一种适用于沿面闪络的平面电极结构的制作方法

文档序号:10441142阅读:713来源:国知局
一种适用于沿面闪络的平面电极结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及高压放电领域,特别涉及一种适用于沿面闪络的平面电极结构。
【背景技术】
[0002]沿面闪络研究通常是根据工程实际抽象得来的,而电极的布置方式对试验过程与结果有着显著的影响。依据电极结构以及与介质材料的不同接触方式,典型的电极系统实验模型可主要由平行平板电极系统、针一板电极系统以及平面电极结构,其中平行平板电极系统是早期研究沿面闪络最常用的一种结构形式,适合具有轴对称结构几何形状的圆柱与圆台等试样,但这种电极结构下的试样难以加工,并且试样表面缺陷对闪络特性影响十分明显,发生闪络的位置也具有很大的随机性,不适合应用光学或表面电位测量等;针-板电极系统适合对表面电位的分布进行精确观测,但试样与电极接触紧密情况会明显影响沿面闪络电压,放电也具有较大的分散性。
[0003]平面电极结构是近来采用较多的一种电极系统,其特点是将阴极和阳极间隔一定距离分别固定平放在试样表面上,其优点在于对试样的形状和厚度没有特殊要求,并可以进行光学观察和实时表面电位测量。但通常使用的平面电极结构也存在电极和试样表面接触间有微小气隙,这会导致电极一真空一介质材料交界处的能带将发生畸变,对试验结果造成不可预估的影响。
[0004]因此,提出一种简单可靠的平面电极结构,对开展真空条件下绝缘子沿面闪络特性研究,减少放电试验的分散性,具有重要的研究价值。

【发明内容】

[0005]本实用新型的目的在于提供一种结构简单、可靠性高、可操作性强的适用于沿面闪络的平面电极系统。
[0006]本实用新型是通过以下技术方案实现的:
[0007]—种适用于沿面闪络的平面电极结构,包括被测绝缘子以及均采用离子溅射仪冷溅射金膜在被测绝缘子的表面形成的高压电极和地电极,所述高压电极和地电极对称设置。
[0008]作为优化,所述高压电极和地电极的形状均为圆形。
[0009]作为优化,所述高压电极和地电极的厚度为0.Ιμπι。
[0010]作为优化,所述被测绝缘子为片状、板状或薄膜状。
[0011 ]本实用新型的有益效果是:
[0012]本实用新型结构简单,易于制作,放电分散性小;平面电极结构由离子溅射仪冷溅射金膜在绝缘子表面形成,可以完全避免传统金属电极与绝缘子间存在的微气隙,减少电极一真空一绝缘子交界处电场畸变,提高了沿面闪络放电的可靠性;可以灵活调节高压电极与地电极之间的距离,电压调节范围广。具有较好的实际应用价值和推广价值。
【附图说明】
[0013]下面结合附图对一种适用于沿面闪络的平面电极结构作进一步说明:
[0014]图1是一种适用于沿面闪络的平面电极结构的结构示意图。
[0015]图中:I为高压电极、2为地电极、3为被测绝缘子。
【具体实施方式】
[0016]为使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下参照附图并举实施例,对本实用新型进一步详细说明。
[0017]如图1所示,一种适用于沿面闪络的平面电极结构,包括被测绝缘子3以及均采用离子溅射仪冷溅射金膜在被测绝缘子3的表面形成的高压电极I和地电极2,所述高压电极I和地电极2对称设置。
[0018]如此设计,结构简单,易于制作,放电分散性小;平面电极结构由离子溅射仪冷溅射金膜在绝缘子表面形成,可以完全避免传统金属电极与绝缘子间存在的微气隙,减少电极一真空一绝缘子交界处电场畸变,提高了沿面闪络放电的可靠性;可以灵活调节高压电极与地电极之间的距离,电压调节范围广。
[0019]具体的,所述高压电极I和地电极2的形状均为圆形。如此设计,可保证两电极间的电场均匀度。
[0020]具体的,所述高压电极I和地电极2的厚度为0.Ιμπι。如此设计,效果较好。
[0021 ]具体的,所述被测绝缘子3为板状。
[0022]使用方法:将高压引线通过导电胶粘贴在金膜圆形高压电极I中心,接地引线通过导电胶粘贴在金膜圆形地电极2中心,开启真空设备,待真空度达到预设值后,施加高压,形成沿面闪络放电,获得被测绝缘子3的沿面闪络数据。
[0023]本实用新型结构简单,易于制作,放电分散性小;平面电极结构由离子溅射仪冷溅射金膜在绝缘子表面形成,可以完全避免传统金属电极与绝缘子间存在的微气隙,减少电极一真空一绝缘子交界处电场畸变,提高了沿面闪络放电的可靠性;可以灵活调节高压电极与地电极之间的距离,电压调节范围广。
[0024]上述【具体实施方式】仅是本实用新型的具体个案,并非是对本实用新型作其它形式的限制,任何熟悉本专业的技术人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或改型为等同变化的等效实施方式。但是凡是未脱离本实用新型技术原理的前提下,依据本实用新型的技术实质对以上实施方式所作的任何简单修改、等同变化与改型,皆应落入本实用新型的专利保护范围。
【主权项】
1.一种适用于沿面闪络的平面电极结构,其特征在于:包括被测绝缘子以及均采用离子溅射仪冷溅射金膜在被测绝缘子的表面形成的高压电极和地电极,所述高压电极和地电极对称设置。2.如权利要求1所述的一种适用于沿面闪络的平面电极结构,其特征在于:所述高压电极和地电极的形状均为圆形。3.如权利要求2所述的一种适用于沿面闪络的平面电极结构,其特征在于:所述高压电极和地电极的厚度为0.Ιμπι。4.如权利要求1所述的一种适用于沿面闪络的平面电极结构,其特征在于:所述被测绝缘子为片状、板状或薄膜状。
【专利摘要】一种适用于沿面闪络的平面电极结构,包括被测绝缘子以及均采用离子溅射仪冷溅射金膜在被测绝缘子的表面形成的高压电极和地电极,所述高压电极和地电极对称设置;所述高压电极和地电极的形状均为圆形;所述高压电极和地电极的厚度为0.1μm;所述被测绝缘子为片状、板状或薄膜状。本实用新型结构简单,易于制作,放电分散性小;平面电极结构由离子溅射仪冷溅射金膜在绝缘子表面形成,可以完全避免传统金属电极与绝缘子间存在的微气隙,减少电极—真空—绝缘子交界处电场畸变,提高了沿面闪络放电的可靠性;可以灵活调节高压电极与地电极之间的距离,电压调节范围广。
【IPC分类】G01R31/16
【公开号】CN205353297
【申请号】CN201520970629
【发明人】张振军, 郑健, 李秀卫, 袁海燕, 王斌, 王辉, 任敬国, 李 杰, 师伟, 云玉新
【申请人】国网山东省电力公司电力科学研究院, 国家电网公司
【公开日】2016年6月29日
【申请日】2015年11月30日
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