自动控制共聚焦显微荧光仪的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种用于观察分析新材料分子或原子量级大小的装置，尤其涉及一种自动控制共聚焦显微荧光仪，属于显微电子设备领域。
【背景技术】
[0002]纳米材料是指在三维空间中至少有一个维度的尺寸小于10nm或者由它们作为基本单元构成的材料。由于它的尺寸已经接近电子的相干长度，它的性质因为强相干所带来的自组织使得性质发生很大变化，如光学、热学、电学、磁学、力学以及化学方面的性质和块体材料相比将会有显著的不同。所以，纳米尺度和性能特异变化是纳米材料必须同时具备的两个基本特征。
[0003]半导体纳米材料的量子尺寸效应和表面与界面等效应，使其表现出独特的光学特性，如光学发光性、吸收带边蓝移、激子发光等。尤其是I1-VI族一维纳米材料，它们是宽的直接带隙半导体材料，是典型的光电半导体材料。带隙半导体材料，是典型的光电半导体材料。以砸化镉为(CdSe)例，作为典型的光电半导体材料之一，本身具有独特的光电学性质，在作为光源、光吸收、光波导、光致发光和光电转换等方面有着广阔的应用前景。
[0004]目前国内尚无成熟的专门用来制备半导体纳米材料相关样品的装置，也没有配套的测试仪器。
【实用新型内容】
[0005]为了克服现有技术的不足，解决好现有技术的问题，弥补现有目前市场上现有产品的不足。
[0006]本实用新型提供了一种自动控制共聚焦显微荧光仪，主要包括激光发射器、第一狭缝、第一半反半透镜、滤光片、第二半反半透镜、照相机、显微物镜、样品台、狭缝、第三狭缝、光谱仪、第一聚光透镜、准直透镜、第二聚焦透镜、第三聚焦透镜、控制器、CCD探测器和计算机，所述计算机通过控制器与激光发射器连接，所述光谱仪连接CCD探测器，CCD探测器连接计算机。
[0007]优选的，按照激光光路的方向依次设置激光器、第一狭缝、第一半反半透镜、第二狭缝、第三狭缝和光谱仪。
[0008]优选的，上述激光发射器和第一狭缝之间设置有第一聚光透镜，第一狭缝和第一半反半透镜之间设置有第二聚光透镜，所述第一半反半透镜和第二狭缝之间设置有第三聚光透镜，第二狭缝和第三狭缝之间设置有第三聚光透镜。
[0009]优选的，按照激光光路方向还依次设置有激光器、第一狭缝、第一半反半透镜、显微物镜和样品台。
[0010]优选的，按照激光光路方向还依次设置有激光器、第一狭缝、第一半反半透镜、滤光片、第二半反半透镜和照相机。
[0011]本实用新型提供的自动控制共聚焦显微荧光仪，可以得到材料带隙、缺陷、杂质能级以及复合机制等参数信息，通过对发光谱中峰位、半高宽等的分析，为科学实验提供证据。
【附图说明】
[0012]图1为本实用新型结构示意图。
[0013]附图标记:1_激光发射器；2_第一狭缝；3_第一半反半透镜；4_滤波片；5-第二半反半透镜；6_照相机；7_显微物镜；8_样品台；9_第二狭缝；10_第三狭缝；11_光谱仪；12-第一聚光透镜；13-准直透镜；14-第二聚光透镜；15-第三聚光透镜；16-控制器；17-CCD探测器；18-计算机。
【具体实施方式】
[0014]为了便于本领域普通技术人员理解和实施本实用新型，下面结合附图及【具体实施方式】对本实用新型作进一步的详细描述。
[0015]本实用新型提供的自动控制共聚焦显微荧光仪，主要结构如图1所示，主要包括激光发射器1、第一狭缝2、第一半反半透镜3、滤光片4、第二半反半透镜5、照相机6、显微物镜7、样品台8、狭缝9、第三狭缝10、光谱仪11、第一聚光透镜12、准直透镜13、第二聚焦透镜14、第三聚焦透镜15、控制器16、(XD探测器17和计算机18，计算机18通过控制器16与激光发射器I连接，光谱仪11连接CXD探测器17，CXD探测器17连接计算机18。激光发射器I和第一狭缝2之间设置有第一聚光透镜12，第一狭缝2和第一半反半透镜3之间设置有第二聚光透镜13，第一半反半透镜3和第二狭缝9之间设置有第三聚光透镜14，第二狭缝9和第三狭缝10之间设置有第三聚光透镜15。
[0016]按照激光光路的方向依次设置激光器1、第一狭缝2、第一半反半透镜3、第二狭缝9、第三狭缝10和光谱仪11。
[0017]按照激光光路方向还依次设置有激光器1、第一狭缝2、第一半反半透镜3、显微物镜7和样品台8。
[0018]按照激光光路方向还依次设置有激光器1、第一狭缝2、第一半反半透镜3、滤光片4、第二半反半透镜5和照相机6。
[0019]本实用新型提供的自动控制共聚焦显微荧光仪，其工作原理为:激光器I出射激光经由外部光路进入显微镜7照射到样品上，样品受到激光的激发，产生光致发光，样品发出的光由显微镜7的物镜进行收集，经过显微镜7里的镜片组(半反半透的透镜)变成平行光，使得样品所发荧光分为两部分，一部分进入照相机6进行成像，一部分经由透镜聚焦后进入光谱仪11，通过计算机18来控制控制器16，从而可以控制激光发射的参数，而CCD探测器17通过计算机18的连接可以显示出结果。
[0020]通过对光致发光峰的分析我们可以得到:物质的特征电子跃迀，粒子是否有表面缺陷发光，样品的发光性能、能级结构和表面状态等信息。
[0021]以上所述之【具体实施方式】为本实用新型的较佳实施方式，并非以此限定本实用新型的具体实施范围，本实用新型的范围包括并不限于本【具体实施方式】，凡依照本实用新型之形状、结构所作的等效变化均在本实用新型的保护范围内。
【主权项】
1.一种自动控制共聚焦显微荧光仪，其特征在于:所述自动控制共聚焦显微荧光仪主要包括激光发射器(I)、第一狭缝(2)、第一半反半透镜(3)、滤光片(4)、第二半反半透镜(5)、照相机(6)、显微物镜(7)、样品台(8)、狭缝(9)、第三狭缝(10)、光谱仪(11)、第一聚光透镜(12)、准直透镜(13)、第二聚焦透镜(14)、第三聚焦透镜(15)、控制器(16)、C⑶探测器(17)和计算机(18)，所述计算机(18)通过控制器(16)与激光发射器(I)连接，所述光谱仪(11)连接CCD探测器(17)，CCD探测器(17)连接计算机(18)。2.根据权利要求1所述的自动控制共聚焦显微荧光仪，其特征在于:按照激光光路的方向依次设置激光器(I)、第一狭缝(2)、第一半反半透镜(3)、第二狭缝(9)、第三狭缝(10)和光谱仪(11)。3.根据权利要求1所述的自动控制共聚焦显微荧光仪，其特征在于:所述激光发射器(I)和第一狭缝⑵之间设置有第一聚光透镜(12)，第一狭缝(2)和第一半反半透镜(3)之间设置有第二聚光透镜(13)，所述第一半反半透镜(3)和第二狭缝(9)之间设置有第三聚光透镜(14)，第二狭缝(9)和第三狭缝(10)之间设置有第三聚光透镜(15)。4.根据权利要求2所述的自动控制共聚焦显微荧光仪，其特征在于:按照激光光路方向还依次设置有激光器(I)、第一狭缝(2)、第一半反半透镜(3)、显微物镜(7)和样品台5.根据权利要求1所述的自动控制共聚焦显微荧光仪，其特征在于:按照激光光路方向还依次设置有激光器(I)、第一狭缝(2)、第一半反半透镜(3)、滤光片(4)、第二半反半透镜(5)和照相机(6)。
【专利摘要】本实用新型涉及一种自动控制共聚焦显微荧光仪，主要包括激光发射器(1)、第一狭缝(2)、第一半反半透镜(3)、滤光片(4)、第二半反半透镜(5)、照相机(6)、显微物镜(7)、样品台(8)、狭缝(9)、第三狭缝(10)、光谱仪(11)、第一聚光透镜(12)、准直透镜(13)、第二聚焦透镜(14)、第三聚焦透镜(15)、控制器(16)、CCD探测器(17)和计算机(18)，所述计算机(18)通过控制器(16)与激光发射器(1)连接，所述光谱仪(11)连接CCD探测器(17)，CCD探测器(17)连接计算机(18)。本实用新型提供的自动控制共聚焦显微荧光仪，可以得到材料带隙、缺陷、杂质能级以及复合机制等参数信息，通过对发光谱中峰位、半高宽等的分析，为科学实验提供证据。
【IPC分类】G01N21/64
【公开号】CN204807457
【申请号】CN201520474605
【发明人】陈小梅
【申请人】陈小梅
【公开日】2015年11月25日
【申请日】2015年7月2日