钟表用部件、钟表用机芯以及钟表的制作方法

[0001]
本发明涉及钟表用部件、钟表用机芯以及钟表。


背景技术：

[0002]
以往，钟表用部件是通过对金属材料进行机械加工而形成的，但近年来，从轻量化的观点和加工性的观点来看，使用含有硅的基材来作为钟表用部件的材料。
[0003]
并且，在钟表用部件中，不仅对露出于钟表的外部而使用的部件要求装饰性，还对内置于钟表的内部的部件要求装饰性。
[0004]
例如，在专利文献1中公开了形成具有硅系基板的微型机械钟表部件的装饰表面的方法。
[0005]
专利文献1中记载的方法包括如下的至少1个步骤：针对硅系基板的与所要形成的装饰表面对应的整个区域，在硅系基板的表面上形成细孔。所述细孔被设计成在微型机械钟表部件的外侧表面向外开口。
[0006]
专利文献1：日本特开2017-053853号公报
[0007]
但是，专利文献1中记载的微型机械钟表部件利用通过切削基材而形成的细孔来形成装饰表面，因此存在部件整体的强度降低的趋势。在钟表用部件中，要求在基材上不带有凹凸而进一步提高装饰性。


技术实现要素：

[0008]
本发明的钟表用部件的特征在于，具有：基材，其以硅为主成分；以及光反射层，其是在所述基材上依次层叠第1氧化硅层、硅层以及第2氧化硅层而成的，在俯视观察所述光反射层时，所述光反射层具有第1区域和第2区域，所述第1区域中的所述硅层的厚度与所述第2区域中的所述硅层的厚度不同。
[0009]
在本发明的钟表用部件中，优选所述第1区域中的所述硅层的厚度与所述第2区域中的所述硅层的厚度的尺寸的差为5nm以上且1000nm以下。
[0010]
在本发明的钟表用部件中，优选所述尺寸的差为10nm以上且500nm以下。
[0011]
在本发明的钟表用部件中，优选所述第1区域中的所述硅层的厚度为50nm以上且80nm以下，所述第2区域中的所述硅层的厚度为110nm以上且140nm以下。
[0012]
在本发明的钟表用部件中，优选所述第1区域中的所述硅层的厚度为50nm以上且80nm以下，所述第2区域中的所述硅层的厚度为80nm以上且110nm以下。
[0013]
在本发明的钟表用部件中，优选所述第1区域中的所述硅层的厚度为80nm以上且110nm以下，所述第2区域中的所述硅层的厚度为110nm以上且140nm以下。
[0014]
在本发明的钟表用部件中，优选所述第1区域的颜色与所述第2区域的颜色不同。
[0015]
在本发明的钟表用部件中，优选所述钟表用部件为从由条盒轮、编号轮、擒纵轮、擒纵叉以及摆轮游丝机构构成的组中选出的至少1种。
[0016]
在本发明的钟表用部件中，优选所述钟表用部件是所述擒纵轮，所述擒纵轮的轮
辋部具有所述第1区域和所述第2区域，通过所述第1区域和所述第2区域中的一方来至少显示出文字或标记。
[0017]
在本发明的钟表用部件中，优选所述光反射层还具有第3区域，所述第1区域中的所述硅层的厚度、所述第2区域中的所述硅层的厚度以及所述第3区域中的所述硅层的厚度互相不同。
[0018]
本发明的钟表用机芯的特征在于，具有所述钟表用部件。
[0019]
本发明的钟表的特征在于，具有所述钟表用部件。
[0020]
在本发明的钟表中，优选为透视构造的机械式钟表。
附图说明
[0021]
图1是从表盘侧观察第1实施方式的机械式钟表的平面图。
[0022]
图2是从后盖侧观察第1实施方式的机械式钟表的平面图。
[0023]
图3是第1实施方式的擒纵齿轮部的平面图及x区域的局部放大图。
[0024]
图4是图3所示的x区域的沿着a-a线的局部剖视图。
[0025]
图5是示出由硅基材、第1氧化硅层、硅层以及第2氧化硅层构成的层叠体s中的硅层的厚度与灰度的关系的曲线图。
[0026]
图6a～图6c是对第1实施方式的擒纵齿轮部的制造方法进行说明的剖视图。
[0027]
图7a～图7c是对第1实施方式的擒纵齿轮部的制造方法进行说明的剖视图。
[0028]
图8a～图8c是对第1实施方式的擒纵齿轮部的制造方法进行说明的剖视图。
[0029]
图9是第2实施方式的擒纵齿轮部的局部剖视图。
[0030]
图10是图3所示的x区域的变形例。
[0031]
图11是第3实施方式的擒纵齿轮部的局部剖视图。
[0032]
标号说明
[0033]
1：机械式钟表；2：第1氧化硅层；3：表盘；4：硅层；5：外装壳体；6：第2氧化硅层；7：柄头；8：基材；8a：第1面；8b：第2面；8c：第3面；8d：第4面；10、10a、10b、10c：光反射层；13：摆夹板；21：条盒轮；27：摆轮；28：擒纵叉；29：游丝发条；35：后盖；40：机芯；44a：时针；44b：分针；44c：能量储存针；44d：小秒针；45：轮系；46：框部件；48a：窗；48b：窗；50：自动卷紧机构；51：第四轮；52：传动轮；60：手动卷紧机构；61：圆孔轮；62：方孔传递轮；63：方孔轮；70：调速器；80：擒纵机；90：螺钉；100、200、300：擒纵齿轮部；101：擒纵轮；102：轴部件；103：掩模；110：贯穿插入部；111、111b、111c：轮辋部；112：齿部；113：第1保持部；113a：抵接部；114：第2保持部；114a：第1部分；114b：第2部分；115：保持部；f1：第1区域；f2：第2区域；f3：第3区域；r1、r2：抗蚀剂层；r4：开口部。
具体实施方式
[0034]
〔钟表用部件〕
[0035]
钟表用部件是指，除了包括露出于钟表的外部而使用的钟表用外装部件之外，还包括钟表用内装部件以及用于对钟表的构成部件进行固定的螺钉。
[0036]
作为钟表用外装部件，例如可举出表壳、表带、表盘、钟表用针、表圈、柄头、按钮、盖玻璃、玻璃边缘、刻度环、分隔板以及填充物等。作为表壳，例如可举出主体、后盖以及由
主体和后盖一体化而成的单件壳体(onepiece case)等。表带包括带扣、用于表带的装卸的部件以及用于手链的装卸的部件。作为表圈，例如可举出旋转表圈等。作为柄头，例如可举出螺纹锁定式柄头等。
[0037]
作为钟表用内装部件，例如可举出条盒轮、编号轮、擒纵轮、擒纵叉、摆轮游丝机构以及发条等。
[0038]
其中，从更体现装饰性的观点来看，钟表用部件优选为钟表用内装部件，更优选为从由条盒轮、编号轮、擒纵轮、擒纵叉以及摆轮游丝机构构成的组中选出的至少1种。
[0039]
即，从更体现装饰性的观点来看，钟表用部件优选搭载于能够目视钟表的内部机构的透视构造的钟表。
[0040]
〔第1实施方式〕
[0041]
参照附图对本发明的第1实施方式进行说明。
[0042]
在第1实施方式中，作为钟表用部件，以构成擒纵轮的擒纵齿轮部为例来进行说明。而且，作为搭载有擒纵齿轮部的钟表，以机械式钟表为例来进行说明。
[0043]
图1是从表盘侧观察第1实施方式的机械式钟表1的平面图。图2是从后盖侧观察第1实施方式的机械式钟表1的平面图。另外，对于用于对钟表的构成部件进行固定的螺钉90，仅对一部分标注标号。
[0044]
机械式钟表1是能够从表盘侧和后盖侧目视机芯40的一部分的透视构造。
[0045]
参照图1、2对从表盘侧观察机械式钟表1的平面图进行说明。
[0046]
机械式钟表1具有圆筒状的外装壳体5，在外装壳体5的内周侧配置有圆盘状的表盘3。在表盘3上设置有窗48a。机械式钟表1构成为通过该窗48a而目视机芯40的一部分。
[0047]
外装壳体5的两个开口中的表面侧的开口被盖玻璃堵住，在背面侧的开口处安装有后盖35。
[0048]
机械式钟表1具有收纳在外装壳体5内的机芯40、显示时刻信息的时针44a、分针44b、指示发条的持续时间的能量储存针44c、以及小秒针44d。
[0049]
时针44a、分针44b、能量储存针44c以及小秒针44d安装于机芯40的指针轴，由机芯40进行驱动。
[0050]
在外装壳体5的侧面设置有柄头7。通过操作柄头7，能够进行与操作对应的输入。
[0051]
在图1中，能够从表盘侧通过设置于该表盘3的窗48a而目视构成机芯40的一部分的擒纵轮101、擒纵叉28、摆轮27以及游丝发条29等。擒纵轮101具有作为第1实施方式的钟表用部件的擒纵齿轮部100和轴部件102。
[0052]
参照图1、2对从后盖侧观察机械式钟表1的平面图进行说明。
[0053]
后盖35由环状的框部件46和窗48b构成，其中，该框部件46形成外周部分，该窗48b由嵌入到该框部件46的透明部件形成。
[0054]
机芯40具有轮系45、摆夹板13、手动卷紧机构60以及自动卷紧机构50等。
[0055]
轮系45具有设置于底板的后盖侧的条盒轮21、第二轮、第三轮、第四轮51、擒纵轮101、擒纵叉28以及摆轮27等。在图2中，示出了条盒轮21、第四轮51、擒纵轮101、擒纵叉28以及摆轮27。擒纵轮101和擒纵叉28构成擒纵机80，摆轮27和游丝发条29构成调速器70。
[0056]
手动卷紧机构60具有柄轴、立轮、离合轮、圆孔轮61、方孔传递轮62以及方孔轮63等。在图2中，示出了圆孔轮61、方孔传递轮62以及方孔轮63。
[0057]
自动卷紧机构50具有旋转锤、轴承、偏心轮、爪杆以及传动轮52等。在图2中，示出了传动轮52。
[0058]
在图2中，能够从后盖侧通过设置于该后盖35的窗48b而目视构成机芯40的一部分的条盒轮21、擒纵轮101、擒纵叉28、摆轮27、圆孔轮61、方孔传递轮62、方孔轮63、偏心轮以及传动轮52等。
[0059]
在机械式钟表1中，从表盘侧或后盖侧目视机芯40的构成部件的方式并不限于上述方式。
[0060]
例如，也可以是，通过适当变更窗48a、48b的设计、大小、配置位置以及窗的数量等，能够目视机芯40的期望的构成部件。
[0061]
并且，也可以是表盘3的整体由透明部件形成，能够从表盘侧目视机芯40的整体，也可以是后盖35的整体由透明部件形成，能够从后盖侧目视机芯40的整体。
[0062]
对作为钟表部件的擒纵齿轮部100的结构进行详细地说明。
[0063]
图3是擒纵齿轮部100的平面图和x区域的局部放大图。
[0064]
擒纵齿轮部100在中央部具有供轴部件102贯穿插入的贯穿插入部110。
[0065]
擒纵齿轮部100具有：轮辋部111，其具有多个齿部112；以及保持部115，其对轴部件102进行保持。轮辋部111是擒纵齿轮部100的外缘的环状部分。齿部112从轮辋部111的外周朝向外侧突出设置，形成为特殊的钩型状。
[0066]
擒纵齿轮部100具有7个保持部115。保持部115在环状的轮辋部111的周向的7个部位按照360
°
/7的等间距进行配置。另外，保持部115的数量可以是3个到7个的范围，也可以是7个以上，没有特别限定。
[0067]
保持部115具有：第1保持部113，其从轮辋部111延伸；以及第2保持部114，其从第1保持部113分支设置。第1保持部113、第2保持部114以及轮辋部111由同一材料一体地形成。
[0068]
第1保持部113在从轮辋部111朝向轴部件102的方向上延伸，形成为宽度尺寸随着朝向轴部件102而减小。第1保持部113的轴部件102侧的末端成为与轴部件102抵接的抵接部113a。该抵接部113a形成为平面圆弧状。
[0069]
第2保持部114具有第1部分114a和第2部分114b。第2保持部114具有将轴部件102固定于擒纵齿轮部100的中心并且抑制擒纵齿轮部100相对于轴部件102的倾斜或脱落的功能。
[0070]
第1部分114a是与第1保持部113连接并从第1保持部113分支而形成的，并且沿与第1保持部113的延伸方向交叉的方向延伸。第2保持部114具有多个第1部分114a。多个第1部分114a互相大致平行地配置。第2部分114b与多个第1部分114a连接，在朝向轴部件102的方向上延伸。第2部分114b的宽度尺寸大致恒定，轴部件102侧的末端成为与轴部件102抵接的抵接部114c。抵接部114c形成为平面圆弧状。
[0071]
在本实施方式中，在擒纵齿轮部100的轮辋部111上可识别地显示有“s”这一文字。如图3所示，擒纵齿轮部100的轮辋部111具有第1区域f1和第2区域f2。第1区域f1是显示有“s”这一文字的区域，第2区域f2是没有显示“s”这一文字的区域。
[0072]
第1区域f1和第2区域f2呈现互相不同的颜色。
[0073]
对擒纵齿轮部100的轮辋部111的剖面构造进行说明。图4是图3所示的x区域的沿着a-a线的局部剖视图。
[0074]
擒纵齿轮部100具有以硅为主成分的基材8。基材8具有：第1面8a；与所述第1面8a处于相反侧的第2面8b；以及将第1面8a和第2面8b连接的第3面8c和第4面8d。
[0075]
在本说明书中，基材8的第1面8a是指在将钟表用部件搭载于钟表时能够目视钟表用部件的那一侧的面。
[0076]
在将钟表用部件搭载于钟表时，在从钟表的后盖侧可以目视钟表用部件的情况下，基材8的第1面8a是指位于钟表的后盖侧的面。但是，在从钟表的表盘侧和后盖侧均可以目视钟表用部件的情况下，基材8的第1面8a是指位于钟表的表盘侧的面。
[0077]
在本实施方式的情况下，从机械式钟表1的表盘侧和后盖侧均可以目视作为钟表用部件的擒纵齿轮部100，因此，基材8的第1面8a是指位于所述表盘侧的面，基材8的第2面8b是指位于所述后盖侧的面。
[0078]
在本说明书中，基材8是指未形成光反射层10、10a的状态的钟表用部件。在本实施方式的情况下，基材8是指未形成光反射层10、10a的状态的擒纵齿轮部。
[0079]
在本说明书中，“以硅为主成分”是指硅相对于整个基材的质量的含有量为80质量％以上。该硅的含有量优选为90质量％以上，更优选为95质量％以上。
[0080]
在以下的说明中，有时将以硅为主成分的基材8称为硅制的基材8或简称为基材8。
[0081]
首先，对基材8的第1面8a侧的结构进行说明。
[0082]
如图4所示，在基材8的第1面8a设置有光反射层10a，该光反射层10a依次具有第1氧化硅层2、硅层4以及第2氧化硅层6。
[0083]
在从基材8的第1面8a侧俯视观察光反射层10a时，光反射层10a具有第1区域f1和第2区域f2。第1区域f1相当于图3所示的显示有“s”这一文字的区域，第2区域f2相当于图3所示的未显示“s”这一文字的区域。
[0084]
第1区域f1中的硅层4的厚度d
41
与第2区域f2中的硅层4的厚度d
42
互相不同。在本实施方式中，第2区域f2中的硅层4的厚度d
42
被设定为比第1区域f1中的硅层4的厚度d
41
厚。
[0085]
第1区域f1中的第1氧化硅层2的厚度d
21
与第2区域f2中的第1氧化硅层2的厚度d
22
为相同尺寸。
[0086]
第1区域f1中的第2氧化硅层6的厚度d
61
与第2区域f2中的第2氧化硅层6的厚度d
62
为相同尺寸。
[0087]
这样，基材8的第1面8a中的光反射层10a按照仅第1区域f1中的硅层4的厚度d
41
和第2区域f2中的硅层4的厚度d
42
不同的方式依次层叠第1氧化硅层2、硅层4、第2氧化硅层6而成。
[0088]
接着，对基材8的第2面8b、第3面8c以及第4面8d侧的结构进行说明。在本实施方式中，基材8的第2面8b、第3面8c以及第4面8d中的硅层4的厚度与基材8的第1面8a的第2区域f2中的硅层4的厚度d
42
为相同尺寸。
[0089]
基材8的第2面8b、第3面8c以及第4面8d中的第1氧化硅层2的厚度与基材8的第1面8a的第1区域f1和第2区域f2中的第1氧化硅层2的厚度d
21
、d
22
为相同尺寸。
[0090]
基材8的第2面8b、第3面8c以及第4面8d中的第2氧化硅层6的厚度与基材8的第1面8a的第1区域f1和第2区域f2中的第2氧化硅层6的厚度d
61
、d
62
为相同尺寸。
[0091]
＜基材＞
[0092]
基材8以硅为主成分。硅的种类没有特别限定，可以选择从加工性的观点来看适当
的种类。作为硅，可举出单晶硅、多晶硅等。它们可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
[0093]
硅制的基材8例如能够通过光刻技术和蚀刻技术来制造，因此能够形成复杂的形状。
[0094]
＜光反射层＞
[0095]
光反射层10、10a在基材8上依次具有第1氧化硅层2、硅层4以及第2氧化硅层6。在本实施方式中，光反射层设置于基材8的第1面8a、第2面8b、第3面8c以及第4面8d，采用了3层构造。光反射层例如可以是5层构造，但从容易调整颜色的观点来看，优选为3层构造。
[0096]
光反射层10、10a具有如下的功能：能够通过第2氧化硅层6的与硅层4相反的一侧的表面、第2氧化硅层6与硅层4的界面、硅层4与第1氧化硅层2的界面、以及基材8的表面中的至少任意一个面来自由地调整光的透过、反射。
[0097]
如图4所示，光反射层10、10a的最表层是第2氧化硅层6。由此，可提高擒纵齿轮部100的保护性。
[0098]
(第1氧化硅层)
[0099]
第1氧化硅层2设置在基材8上。在本实施方式中，第1氧化硅层2设置于基材8的第1面8a、第2面8b、第3面8c以及第4面8d。
[0100]
第1氧化硅层2的厚度根据要显色的颜色来进行调整，通常为100nm以上且450nm以下，优选为100nm以上且400nm以下。当第1氧化硅层2的厚度为100nm以上时，容易控制厚度。当第1氧化硅层2的厚度为400nm以下时，由于能够缩短成膜时间，因此生产性提高。
[0101]
例如，在使擒纵齿轮部100的第1区域f1显色为蓝色的情况下，第1区域f1中的第1氧化硅层2的厚度d
21
优选为20nm以上且100nm以下，或者180nm以上且290nm以下，或者330nm以上，更优选为210nm以上且280nm以下。另外，从生产性的观点来看，优选上限值为450nm以下。第1氧化硅层2的厚度d
21
的优选的范围例如可以通过公知的光学计算来进行计算。
[0102]
在使擒纵齿轮部100的第2区域f2显色为蓝色的情况下，第2区域f2中的第1氧化硅层2的厚度d
22
优选为与第1区域f1中的第1氧化硅层2的厚度d
21
同样的范围。
[0103]
第1氧化硅层2优选为通过热氧化法形成的热氧化硅层。当通过热氧化法形成热氧化硅层时，容易得到均匀性高的硅层。
[0104]
(硅层)
[0105]
硅层4设置在第1氧化硅层2上。在本实施方式中，硅层4设置在第1氧化硅层2的整个面上。
[0106]
硅层4可以是非晶层，也可以是多晶硅层，但优选为多晶硅层。
[0107]
在本实施方式的擒纵齿轮部100中，第1区域f1中的硅层4的厚度d
41
与第2区域f2中的硅层4的厚度d
42
的尺寸之差优选为5nm以上且500nm以下，更优选为10nm以上且500nm以下，进一步优选为15nm以上且500nm以下。
[0108]
当第1区域f1中的硅层4的厚度d
41
与第2区域f2中的硅层4的厚度d
42
的尺寸之差为5nm以上且500nm以下时，容易识别从第1区域f1和第2区域f2显色的颜色。
[0109]
第1区域f1中的硅层4的厚度d
41
优选为50nm以上且110nm以下。
[0110]
第2区域f2中的硅层4的厚度d
42
优选为80nm以上且140nm以下。
[0111]
硅层4的厚度的优选范围例如能够通过公知的光学计算来进行计算。
[0112]
在本实施方式的擒纵齿轮部100中，第1区域f1和第2区域f2优选设置于擒纵齿轮
部100的轮辋部111。
[0113]
(第2氧化硅层)
[0114]
第2氧化硅层6设置在硅层4上。在本实施方式中，第2氧化硅层6设置在硅层4的整个面上。
[0115]
第2氧化硅层6的厚度根据要显色的颜色来进行调整，通常为5nm以上且500nm以下，优选为10nm以上且500nm以下。
[0116]
例如，在使擒纵齿轮部100的第1区域f1显色为蓝色的情况下，第1区域f1中的第2氧化硅层6的厚度d
61
优选为100nm以上且200nm以下，或者250nm以上且360nm以下，或者400nm以上。并且，从抑制由观察角度引起的显色之差的观点来看，第1区域f1中的第2氧化硅层6的厚度d
61
更优选为130nm以上且200nm以下，或者310nm以上且360nm以下。另外，从生产性的观点来看，上限值优选为500nm以下。第2氧化硅层6的厚度的优选范围例如能够通过光学计算来进行计算。
[0117]
在使擒纵齿轮部100的第2区域f2显示为蓝色的情况下，第2区域f2中的第2氧化硅层6的厚度d
62
优选为与第1区域f1中的第2氧化硅层6的厚度d
61
同样的范围。
[0118]
第2氧化硅层6优选为通过热氧化法形成的热氧化硅层。热氧化硅层与通常通过蒸镀法形成的氧化硅层相比，机械特性优异，因此通过将第2氧化硅层6设为热氧化硅层，进一步提高了基材8的保护性。特别是在具有与其他部件接触的接触部位的擒纵齿轮部100等齿轮中，接触部位的机械的强度提高，因此是优选的。
[0119]
第2氧化硅层6的厚度根据要显色的颜色来进行调整，优选比第1氧化硅层2的厚度小。
[0120]
在热氧化法中，例如通过对在形成第2氧化硅层6之前形成的硅层4进行氧化而形成第2氧化硅层6。在该情况下，硅层4由非晶层或多晶硅层形成，因此难以控制第2氧化硅层6的厚度。通常，由于越薄越容易进行层厚的控制，所以优选第2氧化硅层6的层厚较薄。因此，优选第2氧化硅层6的厚度比第1氧化硅层2的厚度小。
[0121]
在本实施方式中，第1区域f1和第2区域f2中的第1氧化硅层2的厚度d
21
、d
22
、硅层4的厚度d
41
、d
42
、第2氧化硅层6的厚度d
61
、d
62
以及光反射层10、10a的厚度是指平均厚度。
[0122]
另外，在后述的实施方式中也同样如此，第3区域f3中的第1氧化硅层2的厚度d
23
、硅层4的厚度d
43
、第2氧化硅层6的厚度d
63
以及光反射层10b、10c的厚度是指平均厚度。
[0123]
各层的平均厚度能够通过以下的方法来测定。
[0124]
将作为钟表用部件的擒纵齿轮部100的一部分切下来作为试验片。使用sem(扫描电子显微镜)来观察试验片的剖面，在任意的10个点处对测定对象层的厚度进行测定，并将其平均值作为“测定对象层的厚度”。
[0125]
测定对象层是第1氧化硅层2、硅层4、第2氧化硅层6以及光反射层10、10a中的任意的层或后述的光反射层10b、10c。
[0126]
〔钟表用部件的特性〕
[0127]
＜色相＞
[0128]
在本实施方式的擒纵齿轮部100中，优选第1区域f1的颜色和第2区域f2的颜色是不同的。
[0129]
在本说明书中，“第1区域f1的颜色和第2区域f2的颜色不同”是指，由cielab颜色
空间定义的色相和彩度中的至少一方不同。另外，色相和彩度由cielab颜色空间的颜色坐标a＊、b＊来表示。
[0130]
(色相角∠h
°
)
[0131]
在由cielab颜色空间定义的色相角∠h
°
中，优选第1区域f1的色相角∠h
1
°
与第2区域f2的色相角∠h
2
°
之差为5
°
以上且180
°
以下。
[0132]
当第1区域f1的色相角∠h
1
°
与第2区域f2的色相角∠h
2
°
之差为5
°
以上且180
°
以下时，容易识别从各区域显色的颜色，因此能够进一步提高擒纵齿轮部100的装饰性。
[0133]
另外，在第1区域f1的色相角∠h
1
°
与第2区域f2的色相角∠h
2
°
之差为0
°
以上且小于5
°
的情况下，从容易识别从各区域显色的颜色的观点来看，优选后述的第1区域f1的坐标(a
1
，b
1
)与第2区域f2的坐标(a
2
，b
2
)之间的距离为5以上，更优选为20以上。
[0134]
由cielab颜色空间定义的色相角∠h
°
是指使用国际照明委员会(cie)在1976年推荐的在知觉上具有大致均等的步长的颜色空间即l＊a＊b＊颜色空间的颜色坐标a＊、b＊并通过下式计算出的、表示色相的参数。
[0135]
公式：色相角∠h
°
＝tan-1(b＊/a＊)
[0136]
并且，在日本工业标准jisz8781-4：2013“测色-第4部：cie1976l＊a＊b＊颜色空间”的“3.6cielab1976 ab色相角”中，该色相角∠h
°
也是通过“4.2与明度、色度以及色相分别相关的量”的式(11)计算出的色相的相关量(一并参照jisz8113的03087)，“cie1976l＊a＊b＊”和“cielab”可以互换叫法。
[0137]
在本说明书中定义的、第1区域f1的由cielab颜色空间定义的色相角∠h
1
°
和第2区域f2的由cielab颜色空间定义的色相角∠h
2
°
例如可以通过日本工业标准jisz8722：2009“颜色的测定方法-反射及透射物体颜色”的“5.分光测色方法”的测定来求出。
[0138]
(a-b平面的坐标)
[0139]
在cielab颜色空间的a-b平面中，当将用颜色坐标a＊、b＊表示第1区域f1时的坐标设为(a
1
，b
1
)，将用颜色坐标a＊、b＊表示第2区域f2时的坐标设为(a
2
，b
2
)时，优选该第1区域f1的坐标(a
1
，b
1
)与第2区域f2的坐标(a
2
，b
2
)之间的距离为5以上，更优选为20以上。所述距离的上限值没有特别限定。
[0140]
当所述坐标的距离为5以上时，容易识别从各区域显色的颜色，因此能够进一步提高擒纵齿轮部100的装饰性。
[0141]
另外，第1区域f1的坐标(a
1
，b
1
)与第2区域f2的坐标(a
2
，b
2
)之间的距离通过((a
1-a
2
)
2
+(b
1-b
2
)
2
)
1/2
来计算。
[0142]
＜最大反射率＞
[0143]
擒纵齿轮部100通过分别调整光反射层10、10a的各层的厚度，能够显色出期望的颜色。在本实施方式中，通过在光反射层10a设置硅层4的厚度为d
41
的第1区域f1和硅层4的厚度为d
42
的第2区域f2，能够从第1区域f1和第2区域f2显色出不同的颜色。
[0144]
作为期望的颜色，没有特别限定，例如可以显色出蓝色、绿色、红色、黄色、粉色、蓝绿色以及其他混合色。
[0145]
在第1实施方式的擒纵齿轮部100中，在第1区域f1或第2区域f2中使光朝向光反射层10a以入射角度0
°
入射时的波长为400nm以上且780nm以下的范围内的最大反射率优选为50％以上，更优选为60％以上，进一步优选为70％以上。另外，入射角度0
°
是指入射光相对
于光反射层10a的法线方向的角度。
[0146]
擒纵齿轮部100的最大反射率能够使用试验片按照以下的条件来进行测定。根据测定装置的规格，试验片可以使用擒纵齿轮部100本身，也可以使用从擒纵齿轮部100切出的可测定的大小的试验片。
[0147]-测定条件-[0148]
·
装置：显微分光测定机(奥林巴斯公司制造，uspm-ru-w)
[0149]
·
测定环境：25℃
[0150]
·
入射角度0
°
[0151]
在第1区域f1或第2区域f2中，擒纵齿轮部100显色为蓝色的情况下的所述最大反射率在波长为400nm以上且550nm以下的范围内优选为50％以上，更优选为60％以上，进一步优选为70％以上。
[0152]
在第1区域f1或第2区域f2中，擒纵齿轮部100显色为红色的情况下的所述最大反射率在波长为600nm以上且800nm以下的范围内优选为50％以上，更优选为60％以上，进一步优选为70％以上。
[0153]
在第1区域f1或第2区域f2中，擒纵齿轮部100显色为绿色的情况下的所述最大反射率在400nm以上且600nm以下的范围内优选为50％以上，更优选为60％以上，进一步优选为70％以上。
[0154]
在第1区域f1或第2区域f2中，也优选擒纵齿轮部100显色为蓝绿色和粉红等混合色。
[0155]
〔作用效果〕
[0156]
第1实施方式的擒纵齿轮部100在硅制的基材8的第1面8a、第2面8b、第3面8c以及第4面8d具有由折射率相对较低的层即氧化硅层和折射率相对较高的层即硅层交替地层叠3层而成的光反射层10、10a，因此显色性良好。
[0157]
此外，第1实施方式的擒纵齿轮部100构成为在光反射层10a设置有第1区域f1和第2区域f2，改变了构成光反射层10a的层中的、第1区域f1和第2区域f2中的硅层4的厚度。
[0158]
由此，能够从第1区域f1和第2区域f2显色出不同的颜色，并且能够使各自的颜色良好地显色。因此，根据第1实施方式，可实现装饰性优异的擒纵齿轮部100。
[0159]
这里，对改变构成光反射层10a的层中的硅层4的厚度的意义进行说明。
[0160]
图5是示出由硅基材、第1氧化硅层、硅层及第2氧化硅层构成的层叠体s中的硅层的厚度与灰度的关系的曲线图。观察角度为0
°
。
[0161]
当概略地示出层叠体s的结构时，如下所述。
[0162]
硅基材/第1氧化硅层(220nm)/硅层(60nm以上且94nm以下，每次变化2nm)/第2氧化硅层(140nm)
[0163]
层叠体s的灰度是通过以下的方法求出的。使用硅基材、第1氧化硅层、硅层以及第2氧化硅层各自在波长400nm以上且800nm以下的折射率n和衰减系数k，通过光学计算来求出反射光谱。接着，通过公知的方法，将反射率r(λ)和等色函数变换为3刺激值xyz，接着变换为256灰度的rgb值。另外，不进行γ校正而设为γ＝1。
[0164]
如图5所示，可知在层叠体s中，只是将硅层的厚度变更5nm左右，蓝色(b)、红色(r)以及绿色(g)的灰度就都较大地发生变化，当变更10nm左右时，所述灰度更加较大地变化。
[0165]
这样的灰度的变化比变更了第1氧化硅层的厚度时的灰度的变化大，并且比变更了第2氧化硅层的厚度时的灰度的变化大。
[0166]
本发明人等着眼于由该硅层的厚度引起的灰度的变化，发现了通过改变构成光反射层的层中的硅层的厚度，会提高钟表用部件的装饰性。
[0167]
根据第1实施方式，能够从第1区域f1和第2区域f2得到多种变化的显色。
[0168]
并且，在擒纵齿轮部100中，基材8是硅制成的，光反射层10、10a的各层由含有硅的材料构成，因此可认为基材8和第1氧化硅层2之间、第1氧化硅层2和硅层4之间、以及硅层4和第2氧化硅层6之间的密合性良好。即，可认为基材8和光反射层10、10a之间的密合性良好。其结果是，在基材8和光反射层10、10a之间不需要通常设置的密合层，整体上成为耐久性提高的构造。
[0169]
此外，擒纵齿轮部100在最表层配置有作为氧化硅层的第2氧化硅层6，因此成为基材8的保护性进一步提高的构造。可认为物理上和化学上都稳定的第2氧化硅层6能够兼具作为基材8的保护材料的功能。
[0170]
这样，基材8和光反射层10、10a全都含有硅，并且能够从第1区域f1和第2区域f2显色出不同的颜色的擒纵齿轮部100为以往所没有的结构。
[0171]
并且，在基材的一个面形成有3层构造的光反射层的情况下，通常所层叠的层的应力大多会成为问题。在擒纵齿轮部等齿轮中，基材的厚度为100μm的数量级，因此，例如仅在齿轮的一个面形成有光反射层的情况下，由于光反射层的应力，齿轮有时会变形。
[0172]
与此相对，第1实施方式的擒纵齿轮部100的3层构造的光反射层10、10a设置于第1面8a、第2面8b、第3面8c以及第4面8d，因此抑制了由光反射层10、10a的层应力引起的基材8的变形。进而，通过设置于最表层的第2氧化硅层6，提高了基材8的第1面8a、第2面8b、第3面8c以及第4面8d的保护性。其结果是，可实现耐久性优异的擒纵齿轮部100。
[0173]
进而，在将擒纵齿轮部100搭载于图1和图2那样的透视构造的机械式钟表1的情况下，由于从表盘侧和后盖侧均可以目视擒纵齿轮部100，因此能够进一步提高机械式钟表1的装饰性。
[0174]
并且，第1实施方式的擒纵齿轮部100能够在基材8上不带有凹凸而提高装饰性，因此，与专利文献1中记载的技术相比，能够保持部件整体的强度。
[0175]
〔第1实施方式的钟表用部件的制造方法〕
[0176]
图6a～图6c、图7a～图7c以及图8a～图8c是对第1实施方式的擒纵齿轮部100的制造方法进行说明的剖视图。
[0177]
准备硅制的基材8。基材8可以使用制造而得的基材，也可以使用到手的基材。基材8例如能够通过光刻技术和蚀刻技术来制造。通过使用硅制的基材8，与使用金属制的基材的情况相比，可实现擒纵齿轮部100的轻量化。并且，通过光刻技术和蚀刻技术，能够形成复杂的形状。
[0178]
(形成第1氧化硅层的工序)
[0179]
如图6a所示，在基材8的第1面8a、第2面8b、第3面8c以及第4面8d形成第1氧化硅层2。
[0180]
作为第1氧化硅层2的形成方法，例如可举出热氧化法、物理气相沉积法(pvd法)、化学气相沉积法(cvd法)以及将它们组合起来的方法等。作为热氧化法，例如可举出使用了
水的湿氧化法和使用了氧的干氧化法。作为pvd法，例如可举出溅射法、离子镀法以及真空蒸镀法等。作为cvd法，例如可举出等离子体化学气相沉积法、热化学气相沉积法以及光化学气相沉积法等。
[0181]
作为第1氧化硅层2的形成方法，优选使用了水的热氧化法或使用了氧的干氧化法。在通过热氧化法形成第1氧化硅层2的情况下，从生产性的观点来看，优选使用立式炉或卧式炉的热氧化炉。
[0182]
第1氧化硅层2的形成条件优选根据基材8的形状以及目标厚度等进行适当调整。
[0183]
(形成硅层的工序)
[0184]
如图6b所示，在第1氧化硅层2的整个面形成硅层4。
[0185]
作为硅层4的形成方法，例如可举出pvd法、cvd法以及将它们组合起来的方法等。作为pvd法和cvd法，可举出与在形成第1氧化硅层2的工序中例示的方法相同的方法。硅层4优选通过低压cvd法来形成。例如，在低压cvd法中，通过将成膜温度控制在500℃以上且700℃以下，在低压下使单硅烷气体流动，能够形成硅层4。当通过低压cvd法形成硅层4时，能够根据成膜温度，将硅层4的层质从非晶硅控制到多晶硅。在通过低压cvd法形成硅层4的情况下，从生产性的观点来看，优选使用立式炉或卧式炉的低压cvd炉。
[0186]
硅层4的形成条件优选根据基材8的形状以及目标厚度等进行适当调整。
[0187]
·
形成抗蚀剂层的工序
[0188]
如图6c所示，在硅层4的整个面例如涂布公知的抗蚀剂而形成抗蚀剂层r1。另外，在基材8的第2面8b、第3面8c以及第4面8d侧得到保护而不被蚀刻的情况下，也可以不在硅层4的整个面形成抗蚀剂层r1。抗蚀剂层r1至少形成在设置有第1区域f1和第2区域f2的区域中即可。并且，图6c所示的抗蚀剂层r1是正型的抗蚀剂层，也可以根据加工方法而使用负型的抗蚀剂层。
[0189]
·
曝光工序
[0190]
如图7a所示，经由掩模103对抗蚀剂层r1照射光，将掩模103的图案转印并曝光。
[0191]
·
显影工序
[0192]
如图7b和图7c所示，对被曝光的抗蚀剂层r2进行显影而将其除去，在抗蚀剂层r1上制作开口部r4。
[0193]
·
蚀刻工序
[0194]
如图8a所示，将抗蚀剂层r1作为掩模，对露出于开口部r4的硅层4进行蚀刻，直到成为目标的硅层4的厚度。蚀刻可以是干蚀刻也可以是湿蚀刻，但从加工性的观点来看，优选干蚀刻。
[0195]
接着，将抗蚀剂层r1除去。
[0196]
由此，如图8b所示，形成了第1区域f1中的硅层的厚度与第2区域f2中的硅层的厚度不同的硅层4。
[0197]
(形成第2氧化硅层的工序)
[0198]
如图8c所示，在硅层4的整个面形成第2氧化硅层6。
[0199]
第2氧化硅层6能够通过与第1氧化硅层2的形成方法相同的方法来形成。第2氧化硅层6优选通过对硅层4的一部分进行热氧化而形成。由此，进一步表现出第2氧化硅层6的作为保护材料的功能。
[0200]
在通过对硅层4的一部分进行热氧化而形成第2氧化硅层6的情况下，硅层4的一部分被消耗而成为第2氧化硅层6。
[0201]
第2氧化硅层6的形成条件优选根据基材8的形状、目标厚度等进行适当调整。
[0202]
通过以上工序，可制造出如下的擒纵齿轮部100：在基材8的第2面8b、第3面8c以及第4面8d具有光反射层10，并且在基材8的第1面8a具有光反射层10a，该光反射层10a的第1区域f1中的硅层4的厚度为d
41
，第2区域f2中的硅层4的厚度为d
42
。
[0203]
在第1实施方式的制造方法中，优选通过热氧化法来形成第1氧化硅层2和第2氧化硅层6中的至少一方，更优选通过热氧化法来形成第1氧化硅层2和第2氧化硅层6这两者。
[0204]
〔第2实施方式〕
[0205]
对于第2实施方式，以与第1实施方式不同的点为中心来进行说明，对于同样事项的说明，省略其说明。
[0206]
第2实施方式的擒纵齿轮部200与第1实施方式的擒纵齿轮部100相比，除了调换了图3所示的x区域的第1区域f1和第2区域f2这点以外，其他部分与第1实施方式的擒纵齿轮部100相同。
[0207]
对擒纵齿轮部200的轮辋部111b的剖面构造进行说明。
[0208]
首先，对基材8的第1面8a侧的结构进行说明。
[0209]
如图9所示，在基材8的第1面8a设置有由第1氧化硅层2、硅层4以及第2氧化硅层6依次层叠而成的光反射层10b。
[0210]
在从基材8的第1面8a侧俯视观察光反射层10b时，光反射层10b具有第1区域f1和第2区域f2。第1区域f1相当于图3所示的未显示“s”这一文字的区域，第2区域f2相当于图3所示的显示有“s”这一文字的区域。
[0211]
第1区域f1和第2区域f2显色出互相不同的颜色。
[0212]
第1区域f1中的硅层4的厚度d
41
与第2区域f2中的硅层4的厚度d
42
互相不同。在本实施方式中，第2区域f2中的硅层4的厚度d
42
被设定得比第1区域f1中的硅层4的厚度d
41
厚。
[0213]
第1区域f1中的第1氧化硅层2的厚度d
21
与第2区域f2中的第1氧化硅层2的厚度d
22
为相同尺寸。
[0214]
第1区域f1中的第2氧化硅层6的厚度d
61
与第2区域f2中的第2氧化硅层6的厚度d
62
为相同尺寸。
[0215]
这样，基材8的第1面8a中的光反射层10b按照仅第1区域f1中的硅层4的厚度d
41
和第2区域f2中的硅层4的厚度d
42
不同的方式依次层叠第1氧化硅层2、硅层4以及第2氧化硅层6而成。
[0216]
接着，对基材8的第2面8b、第3面8c以及第4面8d侧的结构进行说明。在本实施方式中，基材8的第2面8b、第3面8c以及第4面8d中的硅层4的厚度与基材8的第1面8a的第1区域f1中的硅层4的厚度d
41
为相同的尺寸。
[0217]
基材8的第2面8b、第3面8c以及第4面8d中的第1氧化硅层2的厚度与基材8的第1面8a的第1区域f1和第2区域f2中的第1氧化硅层2的厚度d
21
、d
22
为相同的尺寸。
[0218]
基材8的第2面8b、第3面8c以及第4面8d中的第2氧化硅层6的厚度与基材8的第1面8a的第1区域f1和第2区域f2中的第2氧化硅层6的厚度d
61
、d
62
为相同的尺寸。
[0219]
在本实施方式的擒纵齿轮部200中，优选的是，第1区域f1中的硅层4的厚度d
41
为
50nm以上且80nm以下，第2区域f2中的硅层4的厚度d
42
为110nm以上且140nm以下。
[0220]
当第1区域f1和第2区域f2中的硅层4的厚度d
41
、d
42
处于上述范围时，更容易识别从各区域显色的颜色。其结果是，能够进一步提高擒纵齿轮部200的装饰性。
[0221]
在这种方式的情况下，从进一步提高识别性和装饰性的观点来看，优选第2区域f2是显示文字、标记、图案或它们的组合的区域，第1区域f1是第2区域f2以外的整个区域。
[0222]
在本实施方式的擒纵齿轮部200中，优选第1区域f1中的硅层4的厚度d
41
为50nm以上且80nm以下，第2区域f2中的硅层4的厚度d
42
为80nm以上且110nm以下。
[0223]
当第1区域f1和第2区域f2中的硅层4的厚度d
41
、d
42
处于上述范围时，更容易识别从各区域显色的颜色。其结果是，能够进一步提高擒纵齿轮部200的装饰性。
[0224]
在这种方式的情况下，从进一步提高识别性和装饰性的观点来看，优选第2区域f2是显示文字、标记、图案或它们的组合的区域，第1区域f1是第2区域f2以外的整个区域。
[0225]
在本实施方式的擒纵齿轮部200中，优选第1区域f1中的硅层4的厚度d
41
为80nm以上且110nm以下，第2区域f2中的硅层4的厚度d
42
为110nm以上且140nm以下。
[0226]
当第1区域f1和第2区域f2中的硅层4的厚度d
41
、d
42
处于上述范围时，更容易识别从各区域显色的颜色。其结果是，能够进一步提高擒纵齿轮部200的装饰性。
[0227]
在这种方式的情况下，从进一步提高识别性和装饰性的观点来看，优选第2区域f2是显示文字、标记、图案或它们的组合的区域，第1区域f1是第2区域f2以外的整个区域。
[0228]
〔作用效果〕
[0229]
第2实施方式的擒纵齿轮部200起到与第1实施方式相同的效果。
[0230]
根据第2实施方式，可实现装饰性更优异的擒纵齿轮部200。
[0231]
〔第2实施方式的擒纵齿轮部的制造方法〕
[0232]
第2实施方式的擒纵齿轮部200与第1实施方式的制造方法相比，例如是通过变更作为掩模的抗蚀剂层r1的配置部位和硅层的蚀刻部位而制造的。
[0233]
〔第3实施方式〕
[0234]
对于第3实施方式，以与第2实施方式不同的点为中心进行说明，对于同样事项的说明，省略其说明。
[0235]
第3实施方式的擒纵齿轮部300除了在第2实施方式的擒纵齿轮部200中将图3所示的x区域变更为图10所示的区域这点以外，其他部分与第2实施方式的擒纵齿轮部200相同。
[0236]
如图10所示，在第3实施方式的擒纵齿轮部300的轮辋部111c上可识别地显示有“s”的文字和圆的标记。擒纵齿轮部300的轮辋部111c具有第1区域f1、第2区域f2以及第3区域f3。
[0237]
在本实施方式中，第1区域f1是未显示“s”这一文字和圆的标记的区域，第2区域f2是显示有“s”这一文字的区域，第3区域f3是显示有圆的标记的区域。
[0238]
第1区域f1、第2区域f2以及第3区域f3显色出互相不同的颜色。
[0239]
对擒纵齿轮部300的轮辋部111c的剖面构造进行说明。图11是第3实施方式的擒纵齿轮部的局部剖视图，是沿着图10的b-b线的局部剖视图。
[0240]
对基材8的第1面8a侧的结构进行说明。
[0241]
如图11所示，在基材8的第1面8a设置有由第1氧化硅层2、硅层4以及第2氧化硅层6依次层叠而成的光反射层10c。
[0242]
在从基材8的第1面8a侧俯视观察光反射层10c时，光反射层10c具有第1区域f1、第2区域f2以及第3区域f3。
[0243]
第1区域f1中的硅层4的厚度d
41
、第2区域f2中的硅层4的厚度d
42
以及第3区域f3中的硅层4的厚度d
43
互相不同。
[0244]
在本实施方式中，各区域中的硅层4的厚度d
41
、d
42
、d
43
的关系满足下述式(2)。
[0245]
厚度d
43
＞厚度d
42
＞厚度d
41
…
(2)
[0246]
第1区域f1中的第1氧化硅层2的厚度d
21
、第2区域f2中的第1氧化硅层2的厚度d
22
以及第3区域f3中的第1氧化硅层2的厚度d
23
为相同的尺寸。
[0247]
第1区域f1中的第2氧化硅层6的厚度d
61
、第2区域f2中的第2氧化硅层6的厚度d
62
以及第3区域f3中的第2氧化硅层6的厚度d
63
为相同的尺寸。
[0248]
这样，基材8的第1面8a侧的光反射层10c按照仅第1区域f1中的硅层4的厚度d
41
、第2区域f2中的硅层4的厚度d
42
以及第3区域f3中的硅层4的厚度d
43
不同的方式依次层叠第1氧化硅层2、硅层4以及第2氧化硅层6而成。
[0249]
接着，对基材8的第2面8b、第3面8c以及第4面8d侧的结构进行说明。在本实施方式中，基材8的第2面8b、第3面8c以及第4面8d中的硅层的厚度与基材8的第1面8a的第1区域f1中的硅层4的厚度d
41
为相同的尺寸。
[0250]
基材8的第2面8b、第3面8c以及第4面8d中的第1氧化硅层的厚度与基材8的第1面8a的第1区域f1、第2区域f2以及第3区域f3中的第1氧化硅层2的厚度d
21
、d
22
、d
23
为相同的尺寸。
[0251]
基材8的第2面8b、第3面8c以及第4面8d中的第2氧化硅层的厚度与基材8的第1面8a的第1区域f1、第2区域f2以及第3区域f3中的第2氧化硅层6的厚度d
61
、d
62
、d
63
为相同的尺寸。
[0252]
〔作用效果〕
[0253]
第3实施方式的擒纵齿轮部300起到与第2实施方式同样的效果。
[0254]
第3实施方式的擒纵齿轮部300与第2实施方式的擒纵齿轮部200相比，除了从第1区域f1和第2区域f2显色出不同的颜色之外，还能够从第3区域f3显色出不同的颜色。因此，根据第3实施方式，可实现装饰性更优异的擒纵齿轮部300。
[0255]
〔第3实施方式的擒纵齿轮部的制造方法〕
[0256]
第3实施方式的擒纵齿轮部300与第2实施方式的制造方法相比，通过进一步形成硅层4的厚度为d
43
的第3区域f3来制造。
[0257]
作为形成第3区域f3的方法，没有特别限定，能够利用公知的蚀刻方法。
[0258]
〔其他实施方式〕
[0259]
本发明并不限于上述实施方式，能够在可实现本发明的目的的范围内进行变形、改良等。
[0260]
在第1实施方式和第2实施方式中，对在基材8的第1面8a设置有第1区域f1和第2区域f2的例子进行了说明，但并不限于此。例如，只要在基材8的第1面8a、第2面8b、第3面8c以及第4面8d中的至少任意一个面设置第1区域和第2区域即可。并且，也可以在基材8的第1面8a、第2面8b、第3面8c以及第4面8d中的任意一个面还设置有第3区域等其他区域。
[0261]
在第3实施方式中，对在基材8的第1面8a设置有第1区域、第2区域以及第3区域的
例子进行了说明，但并不限于此。例如，只要在基材8的第1面8a、第2面8b、第3面8c以及第4面8d中的至少任意一个面设置有第1区域、第2区域以及第3区域即可。并且，也可以在基材8的第1面8a、第2面8b、第3面8c以及第4面8d中的任意一个面还设置有第4区域等其他区域。
[0262]
在上述实施方式中，从容易识别从第1区域显色的颜色和从第2区域显色的颜色的观点来看，第1区域中的硅层的厚度与第2区域中的硅层的厚度的尺寸之差也可以是5nm以上且1000nm以下。在这种方式的情况下，优选根据该尺寸之差来分别调整第1氧化硅层的厚度和第2氧化硅层的厚度。
[0263]
在上述实施方式中，作为钟表用部件，对擒纵齿轮部以及搭载了该擒纵齿轮部的机械式钟表进行了说明，但并不限于此。
[0264]
例如，上述实施方式的机械式钟表例如只要具有作为钟表用部件而列举的上述钟表用外装部件和上述钟表用内装部件中的任意1个以上即可。
[0265]
上述实施方式的擒纵齿轮部在不损害装饰性的范围内，也可以在最表层具有透明性的防污层或防带电层。由此，对擒纵齿轮部赋予防污功能或防带电功能。
[0266]
并且，在上述实施方式的擒纵齿轮部的制造方法中，根据需要，也可以追加任意目的的工序。例如，也可以在各工序之间实施清洗等中间处理。并且，在形成第2氧化硅层的工序之后，也可以具有形成防污层的工序或形成防带电层的工序。也可以对基材实施切削、磨削、研磨以及珩磨等前处理。
[0267]
〔钟表用机芯〕
[0268]
本实施方式的钟表用机芯具有至少一个上述实施方式的任意的钟表用部件。根据本实施方式，可实现装饰性优异且设计性高的钟表用机芯。
[0269]
〔钟表〕
[0270]
本实施方式的钟表具有至少1个上述实施方式的任意的钟表用部件。
[0271]
根据本实施方式的钟表，可实现装饰性优异且设计性高的钟表。
[0272]
作为钟表，没有特别限定，例如可举出石英钟表、机械式钟表以及电子控制式机械式钟表等。其中，从更体现钟表用部件的装饰性的观点来看，作为钟表，优选透视构造的机械式钟表。
[0273]
【实施例】
[0274]
以下，通过实施例对本发明进一步进行具体地说明，但本发明只要不超出其主旨，就不限定于以下的实施例。
[0275]
〔样品1～7的制作〕
[0276]
准备了硅基材(直径为150mm、厚度为0.1mm)。
[0277]
通过上述方法，制作了在硅基材的第1面依次层叠第1氧化硅层、硅层以及第2氧化硅层而成的光反射层。将其作为评价用的样品1～7。样品1～7的层结构在表1中示出。
[0278]
〔评价〕
[0279]
＜颜色的识别性＞
[0280]
使用样品1～7，通过以下的方法来评价颜色的识别性。结果如表1所示。
[0281]
从光反射层侧俯视观察各样品，通过目视来确认颜色。
[0282]
接着，以样品1的颜色为基准，观察比较该样品1的颜色与样品2～7的颜色，通过以下的基准，判定了颜色的识别性。
[0283]
另外，样品1～7的显色性均良好。
[0284]-基准-[0285]
a：能够充分识别各样品的颜色
[0286]
b：能够识别各样品的颜色
[0287]
c：无法识别。
[0288]
＜l＊、a＊以及b＊＞
[0289]
对于样品1～7，使用分光光度计(柯尼卡美能达公司制，产品编号：cm-700d)，在测定环境25℃下测定由ciellab颜色空间定义的l＊、a＊以及b＊。
[0290]
使用得到的a＊和b＊，通过下述式(1)来分别计算a-b平面中的样品1的坐标与a-b平面中的样品2～7的坐标的距离。结果如表1所示。
[0291]
样品１的坐标与样品2～7的坐标的距离＝((a
1-a
x
)
2
+(b
1-b
x
)
2
)
1/2
…
(1)
[0292]
·
a
1
：样品1的a＊
[0293]
·
a
x
：样品2～7的a＊
[0294]
·
b
1
：样品1的b＊
[0295]
·
b
x
：样品2～7的b＊
[0296]
【表1】
[0297][0298]
如表1所示，确认了仅通过将光反射层中的硅层的厚度变化5nm到30nm左右，就能够良好地显色出不同的颜色。
[0299]
因此，可知通过在硅基材上设置依次层叠第1氧化硅层、硅层以及第2氧化硅层而成的光反射层，并且设置硅层的厚度不同的区域，能够得到装饰性优异的钟表用部件。