带集成控制面板的射频电源动态监控系统的制作方法

文档序号:11132923阅读:530来源:国知局
带集成控制面板的射频电源动态监控系统的制造方法与工艺

本发明涉及射频技术领域,尤其涉及一种射频电源动态监控系统。



背景技术:

近一、二十年来,微电子产业迅猛发展,随着低温等离子体技术的不断进步,各种功能的等离子体设备如射频(或射频磁控)溅射、等离子体刻蚀(PE)、反应离子腐蚀(RIE)、等离子体淀积(PECVD)等,也越来越多地受到重视,并在许多领域中得到了广泛地应用。首先在半导体工业中刻蚀氮化硅、多晶硅、铝、淀积氮化硅的应用。随之其它工业的发展也在积极使用这一新技术,如沉积各种光学薄膜、敏感薄膜,以及微创医疗、对化纤、有机物进行表面改性等等。这些新技术、新工艺、新设备的推广应用,都需要大量的射频发生器。

在这些应用领域中,射频电源的工作稳定性是首要问题。由于常年不间断的工作,而且是上百台同时工作,设备电源的正常与否直接关系到其产品的产量和质量。

目前市面上的射频电源,特别是进口射频电源,需要通过串口与计算机连接,在计算机上运行其专用的后台软件,通过英文界面操作控制电源设备,观察其工作状态。这种模式不仅配置一台体积大、造价不菲的计算机,给设备的现场应用和实际操作都带来了很大的困难。



技术实现要素:

本发明的目的是本系统采用先进的微控电子和数字技术,实现了实时监控和显示功能。

为实现上述发明目的,本发明的技术方案是:带集成控制面板的射频电源动态监控系统,包括集成在控制面板上的控制芯片、接口电路、TFT显示屏、直流/直流转换器、数码拨盘;所述接口电路通过模拟用户口与射频电源连接;

所述控制芯片实时扫描和控制接口电路获取射频电源运行数据,并将结果实时动态地显示在TFT显示屏上;

所述数码拨盘用于设置射频电源输出功率,所述控制芯片外部中断触发方式扫描数码拨盘,获取设置的输出功率,通过接口电路控制射频电源功率。

作为本发明一种优选,所述控制芯片获取射频电源运行数据包括前向功率、反射功率、负载功率、温度、湿度、各个开关量和告警参数。

作为本发明另一种优选,所述控制芯片包括内置电池的定时采集时间芯片,将时间和日期送TFT显示屏显示,且在系统掉电情况下能够继续走时。

本发明的有益效果是:

1.实时、有效的监控射频设备的工作状态,及早发现有故障的设备并及时主动的更换;所以极大的提高系统可靠性,为企业提高了成品率,极大减少了损失。

显示屏数据显示,直观、方便,设备运行的动态数据一目了然;

3.采用数字、可调节极差的方式,控制射频电源的输出功率,且操作简单;

4.相对PC后台系统,大大降低了系统成本,在半导体及其他使用射频电源的行业,值得推广和广泛应用。

附图说明

图1为本发明的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。

如图1所示,带集成控制面板的射频电源动态监控系统,包括集成在控制面板6上的控制芯片1、接口电路2、TFT显示屏3、直流/直流变换器4、数码拨盘5;所述接口电路2通过模拟用户口(图中未示出)与射频电源(图中未示出)连接。

所述控制芯片1实时扫描和控制接口电路2获取射频电源的运行数据,并通过计算转化成射频电源的标准数据,并将结果实时动态地显示在TFT显示屏3上。

所述数码拨盘5用于设置射频电源输出功率,所述控制芯片1外部中断触发方式扫描数码拨盘5,获取设置的输出功率,通过接口电路2控制射频电源功率输出。

所述控制芯片1获取射频电源运行数据包括前向功率、反射功率、负载功率、温度、湿度、各个开关量和告警参数。

所述控制芯片1还包括内置电池的定时采集时间芯片,将时间和日期送TFT显示屏显示,且在系统掉电情况下能够继续走时。

本发明工作过程如下:

a.射频电源加电后,本系统模块初始化各个模块:

·定时器设定;

·各I/O口设定;

·各串口设定;

·各中断设定;

·加载初始数据;

·TFT显示屏初始并显示。

控制芯片1定时扫描射频电源的模拟用户口,采集射频电源的关键数据,并分析、计算和调整;

经过控制芯片1内部运算和转换,及时送TFT显示屏3将各个数据显示出来。

定时扫描电源设备的各开关量和温度值,也会及时的显示在TFT显示屏3上。

外部中断触发方式扫描数码拨盘,得到设置的功率值,经过模拟用户口控制设备的功率。

检测后台设备的连接情况,可以将保存的大量数据通过串口发送至后台,供分析使用。

此外,本发明的监控系统还预留接口,以扩展更多功能:

如定时扫描可获得Bus DC voltage、Bus DC current、CTL-BUS voltage、整机EFF等数据,并通过TFT显示屏实时显示。

所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

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