用于钟表的防脱扣游丝的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种用于钟表调速件（100）的防脱扣机构（1），该机构包括游丝（2），该游丝具有卷绕成圈（3）的带（20），其中，内圈（4）固定在内桩（6）上，该内桩与所述游丝（2）关于枢轴轴线（D）同轴，外圈（5）固定在钩挂元件（7）上。所述游丝（2）的至少一个圈（3）包括至少一个指状部（8），该指状部与所述圈（3）安装成一体并能够在所述游丝（2）的正常延伸或收缩期间在包含在所述防脱扣机构（1）的法兰（11）内的行程限制通道（10）中没有任何接触地移动；所述通道（10）构造成：当施加到所述内桩（6）上的枢转角度大于所确定的标称值时，限制所述指状部（8）相对于所述枢轴轴线（D）的行程。
【专利说明】用于钟表的防脱扣游丝
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种游丝，该游丝具有至少一个卷绕成多个圈的片或带，其中，在所述圈中，在第一端部，内圈固定在内桩上，该内桩与所述游丝关于枢轴轴线同轴，在相对的第二端部，外圈固定在钩挂元件上。
[0002]本发明还涉及一种用于钟表调速件的防脱扣/防跃过(ant1-trip)机构，该防脱扣机构包括至少一个游丝，该游丝具有卷绕成多个圈的带，其中，在第一端部，内圈固定在内桩上，该内桩与所述游丝关于枢轴轴线同轴；在相对的第二端部，外圈固定在钩挂元件上。
[0003]本发明还涉及一种包括调速件的钟表机芯，该调速件具有游丝摆轮谐振器，该游丝摆轮谐振器包括至少一个防脱扣机构，其中，所述至少一个游丝安装在摆轮轴上，该摆轮轴在机板和法兰/凸缘(flange)之间枢转。
[0004]本发明还涉及一种制造防脱扣机构的方法，该方法包括第一步骤:取衬底，该衬底包括由硅基材料制成的上层和下层。
[0005]本发明涉及用于钟表的调速件的领域，且更具体地涉及游丝。
【背景技术】
[0006]在机械表中，擒纵机构必须满足多个安全标准。其中一种安全装置是防脱扣系统，该系统设计成防止摆轮的角延伸超过正常的转动角度。在过大的加速度期间，尤其是在受到冲击时，该防脱扣系统限制摆轮的枢转角度。该系统对于某些类型的擒纵机构、尤其是制动式擒纵机构是必须的。防脱扣机构必须能够在摆轮枢转的两个方向上作用，即，在游丝的延伸和收缩期间作用。
[0007]在Montres Breguet SA名义下的EP专利1801 668B1提出了一种系统，该系统的结构的特征在于，其包括安装在摆轮轴上的小齿轮。该小齿轮与齿轮啮合，如果将摆轮驱动超过其正常的转动角度，则所述齿轮的至少一个交叉点抵靠在固定的止动件上。然而，该机构对摆轮的惯性有影响并会干扰其振荡。包含在其中的传动装置产生摩擦，该摩擦降低了效率并还可能干扰调速系统。
[0008]在Montres Breguet SA名义下的EP专利申请N0.1 666 990A2公开了另一种基于游丝的扩展的防脱扣系统。将固定在游丝的外圈上的锁止臂插在与摆轮一体的指状部和与摆夹板一体的两个柱状件之间。仅在游丝过度扩展而超出超过其正常的工作角度的角度时发生锁定。然而，该机构仅限制在一个转动方向上的转动角度，而优选的是限制在两个转动方向上的转动角度。
[0009]在Nivarox-Far SA名义下的EP专利N0.2450756A1中公开的系统使用与摆轮一体的机板，该机板引导在螺旋状凹槽中的销。在异常振荡期间，与枢转臂一体的销被停止并突然限制振荡。在摆轮振荡期间，在这种机构中固有的摩擦对摆轮造成干扰。
[0010]在Montres Breguet SA名义下的EP专利N0.2 196 867A1公开了一种具有抬高的圈的硅游丝，该硅游丝包括通过抬高装置彼此连接在一起的外圈和端圈，该抬高装置可包括用作连接件的支架或在这两个圈之间的隔离件。除了实际的游丝之外，这些圈不与其它构件接触。
[0011]在George Ensign名义下的US专利N0.3 041 819A公开了一种具有游丝扩展限制装置的游丝摆轮，该游丝扩展限制装置一方面由安装在摆轮上并与其轴线平行地延伸的销和另一方面由固定在游丝的外圈上的止动块形成。
[0012]在Philip Harland名义下的US专利N0.3 696 687A公开了一种塑料细弹簧，该塑料细弹簧包括大量连接桥，以允许材料在模制期间流动，然后这些桥被切割以取出圈，而没有任何其它具体功能。
[0013]在Montres Breguet SA名义下的EP专利N0.2 434 353A1公开了一种防脱扣游丝，其中，在游丝的收缩和延伸期间，属于连续圈的凹口相互钩挂在一起。
【发明内容】
[0014]因此，本发明设计成通过不干扰摆轮的惯性并通过限制摆轮在两个转动方向上的角行程来克服现有技术的这些缺陷。
[0015]本发明提出将在EP专利N0.1 666 990A2中公开的机构和在EP专利申请N0.101899987中公开的机构的优点结合起来，并提出一种使用少量构件的可靠的解决方案，所述构件能够使用与由可微机械加工的材料制成的摆轮和游丝的制造相关的技术制成。
[0016]因此，本发明涉及一种游丝，该游丝具有至少一个卷绕成多个圈的片或带，其中，在所述圈中，在第一端部，内圈固定在内桩上，该内桩与所述游丝关于枢轴轴线同轴；在相对的第二端部，外圈固定在钩挂元件上，其特征在于，所述游丝的至少一个所述圈承载或包括至少一个指状部，该指状部与所述至少一个圈安装成一体。
[0017]根据本发明的特征，所述指状部包括至少一个探测器轴(feeler spindle)，该探测器轴优选沿与所述枢轴轴线基本上平行的方向基本上垂直于所述圈在其中延伸的平面延伸。
[0018]本发明还涉及一种用于钟表调速件的防脱扣机构，该防脱扣机构包括至少一个游丝，该游丝具有卷绕成多个圈的带，其中，在第一端部，内圈固定在内桩上，该内桩与所述游丝关于枢轴轴线同轴；在相对的第二端部，外圈固定在钩挂元件上，其特征在于，所述游丝的至少一个所述圈包括至少一个指状部，该指状部与所述至少一个圈安装成一体并能够在所述游丝的正常延伸或收缩期间在包含在所述防脱扣机构的法兰内的行程限制通道中没有任何接触地移动；所述通道构造成:当施加到所述内桩上的枢转角度大于所确定的标称值时，限制所述指状部相对于所述枢轴轴线的行程。
[0019]本发明还涉及一种包括调速件的钟表机芯，该调速件具有游丝摆轮谐振器，该游丝摆轮谐振器包括至少一个防脱扣机构，其中，所述至少一个游丝安装在摆轮轴上，该摆轮轴在机板和所述法兰之间枢转，其特征在于，所述游丝的所述带由弹性自锁垫圈延伸，该弹性自锁垫圈形成所述内桩以将所述游丝定位在所述摆轮轴上，以控制阿基米德螺旋线的原点的距离和取向(orientation)，所述带相对于所述摆轮的枢轴轴线在阿基米德螺旋线上延伸。
[0020]本发明还涉及一种制造防脱扣机构的方法，该方法包括第一步骤:[0021]a)取衬底，该衬底包括由硅基材料制成的上层和下层；
[0022]其特征在于，该方法还包括以下步骤:
[0023]b)在所述上层中选择性地蚀刻至少一个凹腔，以限定所述圈的至少一个硅基的指状部;
[0024]c)将硅基材料的附加层固定到所述衬底的经蚀刻的所述上层上；
[0025]d)在所述附加层中选择性地蚀刻至少一个凹腔，以延续所述至少一个指状部的图案并限定游丝和一元件以及所述游丝的硅基材料的内桩的图案；
[0026]e)在所述下层中选择性地蚀刻至少一个凹腔，以延续所述至少一个指状部的图案并限定一法兰的图案，该法兰包括用于所述至少一个指状部的至少一个行程限制通道；
[0027]f)从所述衬底取出所述防脱扣机构。
【专利附图】
【附图说明】
[0028]当参照附图阅读下面的详细描述时，可以更清楚地发现本发明的其它特征和优点，其中:
[0029]图1示出从游丝侧看到的根据本发明的防脱扣装置的示意性透视图，该游丝包含在防脱扣装置中并处于休息位置。
[0030]图2示出在具有几个构件的实施例中的上述类型的防脱扣机构的示意性透视分解图。
[0031]图3示出根据本发明的防脱扣装置的示意性俯视图，其中，游丝处于休息位置。
[0032]图4示出图3中的机构，其中，游丝处于最大延伸位置。
[0033]图5示出图3中的机构，其中，游丝处于最大收缩位置。
[0034]图6示出图3中的机构，其中，该机构处于冲击施加到游丝或该机构上的位置，在该过程中，由游丝的圈承载的指状部与包含在本发明的机构的法兰内的限制通道接触。
[0035]图7示出图3的机构沿线A-A的剖视图，该机构示出为由可微机械加工的材料制成的具体的单件式变型方案，该变型方案由具有三层的晶片制成，其中，钩挂元件与法兰是一体的。
[0036]图7A以与图7类似的方式示出另一变型方案，该变型方案由具有五层的晶片制成，其中，在两个氧化物层之间的硅中间层确定在游丝和法兰之间的工作距离的尺寸，该尺寸比根据图7获得的尺寸大得多。
[0037]图8以与图7类似的方式示出另一变型方案，其中，钩挂元件相对于法兰是自由的。
[0038]图9以与图7A类似的方式示出另一变型方案，其中，根据本发明的机构包括在单个法兰的两侧上的两个游丝。
[0039]图10以与图3类似的方式示出本发明的可选机构，其中，游丝承载多个指状部，每个指状部的运动由特定的限制通道限制。
[0040]图11用方块图示出包括游丝摆轮调速件的钟表机芯，该调速件包括根据本发明的防脱扣机构，其中，游丝经由其内桩固定在相对于机板枢转的摆轮上。
[0041]图12以示意性的方式示出用于制造由可微机械加工的材料制成的根据图7A的单件式变型方案的防脱扣机构的基本方法的一系列操作。[0042]图13示出图3的变型方案的示意性俯视图，其中，限制通道的外周表面包括阻尼
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【具体实施方式】
[0043]本发明涉及用于钟表的调速件领域，更具体地涉及游丝。
[0044]本发明设计成通过不干扰摆轮的惯性且尤其是在工作期间将摩擦降至最小并通过限制摆轮在两个转动方向上的角行程来克服现有技术的缺陷。
[0045]因此，本发明涉及 一种游丝2，该游丝2具有至少一个卷绕成多个圈3的片或带
20。在这些圈3中，在第一端部24，内圈4固定在内桩6上，该内桩6与游丝2关于枢轴轴线D同轴。在相对的第二端部25，外圈5固定在钩挂元件7上。
[0046]根据本发明，游丝2的至少一个圈3承载或包括至少一个指状部8。该指状部8与所述至少一个圈3安装成一体。优选地，该指状部8包括至少一个探测器轴端(feelerspindle stud) 81,该探测器轴端81沿与枢轴轴线D优选基本上平行的方向延伸，即，基本上垂直于各圈3在其中延伸的平面延伸。
[0047]因为探测器轴端81的方向平行于枢轴轴线，所以在探测器轴端81和实际的指状部8之间有所区别。该探测器轴端81的尺寸形成为与同凸轮轨道相似的轨道相互协作。
[0048]本发明还涉及一种用于钟表调速件100的防脱扣机构I。该机构I包括至少一个游丝2。
[0049]游丝的指状部8与所述至少一个圈3安装成一体，在游丝2的正常延伸或收缩期间，所述至少一个探测器轴端81可以在包含在防脱扣机构I的至少一个法兰11内的至少一个行程限制通道10中没有任何接触地移动。所述至少一个法兰11优选在与各圈3在其中延伸的平面平行的平面内延伸。
[0050]至少一个通道10构造成:当施加到内桩6上的枢转角大于所确定的标称值时，尤其是在由于冲击或类似情况而存在剧烈加速期间，限制指状部8相对于枢轴轴线D的行程。
[0051]对指状部8的行程的限制，更具体地，对其探测器轴端81的行程的限制，可以差动地实现。如图2至图9所示，通道10可既包括内限制路径又包括外限制路径，其中，每个通道10包括内表面12和外表面13。在附图未示出的变型方案中，它还可仅具有内路径或仅具有外路径:例如，游丝的指状部8可在两个法兰11之间移动，每个法兰11都包括通道10，其中，一个具有内路径，另一个具有外路径；在这种情况下，指状部8具有在游丝2的两侧上的两个探测器轴81。该变型方案还防止游丝的任何无意的弯曲，例如在发生冲击时。
[0052]图1至图3示出游丝2在休息位置处的同一机构。此时，指状部8与通道10的壁没有任何接触。
[0053]优选地，该通道10在中面14的两侧对称或基本上对称地延伸，该中面14平行于枢轴轴线D延伸并且在与所述枢轴轴线D垂直的平面内具有优选螺旋圈形状的轮廓，该轮廓采用承载指状部8的圈3在休息位置处的轮廓。当然，面14可采用类似的轮廓，例如圆柱形或类似的扇形。在图1至图6示出的特定的非限制性实施例中，通道10在称作“纵向方向”的方向上由两个端表面18和19限制，所述端表面18和19分别对应于游丝2的最大延伸位置和游丝2的最大收缩位置。通道10在称作“径向方向”的方向上由内表面12和外表面13进一步限制。当然，通道10的轮廓可以是连续的，并由平行于枢轴轴线D的具有变化的凹度的单个表面形成。
[0054]因此，指状部8的行程在平面的所有方向上都由通道10限制。
[0055]因此，在正常工作期间，指状部8远离通道10的内边缘12和外边缘13，并且优选地指状部8的固有轨迹与中面14的几何形状相同，该中面14与边缘12和13等距。
[0056]如图4所示，在端表面18和19的极限点之间的、中心位于枢轴轴线D上的圆心角α优选对应于给予指状部8的最大角度幅值,该最大角度幅值对应于所涉及的通道10，该通道10固定在内桩6上。该角度取决于摆轮30的幅度，该摆轮30的轴31压到形成内桩6的自锁垫圈26中。在这一点上，内桩优选形成为具有多个臂的弹性星的形状，所述多个臂施加分布在轴31的圆周上的扣紧力。根据承载指状部8的圈3靠近枢轴轴线D的程度，在端表面18和19之间的曲线距离是变化的，所涉及的圈3距轴线D越远，该曲线距离越大。例如，对于靠近中心的圈3的通道10，角α可以接近300° ;但是对于第五圈的通道，该角度可以更大并且可超过一圈；各通道10的圈状轨道允许所有的角度值。因此，角α取决于距离枢轴轴线(在将指状部8和轴线D分开的圈的数量方面)的距离和摆轮的幅度，因此必须相应地改变。
[0057]在径向方向上，内表面12和外表面13通过一定距离间隔开，根据所选取的实施例，该距离可以是变化的或恒定的。该距离垂直于轴线D的最大值在这里称为“L”。
[0058]图6示出当冲击施加到游丝2或机构I上时的结构。在发生冲击时，指状部8或至少一个指状部8 (如果有多个的话)与形成在法兰11中的限制通道10的内表面中的其中一个接触。
[0059]在图7示出的有利的非限制性的实施例中，钩挂元件7固定在法兰11上或通过设计与法兰11形成为一体。在其它实施例中，尤其是在图8中，钩挂元件7相对于法兰11是自由的，然后将钩挂元件7固定在机板32、桥夹板或其它元件上。
[0060]在图1至图8示出的变型方案中，游丝2在第一侧从划界平面(delimitingplane) P延伸，法兰11在划界平面P的另一侧至少在游丝2的最大突出表面处延伸。
[0061]在特定实施例中，游丝2与内桩6或形成所述内桩6的自锁垫圈26以及与钩挂元件7制成一体，如图2所示。
[0062]在优选实施例中，游丝2与内桩6或形成所述内桩6的自锁垫圈26以及与钩挂元件7和法兰11制成一体，如图7至图9所示。
[0063]除了每个指状部8的第一段8W之外，第一厚度层级El包括在垂直于轴线D的两个平行的平面Pl和P2之间的游丝2、内桩6和钩挂元件7。
[0064]第二厚度层级E2包括在垂直于轴线D的两个平行的平面P2和P3之间的每个指状部8的至少第二段8X，如图8所示。在图7的优选示例中，该第二层级还包括在钩挂元件7和法兰11之间的连接段TL。
[0065]第三厚度层级E3包括在垂直于轴线D的两个平行的平面P3和P4之间的每个指状部8的第三段80以及法兰11或至少其一部分。法兰11包括中心孔15，该中心孔15用于固定在内桩6上的可动元件且尤其是摆轮30的轴31的通过。法兰11包括围绕每个指状部8的限制通道10。当然，同一限制通道8可适于接纳多个指状部8，但是，在这种情况下，当它提供用于所述指状部的径向限制时，它仅提供部分纵向限制，即，仅在一侧上提供限制或根本不提供限制。因此，优选的实施例在于，为每个指状部8都分配限制通道10，如图10所示，其中，这些通道10是非连续的。这种结构还通过以下方式为机构I的防脱扣动作提供了一些改进:通过以不同方式限制各指状部8的行程，通过在角度限制方面(如图8所示，在最里面的通道10的圆心角α大于在最外面的通道IOA的圆心角αΑ)或者在径向限制方面(如图8所示，各自的宽度L和LA是不同的)给予它们的限制通道10以不同的轮廓，或者通过这些限制的组合或者仅通过每个限制表面10的轮廓的实际形状。
[0066]在有利的变型实施例中，游丝2设计成在游丝的角变形期间其重心总是位于中心处。
[0067]在图7至图9示出的优选变型实施例中，防脱扣机构I完全由可微机械加工的材料制成，优选由具有SOI晶片的单晶硅或多晶硅和/或氧化硅制成，其中，在元件层中蚀刻游丝2,在操作层(handle layer)中蚀刻法兰11和指状部8的第三部分80。该实施例适于在图1和图3至图6和图10中示出的变型方案的实施，且尤其适于在游丝2和法兰11之间获得非常小的距离，典型地约I微米。
[0068]用可微机械加工的材料实施还允许图13中的变型方案的实施，其中，限制通道10的外周表面包括阻尼装置:在端表面18和19处的、可在通道10和腔室58、59之间移动的弹性凸耳48和49，以及在内表面12和外表面13上的、用于将通道10与袋形区52、53分隔开的薄弹性壁42和43。
[0069]图9示出防脱扣机构I的变型方案，该防脱扣机构包括同轴安装的第二游丝2A，其中，在两个外层中蚀刻第二游丝2A和游丝2，在内层中蚀刻法兰11和指状部8的第三部分80。
[0070]如图11所示，本发明还涉及一种钟表机芯200，该机芯200包括具有游丝摆轮谐振器的调速件100，该游丝摆轮谐振器包括至少一个防脱扣机构I，其中，至少一个游丝2安装在摆轮30的轴31上，轴31在机板32和法兰11之间枢转，法兰11有利地是机构I的法兰。根据本发明，游丝2的带20由弹性自锁垫圈26延伸，该弹性自锁垫圈26形成内桩6以将游丝2定位在摆轮30的轴31上，以控制阿基米德螺旋线的原点的距离和取向，带20相对于摆轮30的枢轴轴线D沿该阿基米德螺旋线延伸。
[0071]法兰11固定在机板32上。有利地，其位置是可调整的，尤其是在角度上可调整的，从而可以简单地使游丝作节奏运动，且尤其是调整休息点。
[0072]为了将根据本发明的防脱扣机构I制成一体件，可使用各种制造方法。
[0073]作为非限制性示例，由可微机械加工的材料制成的实施例可通过下列方法中的其中一种实现:
[0074]用于制造图7的机构I或图8的机构I的传统方法在于提供具有两个硅层级和一个氧化物层——尤其是3丨02层——的SOI晶片。晶片由三个夹在一起的层形成。在平面P2和P3之间的中间氧化物层8X、7X的厚度为约2 μ m，在平面P3和P4之间的外下硅层的厚度典型地为300 μ m，在平面Pl和P2之间的上硅层为100 μ m。在这种情况下，在图7中，在游丝2的圈3和元件11之间的距离是2 μ m并由氧化物限定。
[0075]在形成晶片之后，第一步骤在于:蚀刻上硅层，以使所需要保留的构件的轮廓清晰，所述构件在这里为游丝2、内桩6、钩挂元件7以及指状部8的顶部8W ;并且在氧化物层的边界处停止蚀刻。
[0076]第二步骤在于:蚀刻下硅层，以使所需要保留的构件的轮廓清晰，所述构件在这里为法兰11以及指状部8的探测器轴端81的体部80 ;并且在氧化物层的边界处停止蚀刻。
[0077]第三步骤在于:蚀刻中间氧化硅层，以便仅留下连接区域:一方面在顶部8W和体部80之间的指状部8的8X，和另一方面在钩挂元件7和法兰11之间的TL.[0078]用于制造图7A的机构I或图9的机构I的另一方法在于提供具有三个硅层级以及将所述硅层级成对地分隔开的两个氧化物层级的SOI晶片:将附加层附加到SOI硅晶片基体上(事实上，附加典型地为2 μ m的氧化物层和典型地为100 μ m的硅层)。在这种情况下，在图7A中，在游丝2的圈3和元件11之间的层在平面P3和平面P4之间的厚度为IOOym并由硅层8A、7Y限定。氧化物不再是功能层。由于游丝2的圈3不可能粘贴到元件11上，所以这是有利的。利用该第二方法可以制造图9的变型方案，在该变型方案中，在游丝2的圈3和元件11之间的距离为2 μ m并且该距离由氧化物层8X、7X限定，在游丝2A的圈和元件11之间的距离为2 μ m并且该距离由氧化物层8X和7AX限定。
[0079]在图7A中实施第二方法的顺序如图12所示并包括第一步骤:
[0080]a)取400衬底410，该衬底410包括由硅基材料制成的上层420和下层430。
[0081]该方法还包括以下步骤:
[0082]b)在上层420中选择性地蚀刻500至少一个凹腔510，以限定游丝2的硅基材料的至少一个指状部8 ；
[0083]c)将硅基材料的附加层440固定600到衬底410的经蚀刻的上层420上；
[0084]d)在附加层440中选择性地蚀刻700至少一个凹腔710，以延续所述至少一个指状部8的图案并限定游丝2和钩挂元件7以及游丝的硅基材料的内桩6的图案；
[0085]e)在下层430中选择性地蚀刻800至少一个凹腔810，以延续所述至少一个指状部8的图案并限定法兰11的图案，该法兰11包括用于限制所述至少一个指状部8的行程的至少一个通道10。
[0086]f)从衬底410取出900防脱扣机构I。
[0087]本领域技术人员当然可提供上述方法的变型方案或实施类似的方法，尤其是遵循由Nivarox-Far SA公开的、与由可微机械加工的材料制成的游丝或钟表机芯构件的发展有关的专利申请的教导启示。具有高弹性模量、尤其是大于50000N/mm2且尤其是大于100000N/mm2的材料可以有利地从金属玻璃或至少部分非晶态的材料中选取。
[0088]优选地,用于最大距角α的标称值优选为300°。
[0089]指状部8的定位优选在靠近轴线的其中一个圈上获得，如图1至图6所示。
[0090]简言之，本发明的原理是使用指状部8连同限制通道10 —起限制游丝2的幅度。在正常工作期间，指状部8不会摩擦到通道10，因为其固有轨迹与通道10的几何形状是相同的。通道10的尺寸形成为在发生过大幅度的情况下限制摆轮30的行程。位于指状部8和枢轴轴线D之间的、在过大幅度期间仍然工作的圈3确定根据本发明的防脱扣机构I的刚性。在包括多个指状部8并且每个指状部8在与其相关的通道10中的变型方案通过差动地改变游丝的保持工作的圈3的数量使机构I的动作得到了改进。
[0091]通过不会损害机芯的总厚度的厚度非常小的机构，本发明提供了所需要的优点:
[0092]-由于在正常操作期间指状部8不会摩擦到其通道10，所以在系统的正常行程期间游丝摆轮系统的惯性和运动不会被干扰；
[0093]-由根据本发明的机构I提供的幅度限制在两个转动方向上都工作。
【权利要求】
1.一种用于钟表调速件(100)的防脱扣机构(I),该防脱扣机构(I)包括至少一个游丝(2)，该游丝具有卷绕成多个圈(3)的带(20)，其中，在第一端部(24)，内圈(4)固定在内桩(6)上，该内桩(6)与所述游丝(2)关于枢轴轴线(D)同轴；在相对的第二端部(25)，外圈(5)固定在钩挂元件(7)上，其特征在于，所述游丝(2)的至少一个所述圈(3)包括至少一个指状部(8 )，该指状部(8 )包括至少一个探测器轴端(81)并与所述至少一个圈(3 )安装成一体；所述至少一个探测器轴端(81)在所述游丝(2)的正常延伸和收缩期间能够在包含在所述防脱扣机构(I)的法兰(11)内的行程限制通道(10 )中没有任何接触地移动；所述通道(10)构造成:当施加到所述内桩(6)上的枢转角度大于所确定的标称值时，限制所述指状部(8)相对于所述枢轴轴线(D)的行程。
2.根据权利要求1所述的防脱扣机构(1)，其特征在于，所述至少一个探测器轴端(81)沿与所述枢轴轴线(D)基本上平行的方向基本上垂直于所述不同圈(3)在其中延伸的平面延伸。
3.根据权利要求1所述的防脱扣机构(1)，其特征在于，所述钩挂元件(7)固定在所述法兰(11)上。
4.根据权利要求1所述的防脱扣机构(1)，其特征在于，所述游丝(2)在第一侧从划界平面(P)延伸，所述法兰(11)在该划界平面(P)的另一侧至少在所述游丝(2)的最大突出表面处延伸。
5.根据权利要求1所述的防脱扣机构(1)，其特征在于，所述通道(10)为圈的形状。
6.根据权利要求1所述的防脱扣机构(1)，其特征在于，在正常工作期间，所述指状部(8)远离所述通道(10)的边缘(12 ；13);所述指状部(8)的固有轨迹与中面(14)的几何形状相同，该中面(14)与所述通道(10)的所述边缘(12，13)等距。
7.根据权利要求1所述的防脱扣机构(1)，其特征在于，所述游丝(2)与所述内桩(6)、所述钩挂元件(7 )和所述法兰(11)制造成一体。
8.根据权利要求7所述的防脱扣机构(1)，其特征在于，所述机构完全由具有SOI晶片的单晶硅或多晶硅制成，其中，在元件层中蚀刻所述游丝(2)，在操作层中蚀刻所述法兰(11)和所述指状部(8)。
9.根据权利要求7所述的防脱扣机构(1)，其特征在于，所述机构完全由具有SOI晶片的硅制成，并包括同轴安装的第二游丝(2A)，其中，在两个外层中蚀刻所述第二游丝(2A)和所述游丝(2 )，在内层中蚀刻所述法兰(11)和所述指状部(8 )。
10.根据权利要求1所述的防脱扣机构(I)，其特征在于，所述游丝(2)包括多个所述指状部(8)，每个指状部(8)与一个所述径向行程限制通道(10)相互协作。
11.根据权利要求10所述的防脱扣机构(1)，其特征在于，所述通道(10)是非连续的。
12.—种包括调速件(100)的钟表机芯(200)，该调速件(100)具有游丝摆轮谐振器，该游丝摆轮谐振器包括根据权利要求1所述的至少一个防脱扣机构(1)，其中，所述至少一个游丝(2 )安装在摆轮(30 )的轴(31)上，该轴(31)在机板(32 )和所述法兰(11)之间枢转，其特征在于，所述游丝(2)的所述带(20)由弹性自锁垫圈延伸，该弹性自锁垫圈形成所述内桩以将所述游丝(2)定位在所述摆轮(30)的所述轴(31)上，以控制阿基米德螺旋线的原点的距离和取向，所述带(20 )相对于所述摆轮(30 )的枢轴轴线(D)在阿基米德螺旋线上延伸。
13.—种制造防脱扣机构(I)的方法，该方法包括第一步骤: a)取(400)衬底(410)，该衬底(410)包括由硅基材料制成的上层(420)和下层(430); 其特征在于，该方法还包括以下步骤: b)在所述上层(420)中选择性地蚀刻(500)至少一个凹腔(510)，以限定所述游丝(2)的娃基材料的至少Iv指状部(8)； c)将硅基材料的附加层(440)固定(600)到所述衬底(410)的经蚀刻的所述上层(420)上； d)在所述附加层(440)中选择性地蚀刻(700)至少一个凹腔(710)，以延续所述至少一个指状部(8)的图案并限定游丝(2)和钩挂元件(7)以及所述游丝的硅基材料的内桩(6)的图案； e )在所述下层(430 )中选择性地蚀刻(800 )至少一个凹腔(810 )，以延续所述至少一个指状部(8)的图案并限定一法兰(11)的图案，该法兰(11)包括用于限制所述至少一个指状部(8)的行程的至少一个通道(10)； f)从所述衬底(410)取出(900)所述防脱扣机构(I)。
14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述防脱扣机构(I)完全由具有SOI晶片的硅制成，其中，在元件层中蚀刻所述游丝(2 )和所述至少一个指状部(8 )的固定在所述游丝(2)上并位于限定所述游丝(2)的边界的两个平行平面(P1，P2)之间的一部分，在操作层中蚀刻所述法兰(11)和所述至少一个指状部(8 )的远离所述游丝(2 )并位于包含在所述两个平面(Pl，P2)之间的空间外部的`另一部分。
【文档编号】G04B17/06GK103576527SQ201310316333
【公开日】2014年2月12日 申请日期:2013年7月25日 优先权日:2012年7月25日
【发明者】M·斯特兰策尔, M·韦拉尔多 申请人:尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司