一种可拆卸的交流塞曼石墨炉原子化器的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及原子化技术，具体涉及一种交流塞曼石墨炉原子化器。
【背景技术】
[0002]石墨炉原子化器是目前无火焰原子化技术中使用最广泛的原子化方法。石墨炉原子化法主要是在惰性气体氛围(如氩气)的石墨管中利用电加热的方式使注入管中的待测试样原子化。由于注入的试样几乎可以完全原子化，而且对那些易形成难解离氧化物的元素，由于没有氧的大量存在，所以能获得较好的原子化效率。
[0003]1959年，L’ vov发表了关于石墨管原子化器的论文，并对石墨炉技术在定量计算、温度测定等方面进行详细的讨论。L’ vov采用的是将石墨坩祸处于可充入氩气的密封状态中，利用电弧使得试样原子化。石墨坩锅炉由于结构复杂、操作繁琐而限制了其被广泛应用。Massmann于1968年设计了一种结构较为简单、易于操作的纵向电阻加热石墨炉原子化器，这种原子化器不久即被广泛的应用。Massmann型石墨炉是在石墨管的两端通过大电流加热快速升温使试样达到原子化状态。
[0004]石墨炉原子化技术虽然降低了元素的检出限，但较大的背景干扰不可避免，因此需要合适的背景校正技术与之匹配。
[0005]光谱谱线在磁场中分裂的现象称为塞曼效应，是由Zeeman发现的，塞曼效应其实质是一种磁光效应，是原子中能级发生了裂变而引起光谱线的裂变。塞曼效应可分为正常塞曼效应和反常塞曼效应。
[0006]1968年，Schrenk等研究了空心阴极灯发射的磁效应，尝试通过磁场，增加发射谱线轮廓与吸收谱线轮廓的重叠区域。1969年，PRUGGER和T0RGE申请专利DE1964469，应用塞曼效应进行背景校正，随后两年中，塞曼效应即被应用于原子吸收的背景校正。1971年，Hadeishi和McLaughlin应用塞曼效应原子吸收测定了基质材料中的痕量Hg ；Hadeishi还利用19SHg同位素位移塞曼效应测定了环境样品中的痕量Hg含量。早期的许多关于塞曼背景校正的研究都是使用恒定磁场，Koizumi和Yasuda对这种结构做了详细的研究。以上这些塞曼背景校正的研究都是将磁场直接置于原子吸收的辐射光源上，相应的商品仪器有德国的SM-1型塞曼原子吸收光谱仪。
[0007]1976年，Koizumi和Yasuda对磁场置于原子化器部分，将磁场方向与光源福射光束方向垂直的塞曼背景校正方式进行了研究，并观察了垂直与平行磁场方向的偏振吸收情况。随后，Koizumi等又对这种结构做了详细的研究报道；Dawson等及Fernandez等对原子化器塞曼效应的性能，包括灵敏度、线性范围和背景校正结果等做了研究；1978年，DeLoos-Vollebregt和De Gal an将磁场调制模式引入塞曼背景校正中，其在石墨炉处加上横向交变磁场，结果证明这种模式可同时校正非吸收线和背景衰减。Brodie和Liddell将这种校正方法应用于6cm的火焰燃烧器上，同时对该方法的性能进行了研究。以上讨论的是将磁场置于原子化器处；且磁场方向都是与光束传播方向垂直(横向)的塞曼校正方法。相应恒定磁场方式的商品化仪器有日本Hitachi公司的Z8000和Z5000等系列仪器；而交变磁场方式被Perkin-Elmer、瓦里安和热电等各大公司采用，并且发展了纵向磁场置于原子化器的塞曼背景校正商品仪器(例如Perkin-Elmer的AA800和GBC)。
[0008]传统塞曼石墨炉原子化器结构复杂，难于精确校装其在光路中的精确位置，造成光能量损失，使原子吸收光谱仪的噪音水平增加，检出限降低。当用户更换石墨管、石墨锥等维护操作之后，传统塞曼石墨炉原子化器将进一步的偏离设计位置，从而造成原子吸收光谱仪的性能的进一步降低。
【实用新型内容】
[0009]针对传统塞曼石墨炉原子化器结构复杂、装配调试困难，造成塞曼石墨炉原子化器性能降低的问题，本实用新型的目的在于提供一种易于装配，方便调试的石墨炉原子化器，当用户进行更换石墨管石墨锥等维护操作之后，完全无须调整石墨炉原子化器；从而在不影响仪器性能，数据质量的前提下降低了维护的时间，提高了工作效率。
[0010]为达到上述目的，本实用新型的技术方案如下:
[0011]一种可拆卸的交流塞曼石墨炉原子化器，其包括:
[0012]—可调节底座，所述可调节底座包括至少两个方形支架和可调节底板组件；所述方形支架安置在原子吸收光谱仪基座的垂直安装端，所述可调节底板组件安置在方形支架的垂直安装端；
[0013]一交流塞曼磁场组件，所述交流塞曼磁场组件包括前磁场部件、后磁场部件，所述前磁场部件与后磁场部件连接；所述前磁场与后磁场在通电线圈的激励下产生用于背景校正的交流磁场；所述前磁场组件安置在可调节底板的垂直安装端，所述后磁场组件安置在可调节底板的垂直安装端；
[0014]—石墨炉炉头组件，所述石墨炉炉头组件安置在后磁场组件的水平安装端，并使石墨管的轴心与光路重合；所述石墨炉炉头组件包括气缸炉头、石墨锥和石墨管；所述气缸炉头与石墨锥连接，所述石墨锥与石墨管连接，所述石墨管用于将被测样品原子化。
[0015]在本实用新型的一个实施例中，可调节底座可调节底板组件安置在方形支架的垂直安装端，可调节底板组件包括原子化器平台，垂直于平台方向高低位置调节杆、抱杆、前后位置调节杆，前后位置调节弹簧，沿光轴方向俯仰姿态调节螺钉。
[0016]在本实用新型的一个实施例中，所述交流塞曼磁场组件包括前磁场组件和后磁场组件，所述前磁场组件和后磁场组件通过两根导轨连接，并用螺钉固定在可调节底板上，通过搭扣固定在抱杆上，激励磁场用的线圈缠绕在铁芯上，并通过接线座与外部电源连接。
[0017]在本实用新型的一个实施例中，所述石墨炉炉头组件，包括石墨炉底座，左右石墨炉头，左右石墨锥，石墨管，气缸，导杆，光敏管，石墨管保护内气，石墨管保护外气接头，石英窗；石墨炉底座通过两根导杆连接在塞曼磁场组件上，气缸安装体通过螺钉安装在石墨炉底座的垂直安装端，左石墨炉头通过螺钉安装在气缸安装体的垂直安装端，右石墨炉头通过螺钉安装在气缸杆的安装端；同时左右石墨炉头通过两根导杆相连接；左石墨锥通过左石墨炉头的安装孔安装在左石墨炉头的垂直面上，右石墨锥通过右石墨炉头的安装孔安装在右石墨炉头的垂直面上；石墨管通过左右石墨锥的斜面，安装在左右石墨锥之间；并使石墨管轴心与光路重合。
[0018]由此构成的石墨炉原子化器结构简单，易于装配，并可简单方便地调整原子化器在光谱仪光路中的精确位置及姿态。用户在使用该原子化器进行更换石墨管石墨锥等维护工作时，无须重新调校该原子化器。大大降低了使用成本和提高了工作效率。
【附图说明】
[0019]以下结合附图和【具体实施方式】来进一步说明本实用新型。
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