一种供釉系统流量控制方法
【技术领域】
[0001] 本发明主要设及供釉系统技术领域，尤其设及供釉系统流量控制技术领域。
【背景技术】
[0002] 供釉系统作为一套可设定釉料流量的系统被广泛应用着，现有的供釉系统一般采 用螺杆累输送，在螺杆累的出口安装有质量流量计，W测量螺杆累出口的流量并反馈控制 螺杆累的转速，同时，供釉系统通过PID控制器实现对釉料流量的自动控制，由于供釉系统 应用的每批物料的物理特性都存在少量差异，更换不同批次物料后，可通过PID控制器使釉 料的实际流量达到设定流量值，但设定流量值更改后，需要较长的时间（约5-lOs)釉料的实 际流量才能达到设定流量值，准确度不高。
【发明内容】
[0003] 本发明提供一种供釉系统流量控制方法，应用该方法可实现快速准确切换供釉系 统的流量，当设定流量值更改后，仅需较短的时间釉料的实际流量即可达到设定流量值，准 确度高。
[0004] 本发明所采用的技术方案为：
[0005] -种供釉系统流量控制方法，该供釉系统的釉料采用螺杆累输送，并在螺杆累出 口安装有测量该螺杆累输出流量的质量流量计，且该供釉系统通过PID控制器实现对釉料 流量的自动控制，该方法包括W下步骤：
[0006] a)、设定控制用常量:根据供釉系统的流量范围设定若干个流量值flowia= 〇、l、 2、3···η);在相邻两个流量值floWi、floWi+込间设定流量设定值seti(i = 0、l、2、3···]!)，并使 floWi<seti<flowi+i;启动供釉系统，使供釉系统内管道的釉液流量达到流量设定值seti， 并记录供釉系统内螺杆累的相应转速outi;
[0007] b)、设定螺杆累转速:将供釉系统需改变的流量值设为set,若seti<set含seti+1; 根据公式
，计算得出与该流量值Set对应的螺杆 累转速out;
[000引C)、进行流量调控:将流量值set输入至供釉系统，并将螺杆累的转速调整至转速out,同时，使PID控制器在时间t内设定为开环控制方式;随后，将PID控制器设定为闭环控 制方式，位于螺杆累出口附近的质量流量计获取供釉系统的实时流量值PV。
[0009] 其中，时间t为0.5-4S。该时间tW开环控制结束时实时流量值稳定为准。
[0010] 通过该供釉系统流量控制方法可实现快速准确切换供釉系统的流量，当流量值 set更改后，仅需较短的时间釉料的实际流量即可达到设定流量值，实际测量切换时间为0 ~2sW内，准确度高。
[0011] 该方法还包括步骤d)、更新控制用常量:将供釉系统的实时流量值PV与流量值set 进行对比，当供釉系统的实时流量值PV与流量值set满足|PV-setI<0.07时，若fl0Wi<set <floww，则将流量设定值seti的具体数值更新为流量值set的具体数值，将螺杆累的相应 转速outi的具体数值更新为螺杆累转速out的具体数值。通过更新控制用常量，进一步确保 供釉系统的流量控制的准确度，实现快速准确切换供釉系统的流量。
[001^ 在步骤a)中，所述流量值flowi在2~lOkg/min范围内取值。2~lOkg/min为常用的 供釉系统需求流量范围。
[0013] 在步骤b)和步骤C)之间还包括W下步骤bl):将供釉系统现行的流量值设为set'， 若36*'-36〇11^/111^，则使螺杆累反转时间*'，并使该螺杆累的反转转速为步骤6)中的螺 杆累转速out;该时间
其中，K为常数，Κ=流量设定最大值-流量设定最小 值，Τ为供釉系统由最大使用流量改为最小使用流量时，螺杆累反转所需时间。可快速实现 供釉系统釉料大流量到小流量的切换，实际测量切换时间为0~2sW内。
[0014] 本发明所带来的有益效果为：
[0015] 1、通过该供釉系统流量控制方法可实现快速准确切换供釉系统的流量，当流量值 set更改后，仅需较短的时间釉料的实际流量即可达到设定流量值，实际测量切换时间为0 ~2sW内，准确度高；
[0016] 2、可快速实现供釉系统釉料大流量到小流量的切换，实际测量切换时间为0~2s W内。
【附图说明】
[0017] 图1为本发明实施例的流程图；
[0018] 图2为本发明实施例中的流量设定-转速图。
【具体实施方式】
[0019] 如图1所示，一种供釉系统流量控制方法，该供釉系统的釉料采用螺杆累输送，并 在螺杆累出口安装有测量该螺杆累输出流量的质量流量计，且该供釉系统通过PID控制器 实现对釉料流量的自动控制，该方法包括W下步骤：
[0020] a)、设定控制用常量:根据供釉系统的流量范围设定若干个流量值flowia= 〇、l、 2、3···η);在相邻两个流量值flowi、flowi+込间设定流量设定值seti(i= 0、l、2、3···]!)，并使 floWi<seti<flowi+i;启动供釉系统，使供釉系统内管道的釉液流量达到流量设定值seti， 并记录供釉系统内螺杆累的相应转速OUti;
[0021] b)、设定螺杆累转速:将供釉系统需改变的流量值设为set,若seti<set含seti+1; 根据公式
计算得出与该流量值set对应的螺杆 累转速out;
[0022] C)、进行流量调控:将流量值set输入至供釉系统，并将螺杆累的转速调整至转速 out,同时，使PID控制器在时间t内设定为开环控制方式;随后，将PID控制器设定为闭环控 制方式，位于螺杆累出口附近的质量流量计获取供釉系统的实时流量值PV。
[0023] 其中，时间t为0.5-4s。本实施例中，t= 2s，开环控制经过该时间t后，实时流量值 趋于稳定。
[0024]本实施例中，流量值flowi在2-lOkg/min范围内取值，且η取值为4，即根据供釉系 统的流量范围设定5个流量值f 1OWO、f 1OW1、f 1OW2、f 1OW3、f 1OW4，并手动测量该5个流量值 f l〇w〇、f l〇Wl、f l〇W2、f l〇W3、f l〇W4对应的牵专速，并记录为0111：0、0111：1、0邮、0邮、0帕，该5个流 量值 f l〇w〇、f l〇Wl、f l〇W2、f l〇W3、f l〇W4 和其对应的转速 0111：日、0111：1、01112、01113、01114组成坐标 中的5个点，近似认为相邻的两个流量值flowi、flowi+i范围内流量和螺杆累转速为线性关 系，可得图2的流量设定-转速图。因而可对应获得不同流量值set所对应的转速out,W实现 快速准确切换供釉系统的流量。
[0025]通过该供釉系统流量控制方法可实现快速准确切换供釉系统的流量，当流量值 set更改后，仅需较短的时间釉料的实际流量即可达到设定流量值，实际测量切换时间为0 ~2sW内，准确度高。
[0026]该方法还包括步骤d)、更新控制用常量:将供釉系统的实时流量值PV与流量值set 进行对比，当供釉系统的实时流量值PV与流量值set满足|PV-setI<0.07时，若floWi<set <floww，则将流量设定值seti的具体数值更新为流量值set的具体数值，将螺杆累的相应 转速outi的具体数值更新为螺杆累转速out的具体数值。通过更新控制用常量，进一步确保 供釉系统的流量控制的准确度，实现快速准确切换供釉系统的流量。
[0027] 在步骤a)中，所述流量值flowi在2~lOkg/min范围内取值。2~lOkg/min为常用的 供釉系统需求流量范围。
[00%]在步骤b)和步骤C)之间还包括W下步骤bl):将供釉系统现行的流量值设为set'， 若36*'-36〇11^/111^，则使螺杆累反转时间*'，并使该螺杆累的反转转速为步骤6)中的螺 杆累转速out;该时间
其中，K为常数，Κ =流量设定最大值-流量设定最小 值，本实施例中，Κ取值为10，Τ为供釉系统由最大使用流量改为最小使用流量时，螺杆累反 转所需时间。可快速实现供釉系统釉料大流量到小流量的切换，实际测量切换时间为0~2s W内。
[0029]上列详细说明是针对本发明之一可行实施例的具体说明，该实施例并非用W限制 本发明的专利范围，凡未脱离本发明所为的等效实施或变更，均应包含于本案的专利范围 中。
【主权项】
1. 一种供釉系统流量控制方法，该供釉系统的釉料采用螺杆栗输送，并在螺杆栗出口 安装有测量该螺杆栗输出流量的质量流量计，且该供釉系统通过PID控制器实现对釉料流 量的自动控制，其特征在于:包括以下步骤： a) 、设定控制用常量:根据供釉系统的流量范围设定若干个流量值flowi (i = 0、1、2、3… 11);在相邻两个流量值;1^1(^、;1^1(^+1之间设定流量设定值861^(1 = 0、1、2、3'"11)，并使;1^1〇?^ <seti < f lowi+i;启动供釉系统，使供釉系统内管道的釉液流量达到流量设定值seti，并记 录供釉系统内螺杆栗的相应转速outi; b) 、设定螺杆栗转速:将供釉系统需改变的流量值设为set，若seti<set < seti+i;根据 公式，.计算得出与该流量值set对应的螺杆栗转 速 out; c) 、进行流量调控:将流量值set输入至供釉系统，并将螺杆栗的转速调整至转速out， 同时，使PID控制器在时间t内设定为开环控制方式；随后，将PID控制器设定为闭环控制方 式，位于螺杆栗出口附近的质量流量计获取供釉系统的实时流量值PV。2. 根据权利要求1所述的一种供釉系统流量控制方法，其特征在于：所述的时间t为 0.5-4s〇3. 根据权利要求1或2所述的一种供釉系统流量控制方法，其特征在于:还包括步骤d)、 更新控制用常量:将所述供釉系统的实时流量值PV与所述流量值set进行对比，当所述供釉 系统的实时流量值PV与所述流量值set满足| PV-set |〈0.07时，若f l〇Wi<set < f lowi+1，则 将所述流量设定值具体数值更新为所述流量值set的具体数值，将所述螺杆栗的相 应转速out i的具体数值更新为所述螺杆栗转速out的具体数值。4. 根据权利要求3所述的一种供釉系统流量控制方法，其特征在于:在所述步骤a)中， 所述流量值flowi在2~10kg/min范围内取值。5. 根据权利要求3所述的供釉系统流量控制方法，其特征在于:在所述步骤b)和所述步 骤c)之间还包括以下步骤bl):将供釉系统现行的流量值设为set '，若set'_set>lkg/min， 则使所述螺杆栗反转时间t '，并使所述螺杆栗的反转转速为所述步骤b)中的螺杆栗转速 out;该时间，其中，K为常数，K =流量设定最大值-流量设定最小值，T为所述 供釉系统由最大使用流量改为最小使用流量时，所述螺杆栗反转所需时间。
【专利摘要】一种供釉系统流量控制方法，该方法根据需设定的流量值计算得到相应的螺杆泵转速，在改变现有流量为需设定的流量值时，将该PID控制器设置为开环，并使螺杆泵的转速为计算得到的螺杆泵转速，两秒后再将PID设置为闭环。应用该方法可实现快速准确切换供釉系统的流量，当设定流量值更改后，仅需较短的时间釉料的实际流量即可达到设定流量值，准确度高。
【IPC分类】G05D7/06
【公开号】CN105446372
【申请号】CN201510957470
【发明人】刘冰, 林任志
【申请人】广州朗高科技有限公司
【公开日】2016年3月30日
【申请日】2015年12月17日