举靶平台与举靶第一连杆上端转动相联，所述举靶第一连杆下端与所述托块转动链接，且通过举靶第二连杆与所述举靶接触部件位于所述举靶接触前部和所述举靶接触后部与所述举靶接触部件和位于所述举靶机构下部的托块的转动链接处之间且形成四连杆结构。
[0027]进一步地，所述顶靶机构还包括底座，所述底座和所述举靶机构固定联接;顶靶第一连杆，所述顶靶第一连杆下端与所述底座相联;顶靶滑动部件，所述顶靶滑动部件与安装在所述顶靶机构上的定位杆且可上下移动;顶靶第二连杆，所述顶靶第二连杆顶端与所述顶靶滑动部件顶端链接，底端安装所述顶靶接触部件，中部与所述顶靶第一连杆中部链接；顶靶第三连杆，顶靶第四连杆，所述顶靶第三连杆的两端分别与所述顶靶第一连杆的顶端和所述顶靶第四连杆的一端链接;所述顶靶第四连杆一端与所述顶靶滑动部件的顶端及所述顶靶第二连杆的顶端共同链接。
[0028]本发明附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。
【附图说明】
[0029]本发明的上述和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中:
图1基质辅助激光解析离子源进样装置整体示意图；
图2基质辅助激光解析离子源进样装置(隐藏盖板)整体示意图；
图3基质辅助激光解析离子源进样装置(无中空部件且为顶靶机构和举靶机构顶起和举起靶槽平台状态时)整体示意图；
图4顶靶机构与举靶机构一体示意图；
图5 X向平台示意图；
图6 Y向平台示意图；
图7顶革El机构示意图；
图8举革El机构不意图；
图9盖板不意图；
图中，100中空部件，200 X向平台，201靶槽平台，202第一挡块203第二挡块，204定位装置，300 Y向平台，400举靶机构，401举靶平台，402举靶接触部件，4021举靶接触前部，4022举靶接触后部，403定位杆，404托块，405举靶第一连杆，406举靶第二连杆，500顶靶机构，501顶靶部件，502顶靶接触部件，503顶靶滑动部件，504底座，505顶靶第一连杆，506顶靶第二连杆，507顶靶第三连杆，508顶靶第四连杆，600盖板，601检测孔，602样品盖板，603样品放置孔，604凹槽，605凹槽真空联通孔。
【具体实施方式】
[0030]下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能解释为对本发明的限制。
[0031]在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“底”、“顶”、“前”、“后”、“内”、“外”、“横”、“竖”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
[0032]在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“联接”、“连通”、“相连”、“连接”、“配合”应做广义理解，例如，可以是固定连接，一体地连接，也可以是可拆卸连接；可以是两个元件内部的连通；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连；“配合”可以是面与面的配合，也可以是点与面或线与面的配合，也包括孔轴的配合，对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
[0033 ] 本发明的发明构思如下，如图1 -9所示，通过利用举靶机构400和顶靶机构500运动使得具有凹槽604的盖板600和靶槽平台201以及靶槽形成一个动态过渡低真空腔室，可以有效地使得样品进行一个动态的样品对于真空度的适应过程，操作更加灵活和便捷。
[0034]根据本发明的实施例，如图1-9所示，一种基质辅助激光解析离子源进样装置，包括内部具有腔室的中空部件100，安装在所述中空部件100内部的Y向平台300和安装在所述Y向平台300上的X向平台200，放置在安装在所述X向平台200上的靶槽平台201上的靶槽，安装在所述中空部件100内部且与所述X向平台200正向相对的顶靶机构500和举靶机构400，以及安装在所述中空部件100顶部的盖板600;所述盖板600上设置有检测孔601及所述样品放置孔603，所述样品放置孔处设置有样品盖板602;所述X向平台200具有固定安装的第一挡块202和第二挡块203，所述顶靶机构500具有与所述第一挡块202动态接触的顶靶接触部件502，所述举靶机构400具有与所述第二挡块203动态接触的举靶接触部件402，所述举靶接触部件402具有举靶接触前部4021和举靶接触后部4022，所述第二挡块203在进靶过程中与所述举靶接触前部4021动态接触且在退靶过程中与所述举靶接触后部4022动态接触;所述举靶机构400具有举靶平台401，所述举靶平台401在进靶过程中向上托举所述靶槽平台201且在退靶过程中向下放下所述靶槽平台201及将靶槽放置在所述X向平台200上的靶槽平台201上;所述顶靶机构500具有顶靶部件501，所述顶靶部件501在进靶过程中向上顶起所述靶槽平台201且在退靶过程中向下运动放松所述靶槽平台201。
[0035]在操作过程中，在进靶位时，X向平台200和Y向平台300推动所述靶槽平台401至预定位置过程中，所述第二挡块203与所述举靶接触部件402的所述举靶接触前部4021接触，推动所述举革G机构400中的所述举革El平台401向上托起所述革El槽平台401，当X向平台200和Y向平台300继续运动时，进一步使得所述第一挡块202与所述顶靶接触部件501接触，使得所述顶革G机构500的所述顶革El部件501向上顶起所述革El槽平台201，以使所述革El槽平台201向上和所述盖板600紧密接触，此时将样品放入所述靶槽平台201中的靶槽中，关闭所述样品盖板602，此时，所述靶槽平台201与所述盖板600以及所述样品盖板602形成第一密封腔室，其具有相应的抽真空通孔605，如此，可以对此腔室进行低真空处理，而整个腔室中也同步进行高真空处理，如图1-3所示;待达到预定要求后，进行退靶位时，X向平台200和Y向平台300向后运动，所述顶靶接触部件502具有回弹力，因此会顶住所述第一挡块202—同运动，所述顶靶部件501下落，所述靶槽平台201随着下落至所述举靶平台401上，所述第二挡块203随之后退并与所述举靶接触前部4021脱离进而带动所述举靶接触后部4022，使得所述举靶平台401带动所述革El槽平台201运动至所述X向平台200的所述革El槽平台上201，之后，X向平台200和Y向平台300运动至所述盖板600上的所述检测孔601位置，由此可以进行解析处理。
[0036]另外，根据本发明公开的基质辅助激光解析离子源进样装置还具有如下附加技术特征:
进一步地，所述第一挡块202为一个，所述第二挡块203为两个且位于第一挡块202的两侧，所述顶靶接触部件52为一个且在进靶过程和退靶过程中与所述第一挡块202动态接触，所述举靶接触部件402为两个且与所述第二挡块203—一对应并动态接触，如图4、5、7、8所不O
[0037]此处的动态接触指的是非固定接触，其可随着相互之间的运动或处于不同的状态位时，处于接触或非接触状态。
[0038]进一步地，所述盖板600具有凹槽604，所述凹槽604与所述靶槽平台201动态接触且与所述样品盖板602形成密封腔室，所述凹槽604中有联通真空设备的凹槽真空联通孔605，如图9所示。
[0039]在所述凹槽604中存在所述凹槽真空联通孔605，可以使得低真空处理更加方便。
[0040]进一步地，所述举靶机构400还具有托块404，，所述顶靶机构500安装在所述托块404上，如图4、7、8所示。
[0041 ]进一步地，所述举靶机构400具有定位杆403，安装在所述顶靶机构500的顶靶滑动部件503安装在所述定位杆403上且可上下运动，如图4、8所示。
[0042]进一步地，所述举靶接触部件402具有轴承的可转动部件。
[0043]更进一步地，所述举靶接触部件402为滚柱结构，如图8所示。
[0044]进一步地，所述顶靶部件500具有轴承的可转动部件。
[0045]更进一步地，所述顶靶接触部件502为滚柱结构，如图7所示。
[0046]滚动运动可以更加使得整体运动顺滑。
[0047]优选地，所述滚柱结构的外表面使用弹性体作为接触部位，如此可以使得运动更加具有缓冲性。
[0048]进一步地，所述靶槽平台201上具有定位装置204。
[0049 ]更进一步地，所述定位装置204为三个定位柱，如图5所示。
[0050]进一步地，所述X向平台200或所述Y向平台300包括动力源和丝杠结构以及线性滑轨滑块。
[0051]更进一步地，所述动力源为电机。
[0052]进一步地，所述进样装置还包括真空系统，所述凹槽604中有联通真空设备的凹槽真空联通孔605。
[0053]更进一步地，所述真空系统包括分子栗和机械栗，所述分子栗与所述腔室相联，所述机械栗与所述分子栗相联且与所述凹槽真空联通孔605相联。
[0054]进一步地，所述举靶机构400中的所述举靶平台401与举靶第一连杆405上端转动相联，所述举靶第一连杆405下端与所述托块404转动链接，且通过举靶第二连杆406与所述举靶接触部件402位于所述举靶接触前部4021和所述举靶接触后部4022与所述举靶接触部件402和位于所述举靶机构400下部的托块404的转动链接处之间且形成四连杆结构，如图8所示。
[0055]进一步地，所述顶靶机构500还包括底座504，所述底座504和所述举靶机构500固定联接;顶靶第一连杆506，所述顶靶第一连杆506下端与所述底座504相联;顶靶滑动部件503，所述顶靶滑动部件503与安装在所述顶靶机构500上的定位杆403且可上下移动;顶靶第二连杆506，所述顶靶第二连杆506顶端与所述顶靶滑动部件503顶端链接，底端安装所述顶靶接触部件502，中部与所述顶靶第一连杆505中部链接;顶靶第三连杆507，顶靶第四连杆508，所述顶靶第三连杆507的两端分别与所述顶靶第一连杆505的顶端和所述顶靶第四连杆508的一端链接;所述顶靶第四连杆508—端与所述顶靶滑动部件503的顶端及所述顶靶第二连杆502的顶端共同链接。
[0056]任何提及“一个实施例”、“实施例”、“示意性实施例”等意指结合该实施例描述的具体构件、结构或者特点包含于本发明的至少一个实施例中。在本说明书各处的该示意性表述不一定指的是相同的实施例。而且，当结合任何实施例描述具体构件、结构或者特点时，所主张的是，结合其他的实施例实现这样的构件、结构或者特点均落在本领域技术人员的范围之内。
[0057]尽管参照本发明的多个示意性实施例对本发明的【具体实施方式】进行了详细的描述，但是必须理解，本领域技术人员可以设计出多种其他的改进和实施例，这些改进和实施例将落在本发明原理的精神和范围之内。具体而言，在前述公开、附图以及权利要求的范围之内，可以在零部件和/或者从属组合布局的布置方面作出合理的变型和改进，而不会脱离本发明的精神。除了零部件和/或布局方面的变型和改进，其范围由所附权利要求及其等同物限定。
【主权项】
1.一种基质辅助激光解析离子源进样装置，其特征在于，包括内部具有腔室的中空部件，安装在所述中空部件内部的Y向平台和安装在所述Y向平台上的X向平台，放置在安装在所述X向平台上的靶槽平台上的靶槽，安装在所述中空部件内部且与所述X向平台正向相对的顶靶机构和举靶机构，以及安装在所述中空部件顶部的盖板； 所述盖板上设置有检测孔及所述样品放置孔，所述样品放置孔处设置有样品盖板； 所述X向平台具有固定安装的第一挡块和第二挡块，所述顶靶机构具有与所述第一挡块动态接触的顶靶接触部件，所述举靶机构具有与所述第二挡块动态接触的举靶接触部件，所述举靶接触部件具有举靶接触前部和举靶接触后部，所述第二挡块在进靶过程中与所述举靶接触前部动态接触且在退靶过程中与所述举靶接触后部动态接触； 所述举靶机构具有举靶平台，所述举靶平台在进靶过程中向上托举所述靶槽平台且在退靶过程中向下放下所述靶槽及将靶槽放置在所述X向平台上的靶槽平台上； 所述顶靶机构具有顶靶部件，所述顶靶部件在进靶过程中向上顶起所述靶槽且在退靶过程中向下运动放松所述靶槽。2.根据权利要求1所述的基质辅助激光解析离子源进样装置，其特征在于，所述第一挡块为一个，所述第二挡块为两个且位于第一挡块的两侧，所述顶靶接触部件为一个且在进靶过程和退靶过程中与所述第一挡块动态接触，所述举靶接触部件为两个且与所述第二挡块一一对应并动态接触。3.根据权利要求1所述的基质辅助激光解析离子源进样装置，其特征在于，所述盖板具有凹槽，所述凹槽与所述靶槽平台动态接触且与所述样品盖板形成密封腔室，所述凹槽中有联通真空设备的凹槽真空联通孔。4.根据权利要求1所述的基质辅助激光解析离子源进样装置，其特征在于，所述举靶机构还具有托块，所述顶靶机构安装在所述托块上。5.根据权利要求1中所述的基质辅助激光解析离子源进样装置，其特征在于，所述举靶机构具有定位杆，安装在所述顶靶机构的滑动部件安装在所述定位杆上且可上下运动。6.根据权利要求1所述的基质辅助激光解析离子源进样装置，其特征在于，所述举靶接触部件具有轴承的可转动部件。7.根据权利要求6所述的基质辅助激光解析离子源进样装置，其特征在于，所述举靶接触部件为滚柱结构。8.根据权利要求1所述的基质辅助激光解析离子源进样装置，其特征在于，所述顶靶部件具有轴承的可转动部件。9.根据权利要求8所述的基质辅助激光解析离子源进样装置，其特征在于，所述顶靶接触部件为滚柱结构。10.根据权利要求1所述的基质辅助激光解析离子源进样装置，其特征在于，所述靶槽平台上具有定位装置。11.根据权利要求10所述的基质辅助激光解析离子源进样装置，其特征在于，所述定位装置位三个定位柱。12.根据权利要求1所述的基质辅助激光解析离子源进样装置，其特征在于，所述X向平台或所述Y向平台包括动力源和丝杠结构以及线性滑轨滑块。13.根据权利要求12所述的基质辅助激光解析离子源进样装置，其特征在于，所述动力源为电机。14.根据权利要求1所述的基质辅助激光解析离子源进样装置，其特征在于，所述进样装置还包括真空系统，所述凹槽中有联通真空设备的凹槽真空联通孔。15.根据权利要求14所述的基质辅助激光解析离子源进样装置，其特征在于，所述真空系统包括分子栗和机械栗，所述分子栗与所述腔室相联，所述机械栗与所述分子栗相联且与所述凹槽真空联通孔相联。16.根据权利要求1所述的基质辅助激光解析离子源进样装置，其特征在于，所述举靶机构中的所述举靶平台与举靶第一连杆上端转动相联，所述举靶第一连杆下端与所述托块转动链接，且通过举靶第二连杆与所述举靶接触部件位于所述举靶接触前部和所述举靶接触后部与所述举靶接触部件和位于所述举靶机构下部的托块的转动链接处之间且形成四连杆结构。17.根据权利要求1所述的基质辅助激光解析离子源进样装置，其特征在于，所述顶靶机构还包括底座，所述底座和所述举靶机构固定联接;顶靶第一连杆，所述顶靶第一连杆下端与所述底座相联;顶靶滑动部件，所述顶靶滑动部件与安装在所述举靶机构上的所述定位杆且可上下移动;顶靶第二连杆，所述举靶第二连杆顶端与所述顶靶滑动部件顶端链接，底端安装所述顶靶接触部件，中部与所述举靶第一连杆中部链接;举靶第三连杆，举靶第四连杆，所述举靶第三连杆的两端分别与所述举靶第一连杆的顶端和所述举靶第四连杆的一端链接;所述举靶第四连杆一端与所述举靶滑动部件的顶端及所述举靶第二连杆的顶端共同链接。
【文档编号】G01N27/62GK105891318SQ201610405700
【公开日】2016年8月24日
【申请日】2016年6月12日
【发明人】应刚, 徐鹏登, 周立
【申请人】江苏天瑞仪器股份有限公司