基于双平面定基准的大型旋臂弯沉量检测方法及装置的制造方法
【专利摘要】本发明涉及一种基于双平面定基准的大型旋臂弯沉量检测方法及装置，其精密轴系固定在平台上，旋臂依靠法兰盘固定在精密轴系上；第一平面镜与第二平面镜分别安装在两个四维调整架上，再分别安装在旋臂的中心和边缘两个位置；自准直仪安装在二维平移台上，放置在第一平面镜正前方；对准基片套在第一平面镜的圆周处，十字与小孔标识与第一平面镜的镜面平行。精密轴系带动旋臂及两块平面镜一起做匀速圆周运动，自准直仪发出的激光经两块平面镜反射形成自准直光路，实现对旋臂弯沉量的测试。本发明装置搭建简单、检测基准有效并准确传递、稳定性好。
【专利说明】
基于双平面定基准的大型旋臂弯沉量检测方法及装置
技术领域
[0001] 本发明属于精密测试领域，特别涉及一种基于双平面定基准的大型旋臂弯沉量的 检测方法及装置。
【背景技术】
[0002] 旋臂为固定在精密轴系做360°旋转运动的机械件，包括悬臂梁、板、槽、桁架等形 式，广泛应用于起重机械、目标引导、扫描测试等工业生产及科技领域。旋臂在回转运动过 程中存在变形，如图1虚线所示，其中垂直变形量As就是弯沉量，如图2所示。弯沉量的大小 直接影响到旋臂应用装置的精度。目前针对长度大于2m的大型旋臂弯沉量没有有效的检测 手段，查阅国内外有关文献也未有值得借鉴或参考价值的相关介绍。主要原因是大型旋臂 跨度长，存在检测基准不好建立、检测基准不好传递、检测误差不好分离等问题。而本发明 提出的利用双平面镜法检测旋臂弯沉量的方法与装置未见报道。
【发明内容】
[0003] 为了解决现有技术的问题，本发明的目的是寻求一种大型旋臂弯沉量检测方法及 装置。
[0004] 为达成所述目的，本发明提供一种基于双平面定基准的大型旋臂弯沉量检测装 置，包括精密轴系、旋臂、四维调整架、第一平面镜、千分表、对准基片、自准直仪、二维平移 台和第二平面镜，其中：
[0005] 精密轴系固定在平台上，旋臂依靠法兰盘固定在精密轴系上，精密轴系带动旋臂 一起以角速度为ω做匀速圆周运动，第一平面镜与第二平面镜分别安装在两个四维调整架 上，再分别安装在旋臂的旋转中心和边缘两个位置；自准直仪安装在二维平移台上，放置在 第一平面镜正前方;对准基片套在第一平面镜的圆周处，十字与小孔标识与第一平面镜的 镜面平行。
[0006] 其中，所述精密轴系为辅助测试精密元件，轴晃：峰谷值PV彡5〃，用于驱动旋臂进 行圆周运动。
[0007] 其中，所述旋臂为被测机械件，由法兰盘与精密轴系相连，结构主要有悬臂梁、板、 槽、桁架等形式。
[0008] 其中，所述四维调整架为精密调整机构，由二维平移与二维角度调节组成，用于调 节第一平面镜与第二平面镜的空间位置，X轴、y轴二维平移重复定位精度为<5μπι，分辨力 <1μπι;高低俯仰角θ χ和左右偏摆角07的二维角度调节重复定位精度<5〃，分辨力<2〃。
[0009] 其中，所述第一平面镜与第二平面镜均为圆形监测光学元件，直径多10mm，圆度< 0.05mm，反射率彡80%，光学面的面形偏差:峰谷值PV彡λ/4，均方根值RMS彡λ/20，检测波长 λ = 〇.6328μπι。
[0010] 其中，所述对准基片为定心机械元件，由十字丝标识与小孔标识组成，小孔标识的 直径< 1mm，用于辅助自准仪完成粗对准。
[0011] 其中，所述自准直仪为双轴光电自准直仪，为对准监测仪器，包括双轴可调底座、 自准直头、光管和激光找像器，用于同时测量水平方向X和垂直方向y的小角度变化;任意20 秒内精度$0.1"，全程精度<〇.25"，分辨力<0.01〃 ；用于监测旋臂在旋转运动过程中的变 形角度Θ，激光找像器套在自准直仪的光管前端面，发出的激光束被平面镜反射回来，根据 返回光束来相应的调整第一平面镜与第二平面镜或自准直仪的空间位置，以使返回的光束 返回至原来的光源发射点，实现自准直仪的粗对准。
[0012] 其中，所述二维平移台为调整机构，X轴、y轴二维平移重复定位精度为<10μπι，分 辨力彡5μπι;用于调节自准直仪的空间位置。
[0013] 本发明还提供一种基于双平面定基准的大型旋臂弯沉量检测方法，利用上述的基 于双平面定基准的大型旋臂弯沉量检测装置，包括步骤如下：
[0014] 步骤1、调平:调整放置精密轴系的大平台与大地平行，此时保证精密轴系与大地 基本水平；
[0015] 步骤2、定心:安装第一平面镜，将百分表装卡好后，表头打在第一平面镜圆周边缘 处，旋转精密轴系360°，查看百分表的最大读数与最小读数之差，调节第一平面镜的四维调 节架的X轴、y轴二维平移，使百分表的读数差值<〇.1_，此时，第一平面镜的中心法线ΑΒ与 精密轴系的旋转轴线PQ重合，偏心彡0.1mm;
[0016] 步骤3、建基准:第一平面镜位置不动，将对准基片套在第一平面镜的圆周上，在第 一平面镜正前方架自准直仪，自准直仪套上激光找像器，激光找像器发出的激光入射到对 准基片的中心小孔内，旋转精密轴系360°，调节自准直仪方位、俯仰及平移，使像经第一平 面镜反射返回到激光找像器的发射小孔内，且自准直仪示值读数在100〃以内，此时，检测激 光形成自准直光路，完成自准直仪的粗对准；
[0017] 步骤4、精对准:从第一平面镜上取下对准基片，自准直仪对准第一平面镜中心位 置;微量左右偏摆自准直仪，使方位示值读数变化A X在± 1000〃内，观察俯仰示值读数变化 A y大小，若Δ y彡5〃，轻抬自准直仪自准直头的一侧，直至Δ y<5〃，目的使光电自准直仪的 十字丝与第一平面镜镜面平行，此时，完成自准直仪的精对准，然后用自准直仪双轴可调底 座的螺丝将光管固定；
[0018] 步骤5、对径调整
[0019] (1)将精密轴系旋转到〇°、180°两个位置，设自准直仪方位示值读数分别为X1、 X2;
[0020] (2)在0°或180°位置调整第一平面镜的方位螺钉，将自准直仪方位示值由χ2调到 (Xl+X2)/2;
[0021] (3)将精密轴系旋转到90°、270°两个位置，设自准直仪俯仰示值读数分别为yi、y 2;
[0022] (4)在90°或270°位置调整第一平面镜的俯仰螺钉，将自准直仪俯仰示值由y2调到 (yi+y2)/2;
[0023] (5)重复调整第一平面镜方位、俯仰螺钉，直至x@X2差值及71与72差值均在5〃以 内，此时精密轴系的旋转轴线PQ垂直于第一平面镜的光学镜面；
[0024] (6)检查扫平:光电自准直仪在y方向±1000〃内，X方向变化<5〃，目的使自准直仪 的十字丝调到与第一平面镜的光学镜面平行；
[0025] (7)上述示值读数为绝对示值，调自准直仪的方位、俯仰旋钮使示值读数为零附 近，自准直仪光轴垂直于第一平面镜的光学镜面，至此，自准直仪光轴与精密轴系的旋转轴 线PQ平行；
[0026] 步骤6、查看稳定性:静止放置8小时，观察各调节机构的稳定性：自准直仪的示值 读数变化<〇.5〃；
[0027] 步骤7、装调两个平面镜：自准直仪位置不动，取下第一平面镜，重新安装第一平面 镜、第二平面镜，调节第一平面镜与第二平面镜的方位、俯仰螺钉，同步骤5对径调整直至自 准直仪方位、俯仰示值差值<20〃 ；
[0028]步骤8、查看回零:将旋臂转回0°位置清零作为零位，顺时针正转旋臂360°，查看回 零情况;为消除精密轴系间隙误差，顺时针稍微过零位一个角度再回到零位，再逆时针反转 360°，查看回零情况，若回零值>1〃，重复步骤7,直至回零值<1〃，此时，调整完毕；
[0029] 步骤9、复查稳定性:静止放置8小时，观察各调节机构的稳定性：自准直仪的示值 读数变化<〇.5〃；
[0030] 步骤10、测试:转动精密轴系，以零位为起点，顺时针正测12个均布点，逆时针反测 12个均布点。
[0031 ]本发明的原理是:双平面镜自准法，即两个平面镜放置在旋臂的中心与边缘，旋臂 随轴系做圆周运动，自准直仪发出的激光经过两个平面镜反射回形成自准直光路，通过多 次严格的基准过渡实现旋臂在旋转运动过程中的变形角度β的测量，最终通过角度换算计 算出旋臂弯沉量的测量As。
[0032]本发明与现有技术相比具有如下优点：
[0033] (1)检测基准光轴精确定位；
[0034] (2)多次基准有效过渡并准确传递；
[0035] (3)检测装置简易，容易搭建；
[0036] (4)检测装置稳定性好；
[0037] (5)精密轴系晃动误差与检测误差有效分离。
【附图说明】
[0038]图1是本发明旋臂运动变形示意图（在Χ0Ζ平面）；
[0039] 图2是本发明旋臂运动变形示意图（在Χ0Υ平面）；
[0040] 图3本发明定心示意图（在Χ0Ζ平面）；
[0041] 图4是本发明建基准示意图（在Χ0Ζ平面）；
[0042]图5是本发明对准基片示意图（在Χ0Ζ平面）；
[0043]图6是本发明测试原理示意图（在Χ0Ζ平面）。
[0044]图中零部件的标号说明：
[0045]丨.精密轴系、 2.旋臂、 2-1.法兰盘、
[0046] 3.四维调整架、 4.第一平面镜 5.百分表、
[0047] 6.对准基片、 7.自准直仪 7-1.激光找像器
[0048] 8.二维平移台 9.第二平面镜
[0049] PQ-精密轴系1旋转轴线；
[0050] AB-第一平面镜4的中心法线；
[0051] β-旋臂2在旋转运动过程中的变形角度；
[0052] s-旋臂2的有效臂长；
[0053] Δ s-旋臂2旋臂在回转运动过程中的垂直变形量；
[0054] X轴一沿旋臂2有效臂长方向；
[0055] z轴一沿精密轴系1旋转轴线PQ方向；
[0056] y轴一垂直于Χ0Ζ平面。
【具体实施方式】
[0057] 为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照 附图，对本发明进一步详细说明。
[0058]如图1-图6示出本发明基于双平面定基准的大型旋臂弯沉量检测方法及装置，包 括精密轴系1、旋臂2、四维调整架3、第一平面镜4、千分表5、对准基片6、自准直仪7、二维平 移台8、第二平面镜9,其中：
[0059] 精密轴系1固定在平台上，旋臂2依靠法兰盘2-1固定在精密轴系1上，精密轴系1带 动旋臂2-起以角速度为ω做匀速圆周运动。第一平面镜4与第二平面镜9分别安装在两个 四维调整架3上，再分别安装在被测旋臂2的中心和边缘两个位置；自准直仪7安装在二维平 移台8上，放置在第一平面镜4正前方;对准基片6套在第一平面镜4的圆周处，十字与小孔标 识与第一平面镜4的镜面平行。
[0060] 所述的精密轴系1为辅助测试精密元件，轴晃:峰谷值PV彡5〃，用于驱动旋臂2进行 圆周运动。
[0061] 所述的旋臂2为被测机械件，由法兰盘2-1与精密轴系1相连，结构主要有悬臂梁、 板、槽、桁架等形式。
[0062] 所述的四维调整架3为精密调整机构，由二维平移与二维角度调节组成，用于调节 第一平面镜4与第二平面镜9的空间位置。二维平移(X轴、y轴)重复定位精度为<5μπι，分辨 力<2μπι;高低俯仰角θ χ和左右偏摆角07的二维角度调节重复定位精度<5〃，分辨力<2〃。
[0063] 所述的第一平面镜4与第二平面镜9均为圆形监测光学元件，直径彡10mm，圆度< 0.05mm，反射率彡80%，光学面的面形偏差:峰谷值PV彡λ/4，均方根值RMS彡λ/20(检测波长 λ = 〇 · 6328μηι)。
[0064] 所述的百分表5为定心仪器，用于监测第一平面镜4的中心法线ΑΒ与精密轴系的旋 转轴线PQ的重合度。
[0065] 所述的对准基片6为定心机械元件，由十字丝标识与小孔标识组成，小孔标识的直 径< 1mm，用于辅助自准仪7完成粗对准。
[0066] 所述的自准直仪7为双轴光电自准直仪，为对准监测仪器，由双轴可调底座、自准 直头、光管、激光找像器7-1等部件组成，用于同时测量水平方向X和垂直方向y的小角度变 化;任意20秒内精度<0. Γ，全程精度<0.25"，分辨力<0.01〃 ；主要用于监测旋臂2在旋转 运动过程中的变形角度β。激光找像器7-1套在自准直仪7的光管前端面，发出的激光束被平 面镜反射回来，根据返回光束来相应的调整第一平面镜4与第二平面镜9或自准直仪7的空 间位置，以使返回的光束返回至原来的光源发射点，实现自准直仪7的粗对准。
[0067] 所述的二维平移台8为调整机构，二维平移(X轴、y轴)重复定位精度为<10μπι，分 辨力彡5μπι;用于调节自准直仪7的空间位置。
[0068] 本发明包括10个步骤:调平一定心一建基准一精对准一对径调整一查看稳定性一 装调两个平面镜一查看回零一复查稳定性一测试，具体步骤如下：
[0069]步骤1、调平:调整放置精密轴系1的大平台与大地平行，此时保证精密轴系与大地 基本水平。
[0070] 步骤2、定心:如图3所示，安装第一平面镜4，将百分表5装卡好后，表头打在第一平 面镜4圆周边缘处，旋转精密轴系360°，查看百分表5的最大读数与最小读数之差，调节第一 平面镜4的四维调节架3的二维平移(X轴、y轴），使百分表5的读数差值<0.1mm。此时，第一 平面镜4的中心法线AB与精密轴系的旋转轴线PQ重合，偏心彡0.1mm。
[0071] 步骤3、建基准:第一平面镜4位置不动，将对准基片6套在第一平面镜4的圆周上， 在第一平面镜4正前方尽可能短的距离处架自准直仪7，自准直仪7套上激光找像器7-1。激 光找像器7-1发出的激光入射到对准基片6的中心小孔内，旋转精密轴系360°，调节自准直 仪7方位、俯仰及平移，使像经第一平面镜4反射返回到激光找像器7-1的发射小孔内，且自 准直仪7示值读数在100〃以内。此时，检测激光形成自准直光路，完成自准直仪7的粗对准。
[0072] 步骤4、精对准:从第一平面镜4上取下对准基片6,自准直仪7对准第一平面镜4中 心位置;微量左右偏摆自准直仪7，使方位示值读数变化△ X在± 1000〃内，观察俯仰示值读 数变化A y大小。若Δ y彡5〃，轻抬自准直仪7自准直头的一侧，直至Δ y<5〃，目的使光电自 准直仪7的十字丝与第一平面镜4镜面平行。此时，完成自准直仪7的精对准，然后用自准直 仪7双轴可调底座的螺丝将光管固定。
[0073] 步骤5、对径调整
[0074] (1)将精密轴系1旋转到0°、180°两个位置，设自准直仪7方位示值读数分别为X1、 X2；
[0075] (2)在0°或180°位置调整第一平面镜4的方位螺钉，将自准直仪7方位示值由X2调 至 lJ(Xl+X2)/2;
[0076] (3)将精密轴系1旋转到90°、270°两个位置，设自准直仪7俯仰示值读数分别为yi、 Y2；
[0077] (4)在90°或270°位置调整第一平面镜4的俯仰螺钉，将自准直仪7俯仰示值由72调 到(yi+y2)/2;
[0078] (5)重复调整第一平面镜4方位、俯仰螺钉，直至^与^差值及71与72差值均在5〃 (精密轴系1轴晃误差）以内，此时精密轴系1的旋转轴线PQ垂直于第一平面镜4的光学镜面； [0079] (6)检查扫平:光电自准直仪7在y方向± 1000〃内，X方向变化< 5〃，目的使自准直 仪7的十字丝调到与第一平面镜4的光学镜面平行；
[0080] (7)上述示值读数为绝对示值，调自准直仪7的方位、俯仰旋钮使示值读数为零附 近，自准直仪7光轴垂直于第一平面镜4的光学镜面。至此，自准直仪7光轴与精密轴系1的旋 转轴线PQ平行。
[0081] 步骤6、查看稳定性:静止放置8小时，观察各调节机构的稳定性：自准直仪7的示值 读数变化<〇.5〃。
[0082] 步骤7、装调两个平面镜：自准直仪7位置不动，取下第一平面镜4,如图6所示位置 安装第一平面镜4、第二平面镜9,调节第一平面镜4与第二平面镜9的方位、俯仰螺钉，同步 骤5对径调整直至自准直仪7方位、俯仰示值差值<20〃。
[0083] 步骤8、查看回零:将旋臂2转回0°位置清零作为零位，顺时针正转旋臂360°，查看 回零情况;为消除精密轴系1间隙误差，顺时针稍微过零位一个角度再回到零位，再逆时针 反转360°，查看回零情况。若回零值>1〃，重复步骤7,直至回零值<1〃。此时，调整完毕。
[0084] 步骤9、复查稳定性:静止放置8小时，观察各调节机构的稳定性：自准直仪7的示值 读数变化<〇.5〃。
[0085] 步骤10、测试:转动精密轴系1，以零位为起点，顺时针正测12个均布点，逆时针反 测12个均布点。
[0086]将正测和反测采样点分别按傅里叶级数展开：
[0088] 式中：
[0089] η-采样点个数;k 一谐波次数，Θ-转角位置；
[0090] 参数项：
[0092] 第k次项傅立叶系数：
[0095] 将正测、反测的数据分别用谐波分析去除一次谐波量作为旋臂2变形角度β的结 果；
[0096] 则旋臂2的弯沉量Δ s = s · tgP。
[0097] 本发明未详细阐述的部分属于本领域的公知技术。
[0098] 以上所述，仅为本发明中的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任 何熟悉该技术的人在本发明所揭露的技术范围内，可理解想到的变换或替换，都应涵盖在 本发明的包含范围之内。
【主权项】
1. 一种基于双平面定基准的大型旋臂弯沉量检测装置，其特征在于：包括精密轴系 (1)、旋臂(2)、四维调整架(3)、第一平面镜(4)、千分表(5)、对准基片(6)、自准直仪(7)、二 维平移台（8)和第二平面镜(9)，其中： 精密轴系（1)固定在平台上，旋臂（2)依靠法兰盘(2-1)固定在精密轴系（1)上，精密轴 系（1)带动旋臂(2) -起以角速度为ω做匀速圆周运动，第一平面镜(4)与第二平面镜(9)分 别安装在两个四维调整架(3)上，再分别安装在旋臂（2)的旋转中心和边缘两个位置；自准 直仪(7)安装在二维平移台（8)上，放置在第一平面镜(4)正前方;对准基片(6)套在第一平 面镜(4)的圆周处，十字与小孔标识与第一平面镜(4)的镜面平行。2. 根据权利要求1所述的基于双平面定基准的大型旋臂弯沉量检测装置，其特征在于： 所述精密轴系（1)为辅助测试精密元件，轴晃:峰谷值PVS5"，用于驱动旋臂(2)进行圆周运 动。3. 根据权利要求1所述的基于双平面定基准的大型旋臂弯沉量检测装置，其特征在于： 所述旋臂（2)为被测机械件，由法兰盘(2-1)与精密轴系（1)相连，结构主要有悬臂梁、板、 槽、桁架等形式。4. 根据权利要求1所述的基于双平面定基准的大型旋臂弯沉量检测装置，其特征在于： 所述四维调整架(3)为精密调整机构，由二维平移与二维角度调节组成，用于调节第一平面 镜(4)与第二平面镜(9)的空间位置，X轴、y轴二维平移重复定位精度为<5μπι，分辨力<1μ m;高低俯仰角θ χ和左右偏摆角07的二维角度调节重复定位精度<5〃，分辨力<2〃。5. 根据权利要求1所述的基于双平面定基准的大型旋臂弯沉量检测装置，其特征在于： 所述第一平面镜(4)与第二平面镜(9)均为圆形监测光学元件，直径彡10mm，圆度<0.05_， 反射率彡80%，光学面的面形偏差：峰谷值PV彡λ/4,均方根值RMS彡λ/20,检测波长λ = 0.6328um〇6. 根据权利要求1所述的基于双平面定基准的大型旋臂弯沉量检测装置，其特征在于： 所述对准基片(6)为定心机械元件，由十字丝标识与小孔标识组成，小孔标识的直径< 1_， 用于辅助自准仪(7)完成粗对准。7. 根据权利要求1所述的基于双平面定基准的大型旋臂弯沉量检测装置，其特征在于： 所述自准直仪(7)为双轴光电自准直仪，为对准监测仪器，包括双轴可调底座、自准直头、光 管和激光找像器(7-1)，用于同时测量水平方向X和垂直方向y的小角度变化;任意20秒内精 度$0.1"，全程精度<0.25"，分辨力<0.01〃；用于监测旋臂（2)在旋转运动过程中的变形 角度Θ，激光找像器(7-1)套在自准直仪(7)的光管前端面，发出的激光束被平面镜反射回 来，根据返回光束来相应的调整第一平面镜(4)与第二平面镜(9)或自准直仪(7)的空间位 置，以使返回的光束返回至原来的光源发射点，实现自准直仪(7)的粗对准。8. 根据权利要求1所述的基于双平面定基准的大型旋臂弯沉量检测装置，其特征在于： 所述二维平移台（8)为调整机构，X轴、y轴二维平移重复定位精度为<10μπι，分辨力<5μπι; 用于调节自准直仪(7)的空间位置。9. 一种基于双平面定基准的大型旋臂弯沉量检测方法，利用权利要求1所述的基于双 平面定基准的大型旋臂弯沉量检测装置，其特征在于:包括步骤如下： 步骤1、调平:调整放置精密轴系（1)的大平台与大地平行，此时保证精密轴系与大地基 本水平； 步骤2、定心：安装第一平面镜(4)，将百分表(5)装卡好后，表头打在第一平面镜(4)圆 周边缘处，旋转精密轴系360°，查看百分表(5)的最大读数与最小读数之差，调节第一平面 镜(4)的四维调节架(3)的X轴、y轴二维平移，使百分表(5)的读数差值< 0.1mm，此时，第一 平面镜(4)的中心法线AB与精密轴系的旋转轴线PQ重合，偏心彡0.1mm; 步骤3、建基准：第一平面镜（4)位置不动，将对准基片（6)套在第一平面镜(4)的圆周 上，在第一平面镜(4)正前方架自准直仪(7 )，自准直仪(7)套上激光找像器(7-1 )，激光找像 器(7-1)发出的激光入射到对准基片(6)的中心小孔内，旋转精密轴系360°，调节自准直仪 (7)方位、俯仰及平移，使像经第一平面镜(4)反射返回到激光找像器(7-1)的发射小孔内， 且自准直仪(7)示值读数在100〃以内，此时，检测激光形成自准直光路，完成自准直仪(7)的 粗对准； 步骤4、精对准：从第一平面镜(4)上取下对准基片（6)，自准直仪(7)对准第一平面镜 (4)中心位置;微量左右偏摆自准直仪(7 )，使方位示值读数变化△ X在± 1000〃内，观察俯仰 示值读数变化A y大小，若Δ y彡5〃，轻抬自准直仪(7)自准直头的一侧，直至Δ y < 5〃，目的 使光电自准直仪(7)的十字丝与第一平面镜(4)镜面平行，此时，完成自准直仪(7)的精对 准，然后用自准直仪(7)双轴可调底座的螺丝将光管固定； 步骤5、对径调整 (1) 将精密轴系（1)旋转到0°、180°两个位置，设自准直仪(7)方位示值读数分别为X1、 X2； (2) 在0°或180°位置调整第一平面镜(4)的方位螺钉，将自准直仪(7)方位示值由χ2调到 (Xl+X2)/2; (3) 将精密轴系（1)旋转到90°、270°两个位置，设自准直仪(7)俯仰示值读数分别为yi、 Y2； (4) 在90°或270°位置调整第一平面镜(4)的俯仰螺钉，将自准直仪(7)俯仰示值由72调 到(yi+y2)/2; (5) 重复调整第一平面镜(4)方位、俯仰螺钉，直至x々X2差值及71与72差值均在5〃以内， 此时精密轴系（1)的旋转轴线PQ垂直于第一平面镜(4)的光学镜面； (6) 检查扫平:光电自准直仪(7)在y方向± 1000〃内，X方向变化<5〃，目的使自准直仪 (7)的十字丝调到与第一平面镜(4)的光学镜面平行； (7) 上述示值读数为绝对示值，调自准直仪(7)的方位、俯仰旋钮使示值读数为零附近， 自准直仪(7)光轴垂直于第一平面镜(4)的光学镜面，至此，自准直仪(7)光轴与精密轴系 (1)的旋转轴线PQ平行； 步骤6、查看稳定性:静止放置8小时，观察各调节机构的稳定性：自准直仪(7)的示值读 数变化<〇.5〃； 步骤7、装调两个平面镜：自准直仪(7)位置不动，取下第一平面镜(4)，重新安装第一平 面镜(4)、第二平面镜(9)，调节第一平面镜(4)与第二平面镜(9)的方位、俯仰螺钉，同步骤5 对径调整直至自准直仪(7)方位、俯仰示值差值<20〃； 步骤8、查看回零:将旋臂（2)转回0°位置清零作为零位，顺时针正转旋臂360°，查看回 零情况;为消除精密轴系（1)间隙误差，顺时针稍微过零位一个角度再回到零位，再逆时针 反转360°，查看回零情况，若回零值>1〃，重复步骤7,直至回零值<1〃，此时，调整完毕； 步骤9、复查稳定性:静止放置8小时，观察各调节机构的稳定性：自准直仪(7)的示值读 数变化<〇.5〃； 步骤10、测试:转动精密轴系（1)，以零位为起点，顺时针正测12个均布点，逆时针反测 12个均布点。
【文档编号】G01B5/00GK106091903SQ201610365519
【公开日】2016年11月9日
【申请日】2016年5月27日
【发明人】林昭珩, 杨伟, 吴时彬, 张海妮, 曹学东, 艾勇
【申请人】中国科学院光电技术研究所