专利名称：触摸感应器的制造方法及显示设备的制作方法
技术领域：
本发明属于触摸屏技术领域，具体涉及一种触摸感应器的制造方法及显示设备。
背景技术：
随着电子技术的不断发展，触摸屏已经成为手机、掌上电脑等显示设备的常见配置。具体结构是，在屏幕内设置触摸感应器。如图I、图2所示，触摸感应器主要由电极以及X、Y方向连线构成，电极也根据X、Y方向分为两组，电极通常是在基板I上同时形成的；此外，两组电极应当单独驱动，所以两组电极必须各自导通并且相互绝缘。通常的做法是，在两组电极交叉处，Y方向电极直接在电极层通过Y方向连线导通，然后在Y方向连线上覆盖绝缘层2，再在绝缘层2上形成导电桥3结构，用于导通X方向电极。当然，也可以是X方向电极在电极层导通，Y方向电极通过导电桥导通，这是非常简单的置换手段。这样两组电极就分别通过Y方向连线和导电桥 3各自导通，并且利用绝缘层2相互绝缘，实现单独驱动的效果。本发明人在实现本发明的过程中发现，现有技术至少存在以下问题现有的触摸感应器制造方法，电极层和绝缘层是单独形成的，之后再形成导电桥，则至少需要三次掩膜版(3mask)工艺，制造过程复杂，导致触摸感应器的生产效率低的技术问题。
发明内容
本发明实施例提供了一种触摸感应器的制造方法以及显示设备，解决了现有的触摸感应器制造方法制造过程复杂，导致触摸感应器的生产效率低的技术问题。为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案一种触摸感应器的制造方法，包括在基板上形成电极层；在所述电极层上形成绝缘层；在所述绝缘层上涂覆光刻胶；利用灰阶掩膜工艺对所述光刻胶曝光和显影，所述光刻胶形成为完全去除区域、完全保留区域和部分保留区域；对与光刻胶的完全去除区域对应的所述绝缘层进行刻蚀，露出电极层；对所述电极层进行过刻蚀，使电极层图案的边缘相比于绝缘层边缘向内缩进，形成电极和Y方向连线部分的图案；对光刻胶进行灰化处理去除部分保留区域的光刻胶；对露出的所述绝缘层进行刻蚀；去除所述完全保留区域的光刻胶；在所述绝缘层上形成导电桥。一种显示设备，包括触摸感应器，所述触摸感应器按照上述制造方法制成。与现有技术相比，本发明所提供的上述技术方案具有如下优点利用一次灰阶掩膜版工艺使光刻胶形成不同厚度的完全去除区域、完全保留区域和部分保留区域，再经过刻蚀绝缘层、过刻蚀电极层、灰化光刻胶、再次刻蚀绝缘层、再次灰化光刻胶，即可制造出触摸感应器的电极层和绝缘层。之后可利用一次掩膜版工艺形成导电桥。所以总共只需要两次掩膜版(2mask)工艺,就能够完成触摸感应器的制造,简化了触摸感应器的制造过程,从而解决了现有的触摸感应器的生产效率低的技术问题。
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图I为现有的触摸感应器的结构不意图；图2为图I沿A-A线的局部剖视图； 图3a_图3e为本发明的实施例所提供的触摸感应器的制造方法中电极层和绝缘层的制造过程示意图；图4为本发明的实施例所提供的触摸感应器的制造方法制成的触摸感应器的示意图。
具体实施例方式下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。实施例I :本发明实施例提供了一种触摸感应器的制造方法，包括SI :在基板上形成电极层。具体的，利用蒸镀工艺，在基板上形成电极层。作为一个优选方案，电极层由铟锡氧化物(ITO)构成。S2 :在电极层上形成绝缘层。 具体的，利用蒸镀工艺，在电极层上形成绝缘层。S3 :在绝缘层上涂覆光刻胶。具体的，在绝缘层上形成一层厚度均匀的光刻胶。S4 :利用灰阶掩膜(mask)工艺对光刻胶曝光和显影，使光刻胶形成为完全去除区域、完全保留区域和部分保留区域。如图3a所示，完全保留区域对应Y方向连线的图案，部分保留区域对应电极层的图案。作为一个优选方案，部分保留区域光刻胶厚度，是完全保留区域光刻胶厚度的30-70%。S5 :对与光刻胶的完全去除区域对应的绝缘层进行刻蚀，露出电极层。S6:对电极层进行过刻蚀，使电极层图案的边缘相比于绝缘层边缘向内缩进，形成电极和Y方向连线部分的图案。作为一个优选方案，电极层图案的边缘相比于绝缘层边缘向内缩进尺寸大于等于2 μ m。对电极层进行过刻蚀，使电极层形成如图3b所示的图案。本实施例中，因为采用了过刻蚀工艺，电极层图案的边缘相比于绝缘层边缘，会向内缩进2. 5-3. 5 μ m。S7 :对光刻胶进行灰化处理去除部分保留区域的光刻胶。去除一定厚度的光刻胶，使Y方向连线部分的光刻胶厚度减小，并且完全去除电极部分的光刻胶。如图3c所示，由于完全保留区域的光刻胶厚4度大于部分保留区域的光刻胶，所以利用灰化工艺，将部分保留区域的光刻胶去除之后，完全保留区域的光刻胶4仍然存在，只是厚度减小了。S8 :对露出的绝缘层进行刻蚀。如图3d所示，由于除完全保留区域之外的光刻胶都被去除了，所以在这一次刻蚀之后，只有完全保留区域，也就是Y方向连线部分还保留有绝缘层2，其他部分的绝缘层都 被刻蚀掉了。S9 :去除完全保留区域的光刻胶。如图3e所示，再次利用灰化工艺，去除完全保留区域的光刻胶，露出绝缘层。经过上述步骤，完成了触摸感应器的电极层和绝缘层的制造，之后还包括SlO :利用掩膜版工艺在绝缘层上形成导电桥。如图4所示，利用常规的导电桥3的制造方法即可，使X方向电极通过导电桥3导通，完成触摸感应器的制造。电极层的厚度在400 1200之间，厚度非常小，由于电极层的边缘比绝缘层边缘向内缩进2. 5 3. 5 μ m，所以金属桥不会与绝缘层下面的电极层相接触。此外，电极层中Y方向连线部分在Y方向上的长度大于导电桥在Y方向上的宽度。当然，也可以是X方向电极在电极层导通，Y方向电极通过导电桥导通，这是非常简单的置换手段。利用一次灰阶掩膜版工艺使光刻胶形成不同厚度的完全去除区域、完全保留区域和部分保留区域，再经过刻蚀绝缘层、过刻蚀电极层、灰化光刻胶、再次刻蚀绝缘层、再次灰化光刻胶，即可制造出触摸感应器的电极层和绝缘层。之后再利用一次掩膜版工艺形成导电桥。所以总共只需要2mask工艺，就能够完成触摸感应器的制造，简化了触摸感应器的制造过程，从而解决了现有的触摸感应器的生产效率低的技术问题。实施例2 本发明实施例提供了一种显示设备，包括触摸感应器，所述触摸感应器按照上述实施例I所提供的制造方法制成。由于本实用新型实施例与上述本实用新型实施例所提供的搬运装置具有相同的技术特征，所以也能产生相同的技术效果，解决相同的技术问题。本实施例中，在触摸感应器中，电极层图案的边缘相比于绝缘层边缘向内缩进尺寸大于等于2 μ m。作为一个优选方案，电极层图案的边缘相比于绝缘层边缘向内缩进尺寸为 2. 5 3. 5 μ m。在触摸感应器中，电极层的厚度在400 1200之间，厚度非常小，由于电极层的边缘比绝缘层边缘向内缩进2. 5 3. 5 μ m，所以金属桥不会与绝缘层下面的电极层相接触以上所述，仅为本发明的具体实施方式
，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以 权利要求的保护范围为准。
权利要求
1.一种触摸感应器的制造方法，其特征在于，包括 在基板上形成电极层； 在所述电极层上形成绝缘层； 在所述绝缘层上涂覆光刻胶； 利用灰阶掩膜工艺对所述光刻胶曝光和显影，所述光刻胶形成为完全去除区域、完全保留区域和部分保留区域； 对与光刻胶的完全去除区域对应的所述绝缘层进行刻蚀，露出电极层； 对所述电极层进行过刻蚀，使电极层图案的边缘相比于绝缘层边缘向内缩进，形成电极和Y方向连线部分的图案； 对光刻胶进行灰化处理去除部分保留区域的光刻胶； 对露出的所述绝缘层进行刻蚀； 去除所述完全保留区域的光刻胶； 在所述绝缘层上形成导电桥。
2.根据权利要求I所述的制造方法，其特征在于 所述电极层图案的边缘相比于绝缘层边缘向内缩进尺寸大于等于2 ym。
3.根据权利要求2所述的制造方法，其特征在于所述电极层图案的边缘相比于绝缘层边缘向内缩进尺寸为2. 5 3. 5 ii m。
4.根据权利要求I所述的制造方法，其特征在于在基板上形成电极层，具体为 利用蒸镀工艺，在基板上形成电极层。
5.根据权利要求I所述的制造方法，其特征在于在所述电极层上形成绝缘层，具体为 利用蒸镀工艺，在所述电极层上形成绝缘层。
6.根据权利要求I所述的制造方法，其特征在于所述电极层由铟锡氧化物构成。
7.—种显示设备，其特征在于该显示设备包括触摸感应器，所述触摸感应器按照权利要求I所提供的制造方法制成。
8.根据权利要求7所述的显示设备，其特征在于在所述触摸感应器中，电极层图案的边缘相比于绝缘层边缘向内缩进尺寸大于等于2iim。
9.根据权利要求8所述的显示设备，其特征在于所述电极层图案的边缘相比于绝缘层边缘向内缩进尺寸为2. 5 3. 5 ii m。
全文摘要
本发明实施例公开了一种触摸感应器的制造方法及显示设备，属于触摸屏技术领域。解决了现有的触摸感应器的制造过程复杂，生产效率低的技术问题。该制造方法，包括利用灰阶掩膜工艺对光刻胶曝光和显影，光刻胶形成为完全去除区域、完全保留区域和部分保留区域；对与光刻胶的完全去除区域对应的绝缘层进行刻蚀，露出电极层；对电极层进行过刻蚀，使电极层图案的边缘相比于绝缘层边缘向内缩进，形成电极和Y方向连线部分的图案；对光刻胶进行灰化处理去除部分保留区域的光刻胶；对露出的绝缘层进行刻蚀；去除完全保留区域的光刻胶；在绝缘层上形成导电桥。该显示设备包括按照上述制造方法制成的触摸感应器。本发明应用于改进触摸感应器的制造方法。
文档编号G06F3/041GK102681714SQ20111030495
公开日2012年9月19日 申请日期2011年10月10日 优先权日2011年10月10日
发明者林允植 申请人:京东方科技集团股份有限公司