一种半导体切割设备粉尘逃逸量控制系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及半导体制造技术领域，特别是涉及一种半导体切割设备粉尘逃逸量控制系统。
【背景技术】
[0002]在传统的切割粉尘逃逸装置中，主要是通过厂房自身的热排风的持续抽气实现粉尘的排放，但是由于设备数量太多，厂房自身的热排风很难达到使设备粉尘完全逃逸的需求，而部分无法逃逸的粉尘会通过设备的散热风扇、结合缝隙等处释放到无尘车间内，导致无尘车间单位空间内0.5 μ??以上的粉尘颗粒数上升到10000以上(SPEC:3000以下)，扩散的粉尘会附着在产品表面，严重时会对产品造成污染，导致产品品质下降。
【发明内容】
[0003]鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种半导体切割设备粉尘逃逸量控制系统，解决上述现有技术中无尘车间粉尘污染的问题。
[0004]为实现上述目标及其他相关目标，本发明提供一种半导体切割设备粉尘逃逸量控制系统，包括:洁净度检测模块，用于检测所在环境的洁净度信息；信号处理模块，电性连接于所述洁净度检测模块，用于将所述洁净度信息转化并输出洁净度指示信号；中央处理系统，电性连接于所述信号处理模块，用于接收所述洁净度指示信号，根据洁净度指示信号输出调节控制指令；用于粉尘逃逸的粉尘逃逸管道、及用于为所述粉尘逃逸管道提供排风的排风装置，所述排风装置电性连接于所述中央处理系统，根据所述调节控制指令控制粉尘排放。
[0005]可选的，所述中央处理系统根据所接收的洁净度指示信号判断环境洁净度低于预设阈值时，发送调节控制指令以加大所述排风装置的排风动力。
[0006]可选的，所述预设阈值为0.5 μπι以上的粉尘颗粒数持续维持在3000个以下。
[0007]可选的，所述半导体切割设备粉尘逃逸量控制系统设于无尘车间内。
[0008]如上所述，本发明提供一种半导体切割设备粉尘逃逸量控制系统，包括:洁净度检测模块，用于检测所在环境的洁净度信息；信号处理模块，电性连接于所述洁净度检测模块，用于将所述洁净度信息转化并输出洁净度指示信号；中央处理系统，电性连接于所述信号处理模块，用于接收所述洁净度指示信号，根据洁净度指示信号输出调节控制指令；用于粉尘逃逸的粉尘逃逸管道、及用于为所述粉尘逃逸管道提供排风的排风装置，所述排风装置电性连接于所述中央处理系统，根据所述调节控制指令控制粉尘排放；实现自动化调节洁净度减少无尘车间的污染，提升良品率。
【附图说明】
[0009]图1显示为本发明的半导体切割设备粉尘逃逸量控制系统的一实施例的结构示意图。
[0010]元件标号说明:
1-半导体切割设备粉尘逃逸量控制系统；
I1-洁净度检测模块；
12-信号处理模块；
13-中央处理系统；
14-粉尘逃逸管道；
15-排风装置。
【具体实施方式】
[0011]以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明还可以通过另外不同的【具体实施方式】加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0012]如图1所示，本发明提供一种半导体切割设备粉尘逃逸量控制系统1，包括:洁净度检测模块11、信号处理模块12、中央处理系统13、粉尘逃逸管道14、及排风装置15。
[0013]所述洁净度检测模块11，用于检测所在环境的洁净度信息；洁净度指洁净空气中空气含尘(包括微生物)量多少的程度。根据中华人民共和国国家标准GB50073-2001 (GBJ73-84已作废)，《洁净厂房设计规范》(下面简称《规范》)明确规定了空气洁净度的四个等级(洁净度即指洁净环境中空气含尘粒多少的程度)，并制作了相应表格以示划分之标准:这是依据美国联邦标准209E中洁净室等级标准换算出来的，每一等级都对每立方米空气中直径大于等于0.5um的灰尘粒的数量有严格的规定。《规范》还详加注明:“对于空气洁净度为100级的洁净室内大于等于5微米尘粒的计数，应进行多次采样，当其多次出现时，方可认为该测试数值是可靠的。”硬盘的工作环境要求是10级，这几乎达到了最理想状态下的无尘，也是普通工作环境所不可能做到的，更是任何民用资金都无法实现的。然而从现实角度来看，100级还是可行的，毕竟数据恢复过程只需要短时间，暂时不会造成很大的影响。只不过100级洁净间的资金投入相当大，几乎绝大部分数据恢复服务商都不具备这样的实力。
[0014]所述信号处理模块12，电性连接于所述洁净度检测模块11，用于将所述洁净度信息转化并输出洁净度指示信号；在一实施例中，所述信号处理模块12例如包括:A/D转换电路、放大电路、滤波电路等等，还可包括一些软件将洁净度信息转化为中央处理系统13可识别的特别制式的指示信号等。
[0015]所述中央处理系统13，电性连接于所述信号处理模块12，用于接收所述洁净度指示信号，根据洁净度指示信号输出调节控制指令；所述中央处理系统13可包括中央处理器(CPU)或单片机芯片(MCU);以及一些配合的存储器等。
[0016]所述粉尘逃逸管道14，是特别新增用于粉尘逃逸；而所述排风装置15，则例如为风扇，安装于所述粉尘逃逸管道14，用于为所述粉尘逃逸管道14提供排风，所述排风装置15和/或所述粉尘逃逸管道14均可所述排风装置15电性连接于所述中央处理系统13，根据所述调节控制指令控制排风量以调节粉尘排放程度。
[0017]在一实施例中，所述中央处理系统13根据所接收的洁净度指示信号判断环境洁净度低于预设阈值时，发送调节控制指令以加大所述排风装置15的排风动力例如加大风扇转速等或者加大排风管道的风道宽度等，从而实现自动调节；亦可在洁净度高于这一预设阈值之后减少排风动力。
[0018]在一实施例中，所述预设阈值为0.5 μπι以上的粉尘颗粒数持续维持在3000个以下，100%避免了广品污染的品质隐患。
[0019]在一实施例中，所述半导体切割设备粉尘逃逸量控制系统I设于无尘车间内。
[0020]综上所述，本发明提供一种半导体切割设备粉尘逃逸量控制系统，包括:洁净度检测模块，用于检测所在环境的洁净度信息；信号处理模块，电性连接于所述洁净度检测模块，用于将所述洁净度信息转化并输出洁净度指示信号；中央处理系统，电性连接于所述信号处理模块，用于接收所述洁净度指示信号，根据洁净度指示信号输出调节控制指令；用于粉尘逃逸的粉尘逃逸管道、及用于为所述粉尘逃逸管道提供排风的排风装置，所述排风装置电性连接于所述中央处理系统，根据所述调节控制指令控制粉尘排放；实现自动化调节洁净度减少无尘车间的污染，提升良品率。
[0021]上述实施例仅例示性说明本发明的原理及其功效，而非用于限制本发明。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本发明的权利要求所涵盖。
【主权项】
1.一种半导体切割设备粉尘逃逸量控制系统，其特征在于，包括: 洁净度检测模块，用于检测所在环境的洁净度信息； 信号处理模块，电性连接于所述洁净度检测模块，用于将所述洁净度信息转化并输出洁净度指示信号； 中央处理系统，电性连接于所述信号处理模块，用于接收所述洁净度指示信号，根据洁净度指示信号输出调节控制指令； 用于粉尘逃逸的粉尘逃逸管道、及用于为所述粉尘逃逸管道提供排风的排风装置，所述排风装置电性连接于所述中央处理系统，根据所述调节控制指令控制粉尘排放。
2.根据权利要求1所述的半导体切割设备粉尘逃逸量控制系统，其特征在于，所述中央处理系统根据所接收的洁净度指示信号判断环境洁净度低于预设阈值时，发送调节控制指令以加大所述排风装置的排风动力。
3.根据权利要求1所述的半导体切割设备粉尘逃逸量控制系统，其特征在于，所述预设阈值为0.5 ym以上的粉尘颗粒数持续维持在3000个以下。
4.根据权利要求1所述的半导体切割设备粉尘逃逸量控制系统，其特征在于，其设于无尘车间内。
【专利摘要】本发明提供一种半导体切割设备粉尘逃逸量控制系统，包括：洁净度检测模块，用于检测所在环境的洁净度信息；信号处理模块，电性连接于所述洁净度检测模块，用于将所述洁净度信息转化并输出洁净度指示信号；中央处理系统，电性连接于所述信号处理模块，用于接收所述洁净度指示信号，根据洁净度指示信号输出调节控制指令；用于粉尘逃逸的粉尘逃逸管道、及用于为所述粉尘逃逸管道提供排风的排风装置，所述排风装置电性连接于所述中央处理系统，根据所述调节控制指令控制粉尘排放，实现自动化调节洁净度减少无尘车间的污染，提升良品率。
【IPC分类】G05B19-418
【公开号】CN104536402
【申请号】CN201410765531
【发明人】朱建纲
【申请人】海太半导体（无锡）有限公司
【公开日】2015年4月22日
【申请日】2014年12月13日