一种粉末x射线衍射仪样品防污染装置的制造方法

文档序号:9052790阅读:398来源:国知局
一种粉末x射线衍射仪样品防污染装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种粉末X射线衍射仪样品防污染装置,属于机械技术领域。
【背景技术】
[0002]现有的粉末X射线衍射仪测角仪有立式和卧式两种,对于立式测角仪,样品采取水平放置,测试过程中一般不易从样品架上滑落,而对于卧式测角仪,由于测试时样品是垂直立于样品固定柱中央,对于颗粒较为粗大或附着性不好的粉末样品,会很容易从样品架上滑落到样品室底部而污染样品。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型提供一种粉末X射线衍射仪样品防污染装置,此装置为圆柱形,套在原样品固定柱外壁上,起到固定作用。
[0004]为解决以上技术问题,本实用新型提供如下技术方案:一种粉末X射线衍射仪样品防污染装置,粉末X射线衍射仪包括样品杆、样品固定弹片、样品粘结片,样品粘结在竖直安装的样品粘结片上,在样品的下方设有样品接收平台,样品接收平台与样品粘结片相接。
[0005]进一步地,所述样品杆的外圆面开有环形凹槽,样品杆上套接套筒,该套筒恰好套在环形凹槽处;套筒顶部连接样品接收平台。
[0006]进一步地,所述套筒的侧壁高度相等。
[0007]进一步地,所述套筒的外径与样品杆的外径相等。
[0008]进一步地,所述样品接收平台的横截面形状为半圆形,其半径与样品杆半径相等。
[0009]进一步地,所述样品接收平台与套筒为一体式结构。
[0010]本实用新型涉及的这种粉末X射线衍射仪样品防污染装置,为了实现样品滑落后能落在干净的区域,便于回收再利用,套筒上端有一半圆形平台,与样品接收平台大小完全相同,刚好置于样品底下,一旦样品落下,会落在干净平台上,轻轻取出套筒,样品即可被无污染回收。
【附图说明】
[0011]图1为本实用新型一种粉末X射线衍射仪样品防污染装置剖视图。
[0012]图2为本实用新型一种粉末X射线衍射仪样品防污染装置侧视图。
【具体实施方式】
[0013]如图1和图2所示,一种粉末X射线衍射仪样品防污染装置,粉末X射线衍射仪包括样品杆4、样品固定弹片2、样品粘结片1,样品粘结在竖直安装的样品粘结片I上,在样品的下方设有样品接收平台5,样品接收平台5与样品粘结片I相接。
[0014]样品杆4的外圆面开有环形凹槽,样品杆上套接套筒3,该套筒3恰好套在环形凹槽处;套筒3顶部连接样品接收平台5。
[0015]套筒3的侧壁高度相等;套筒3的外径与样品杆4的外径相等,可以保持样品杆的整体性。
[0016]样品接收平台5的横截面形状为半圆形,其半径与样品杆半径相等,样品接收平台用于接住从样品粘结片I中掉下来的样品,以利于回收再利用。
[0017]所述样品接收平台5与套筒3为一体式结构,材质为金属,如不锈钢,可以采取铸造的方法获得。结构简单,制造方法简单,不影响整套粉末X射线衍射仪的正常工作。该样品接收平台的固定比较稳固,也不会在长期的使用中,因结构不紧凑而失效。
[0018]本实用新型所述的【具体实施方式】并不构成对本申请范围的限制,凡是在本实用新型构思的精神和原则之内,本领域的专业人员能够作出的任何修改、等同替换和改进等均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种粉末X射线衍射仪样品防污染装置,其特征在于,包括样品杆、样品固定弹片、样品粘结片,样品粘结在竖直安装的样品粘结片上,在样品的下方设有样品接收平台,样品接收平台与样品粘结片相接;所述样品杆的外圆面开有环形凹槽,样品杆上套接套筒,该套筒恰好套在环形凹槽处;套筒顶部连接样品接收平台。2.根据权利要求1所述的一种粉末X射线衍射仪样品防污染装置,其特征在于, 所述套筒的侧壁高度相等。3.根据权利要求1所述的一种粉末X射线衍射仪样品防污染装置,其特征在于, 所述套筒的外径与样品杆的外径相等。4.根据权利要求1所述的一种粉末X射线衍射仪样品防污染装置,其特征在于, 所述样品接收平台的横截面形状为半圆形,其半径与样品杆半径相等。5.根据权利要求1所述的一种粉末X射线衍射仪样品防污染装置,其特征在于, 所述样品接收平台与套筒为一体式结构。
【专利摘要】本实用新型提供一种粉末X射线衍射仪样品防污染装置,粉末X射线衍射仪包括样品杆、样品固定弹片、样品粘结片,样品粘结在竖直安装的样品粘结片上,在样品的下方设有样品接收平台,样品接收平台与样品粘结片相接。本实用新型涉及的这种粉末X射线衍射仪样品防污染装置,为了实现样品滑落后能落在干净的区域,便于回收再利用,套筒上端有一半圆形样品接收平台,一旦样品落下,会落在干净平台上,轻轻取出套筒,样品即可被无污染回收。
【IPC分类】G01N23/20
【公开号】CN204705602
【申请号】CN201520289166
【发明人】张 杰, 王连文, 寇昕莉
【申请人】兰州大学
【公开日】2015年10月14日
【申请日】2015年5月7日
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