红外分析仪温控装置制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种红外分析仪温控装置，包括传感器、传感器基座和TEC，所述传感器安装于传感器基座上，所述TEC安装于传感器基座两侧，所述传感器基座上安装有薄膜铂电阻。本实用新型公开的一种红外分析仪温控装置，只需通过传感器基座对传感器进行加热，加热体积小，减小了整机功率；加热元件TEC根据电流流向，既能加热又能制冷，使得加热元件更加灵敏；薄膜铂电阻与传感器距离非常近，采集的温度更能代表传感器的温度，使得温度波动非常小(能达到±0.01℃)；TEC体积小，功率相对加热带更小，消除了大功率加热带所引入的干扰，使得传感器输出信号更优化。
【专利说明】红外分析仪温控装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及红外分析仪【技术领域】，具体地说是一种红外分析仪温控装置。
【背景技术】
[0002]现阶段红外分析仪因为测量原理的关系，传感器部分都是必须加恒温控制的。目前市场上绝大部分的红外气体分析仪的温控方案都是采用底部电加热带加热法。具体设计是，气室、光源、传感器连接在一个导热的金属底板上，靠近传感器端设有热敏电阻测温，金属底板的背面贴上加热带对金属底板加热，通过金属底板的传热对气室、光源、传感器进行加热，通过热敏电阻反馈温度值从而实现恒温控制。此设计受限于金属底板和气室连接的整体传热速度，导致传热很慢，同时加热带与金属底板贴合形成电容，会引入干扰。存在以下缺点:
[0003]1、加热的体积大(整个气室、光源、传感器、金属底板以及安装支架都进行加热)，导致加热需要较大的功率，使得整机功率偏大；
[0004]2、加热带或其他加热器件只能加热，不能制冷，当加热温度超过温控点时，只能通过减小加热功率或停止加热来使温度缓慢回落，十分不灵敏；
[0005]3、传热慢，传感器温度达到稳定的时间长；
[0006]4、热敏电阻不是直接采集传感器的温度，同时加热带到热敏电阻传热需要一定时间，使得温控系统存在波动，稳定度不够高(温度波动通常大于0.100 )；
[0007]5、大功率加热带直接贴在金属底板上，会因为电容效应引起传感器部分电路出现震荡干扰，给信号处理带来麻烦。
实用新型内容
[0008]本实用新型的目的是克服上述现有技术中存在的不足，解决目前存在的技术缺陷，本实用新型公开了一种红外分析仪温控装置。
[0009]本实用新型所采用的技术方案是:红外分析仪温控装置，包括传感器、传感器基座和丁￡(:，所述传感器安装于传感器基座上，所述安装于传感器基座两侧。
[0010]进一步的，所述传感器基座上安装有薄膜钼电阻，进行温度的采集，控制进行根据需要进行加热或制冷。
[0011]本实用新型的有益效果是，本实用新型公开的一种红外分析仪温控装置，
[0012]1、只需通过传感器基座对传感器进行加热，加热体积小，减小了整机功率；
[0013]2、加热元件根据电流流向，既能加热又能制冷，使得加热元件更加灵敏；
[0014]3、薄膜钼电阻与传感器距离非常近，采集的温度更能代表传感器的温度，使得温度波动非常小(能达到±0^ 011)；
[0015]4、体积小，功率相对加热带更小，消除了大功率加热带所引入的干扰，使得传感器输出信号更优化。
[0016]下面结合附图对本实用新型作进一步详细描述。
【专利附图】
【附图说明】
[0017]图1为本实用新型的结构示意图。
【具体实施方式】
[0018]为了加深对本实用新型的理解，下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步详细的说明。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。
[0019]如图1所示，红外分析仪温控装置，包括传感器1、传感器基座2和1%3，传感器1安装于传感器基座2上，1203安装于传感器基座2两侧，传感器基座2上安装有薄膜钼电阻4。
[0020]本实用新型的工作原理是，
[0021]120,即半导体致冷器，是利用半导体材料的珀尔帖效应制成的。所谓珀尔帖效应，是指当直流电流通过两种半导体材料组成的电偶时，其一端吸热，一端放热的现象。重掺杂的~型和？型的碲化铋主要用作的半导体材料，碲化铋元件采用电串联，并且是并行发热。包括一些？型和~型对(组)，它们通过电极连在一起，并且夹在两个陶瓷电极之间；当有电流从流过时，电流产生的热量会从12(:的一侧传到另一侧，在上产生"热"侧和"冷"侧，这就是！'%的加热与致冷原理。
[0022]本实用新型公开的一种红外分析仪温控装置，只需通过传感器基座对传感器进行加热，加热体积小，减小了整机功率；加热元件根据电流流向，既能加热又能制冷，使得加热元件更加灵敏；薄膜钼电阻与传感器距离非常近，采集的温度更能代表传感器的温度，使得温度波动非常小(能达到±0.010汀此体积小，功率相对加热带更小，消除了大功率加热带所引入的干扰，使得传感器输出信号更优化。
[0023]要说明的是，以上所述实施例是对本实用新型技术方案的说明而非限制，所属【技术领域】普通技术人员的等同替换或者根据现有技术而做的其他修改，只要没超出本实用新型技术方案的思路和范围，均应包含在本实用新型所要求的权利范围之内。
【权利要求】
1.红外分析仪温控装置，其特征在于:包括传感器、传感器基座和TEC，所述传感器安装于传感器基座上，所述TEC安装于传感器基座两侧。
2.根据权利要求1所述的红外分析仪温控装置，其特征在于:所述传感器基座上安装有薄膜钼电阻。
【文档编号】G05D23/24GK204129547SQ201420536713
【公开日】2015年1月28日 申请日期:2014年9月17日 优先权日:2014年9月17日
【发明者】张东旭, 马昊, 胡坤 申请人:南京艾伊科技有限公司