基坑侧壁位移监测装置的制造方法

文档序号:8578829阅读:833来源:国知局
基坑侧壁位移监测装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种基坑侧壁位移监测装置。
【背景技术】
[0002]基坑是指为进行建筑物基础与地下室的施工所开挖的地面以下的基础空间,是一种典型的岩土工程结构,在土木建筑和交通工程中相当普遍;基坑施工是对岩土体开挖和加固的复杂过程。通常情况下,基坑的失稳和塌方主要表现为侧壁变形不断增大而导致破坏,因此在施工中对基坑侧壁位移的监测对于确保安全具有至关重要的作用。现有技术中的基坑侧壁位移的监测手段主要采用测斜仪,这种手段一方面成本较高,另一方面需要通过在土层中钻孔或者在围护粧中预埋的方式来安装测斜管,时常由于土质体不能成孔或者测斜管堵塞而导致测斜过程无法进行;现有技术中还有采用全站仪作为基坑侧壁位移的监测手段,设备昂贵、监测时不方便;如何提供一种适用范围广、低成本、使用方便的基坑侧壁位移监测装置,目前现有技术中尚未存在有效的解决方案。

【发明内容】

[0003]本实用新型针对以上问题的提出,而研制一种移动灵活、成本低的基坑侧壁位移监测装置。
[0004]本实用新型的技术方案是:
[0005]一种基坑侧壁位移监测装置,包括:支撑框架、置于所述支撑框架上的基座、通过第一转轴安装在基座上的竖向架、通过第二转轴安装在所述竖向架上的横向架、以及固定在所述横向架上的激光测距仪;所述竖向架能够绕第一转轴转动,所述横向架能够绕第二转轴转动;所述第一转轴的轴线与所述第二转轴的轴线垂直;
[0006]进一步地,所述基座上布设有以竖向架轴线为中心的圆形刻度盘;
[0007]进一步地,在水平放置的横向架上下两侧对称设置有扇形刻度盘;
[0008]进一步地,所述支撑框架包括一长方形底框和4个与底框平面垂直连接的立柱;所述立柱上端部连接所述基座。
[0009]由于采用了上述技术方案,本实用新型提供的基坑侧壁位移监测装置,本实用新型移动灵活,成本低廉,操作简单,携带方便,完成基坑侧壁位移监测工作不需要通过在土层中钻孔或者在围护粧中预埋的方式来安装测斜管等复杂操作;通过横向架在竖直方向的转动,以及竖向架在水平面上的周向转动,可以实现激光测距仪大范围的测点监测,尤其适合基坑短边部位的变形和侧壁深部的水平变形;本实用新型适用范围广,能够快速地同时对基坑多部位的变形作出判断,有助于分析基坑受力特点和变形趋势,进而有利于较好的进tx基坑安全评估。
【附图说明】
[0010]图1是本实用新型所述位移监测装置的结构示意图;
[0011]图2是用于定位本实用新型所述位移监测装置的测站平台示意图;
[0012]图3是本实用新型所述位移监测装置的使用示意图。
[0013]图中:1、支撑框架,2、基座,3、第一转轴,4、竖向架,5、第二转轴,6、横向架,7、激光测距仪,8、圆形刻度盘,9、扇形刻度盘,10、锁紧螺栓,11、底框,12、立柱,13、定位界线,14、测站平台,15、定位点,16、反光片,17、混凝土墙,18、围护粧。
【具体实施方式】
[0014]如图1所示的一种基坑侧壁位移监测装置,包括:支撑框架1、置于所述支撑框架I上的基座2、通过第一转轴3安装在基座2上的竖向架4、通过第二转轴5安装在所述竖向架4上的横向架6、以及固定在所述横向架6上的激光测距仪7 ;所述竖向架4能够绕第一转轴3转动,所述横向架6能够绕第二转轴5转动;所述第一转轴3的轴线与所述第二转轴5的轴线垂直;进一步地,所述基座2上布设有以竖向架4轴线为中心的圆形刻度盘8 ;进一步地,在水平放置的横向架6上下两侧对称设置有扇形刻度盘9 ;进一步地,所述支撑框架I包括一长方形底框11和4个与底框11平面垂直连接的立柱12 ;所述立柱12上端部连接所述基座2 ;所述圆形刻度盘8用于确定绕第一转轴3转动后的竖向架4的位置;所述扇形刻度盘9用于确定绕第二转轴5转动后的横向架6的位置;所述横向架6和竖向架4可以根据测点位置进行转动,待位置确定后,固定横向架6和竖向架4,然后进行测距。
[0015]在利用本实用新型所述位移监测装置进行基站侧壁位移监测时,首先设置基坑的测站位置,图2示出了用于定位本实用新型所述位移监测装置的测站平台14示意图,该测站平台14采用混凝土做成标准尺寸,置于基坑的围护粧18上,并标记好定位界线13,将支撑框架I边沿与所述定位界线13重合,采用重锤定位确定定位点15,进而保证每次监测时支撑框架I位置不变。
[0016]如图3所示,具体地,本实用新型所述位移监测装置使用时按照如下工作步骤进行:
[0017]1、首先在基坑一侧的混凝土墙17上,每隔一定间距修建图2示出的测站平台14,并标记好定位界线13 ;
[0018]2、每次监测时,将所述位移监测装置的支撑框架I边沿与定位界线13重合,采用重锤定位,保证每次监测基座2位置不变;
[0019]3、根据测点位置转动横向架6实现竖直方向的上下调整,通过扇形刻度盘9上布设的刻度实现定位(当横向架6向下转动时,下侧的扇形刻度盘用于定位,当横向架6向上转动时,上侧的扇形刻度盘用于定位),然后固定横向架6的位置,具体可以通过锁紧螺栓10将横向架6固定到竖向架4上;
[0020]4、转动竖向架4实现其在水平面上的周向调整,通过圆形刻度盘8上布设的刻度实现角度定位,然后固定竖向架4的位置,具体可以通过锁紧螺栓10将竖向架4固定到基座2上;
[0021]5、测点位置确定后,激光测距仪7对准测点的反光片16,进行测距;
[0022]6、寻找另一个测点,重复3至5,直到所有范围内测点均测量完毕;
[0023]7、寻找下一个设站地点,重复2至6,直到所有设站地点都监测完毕,则本周期的基坑侧壁位移监测结束。
[0024]本实用新型移动灵活,成本低廉,操作简单,携带方便,完成基坑侧壁位移监测工作不需要通过在土层中钻孔或者在围护粧中预埋的方式来安装测斜管等复杂操作;通过横向架在竖直方向的转动,以及竖向架在水平面上的周向转动,可以实现激光测距仪大范围的测点监测,尤其适合基坑短边部位的变形和侧壁深部的水平变形;本实用新型适用范围广,能够快速地同时对基坑多部位的变形作出判断,有助于分析基坑受力特点和变形趋势,进而有利于较好的进行基坑安全评估。
[0025]以上所述,仅为本实用新型较佳的【具体实施方式】,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种基坑侧壁位移监测装置,其特征在于包括:支撑框架、置于所述支撑框架上的基座、通过第一转轴安装在基座上的竖向架、通过第二转轴安装在所述竖向架上的横向架、以及固定在所述横向架上的激光测距仪;所述竖向架能够绕第一转轴转动,所述横向架能够绕第二转轴转动;所述第一转轴的轴线与所述第二转轴的轴线垂直。
2.根据权利要求1所述的基坑侧壁位移监测装置,其特征在于所述基座上布设有以竖向架轴线为中心的圆形刻度盘。
3.根据权利要求1所述的基坑侧壁位移监测装置,其特征在于在水平放置的横向架上下两侧对称设置有扇形刻度盘。
4.根据权利要求1所述的基坑侧壁位移监测装置,其特征在于所述支撑框架包括一长方形底框和4个与底框平面垂直连接的立柱;所述立柱上端部连接所述基座。
【专利摘要】本实用新型公开了一种基坑侧壁位移监测装置,包括:支撑框架、置于所述支撑框架上的基座、通过第一转轴安装在基座上的竖向架、通过第二转轴安装在所述竖向架上的横向架、以及固定在所述横向架上的激光测距仪;所述竖向架能够绕第一转轴转动,所述横向架能够绕第二转轴转动;所述第一转轴的轴线与所述第二转轴的轴线垂直;本实用新型能够快速地同时对基坑多部位的变形作出判断,有助于分析基坑受力特点和变形趋势,进而有利于较好的进行基坑安全评估。
【IPC分类】G01B11-02, G01B11-16
【公开号】CN204286365
【申请号】CN201420857711
【发明人】姜泓任
【申请人】姜泓任
【公开日】2015年4月22日
【申请日】2014年12月30日
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