触控板的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种触控板，包括一基底、一图案化装饰层、一图案化透明导电层以及一光学补偿层。图案化装饰层是设置在基底上，并在基底上定义出一穿透区以及一开孔位于穿透区的一侧。图案化透明导电层是设置在基底上，且图案化透明导电层包括一透明导电图案。透明导电图案是与开孔对应设置，且透明导电图案是在一垂直基底的垂直投影方向上全面覆盖开孔。光学补偿层是设置在基底上，且光学补偿层是在垂直投影方向上覆盖开孔。本发明是利用在触控板的开孔处设置透明导电图案与光学补偿层进行搭配，达到提高开孔的透射比的效果。
【专利说明】触控板
【技术领域】
[0001] 本发明是涉及一种触控板，特别涉及一种在照相机开孔处对应设置透明导电图案 与光学补偿层的触控板。
【背景技术】
[0002] 近年来触控技术的发展非常蓬勃，许多消费性电子产品例如移动电话与平板计算 机均有与触控技术整合的产品不断推出。由于此类消费性电子产品往往也整合了拍照的功 能，因此触控板的外盖玻璃（cover glass)上必须有对应的照相机开孔，用以使照相机能通 过照相机开孔接收外界的光线。为了提高照相机拍照的质量，改善照相机开孔的透射比是 其中一种方式。一般来说，传统提高透射比的作法为直接贴附抗反射膜。由于一般的照相 机开孔较小（直径约1. 5mm左右），因此对照相机开孔进行抗反射膜贴附时也存在不易贴附 的问题，进而造成作业工时较长且影响合格率以及成本。
【发明内容】
[0003] 本发明的目的在提供一种触控板，利用在触控板的开孔处设置透明导电图案与光 学补偿层进行搭配，达到提高开孔的透射比的效果。
[0004] 本发明提供一种触控板，包括一基底、一图案化装饰层、一图案化透明导电层以及 一光学补偿层。图案化装饰层是设置在基底上，并在基底上定义出一穿透区以及一开孔位 于穿透区的一侧。图案化透明导电层是设置在基底上，且图案化透明导电层包括一透明导 电图案。透明导电图案是与开孔对应设置，且透明导电图案是在一垂直基底的垂直投影方 向上全面覆盖开孔。光学补偿层是设置在基底上，且光学补偿层是在垂直投影方向上覆盖 开孔。
[0005] 在本发明的另外一实施例中，图案化透明导电层还包括多个触控感测电极，且触 控感测电极是设置在穿透区内。
[0006] 在本发明的另外一实施例中，光学补偿层是在垂直投影方向上进一步覆盖穿透 区。
[0007] 在本发明中，设置在开孔处的透明导电图案与触控感测电极可以用相同材料以及 同一制造工艺步骤所形成，故本发明的触控板并不需使用额外的制造工艺即可达到提高开 孔的透射比的效果。此外，设置在开孔处的光学补偿层也延伸覆盖位于穿透区的触控感测 电极，故可同时达到降低触控感测电极可识别度的效果。
【专利附图】
【附图说明】
[0008] 图1所示为本发明的第一优选实施例的触控板的示意图。
[0009] 图2为沿图1中A-A'剖线所绘示的剖视图。
[0010] 图3所示为本发明的第二优选实施例的触控板的示意图。
[0011] 图4所示为本发明的第三优选实施例的触控板的示意图。
[0012] 图5所示为本发明的第四优选实施例的触控板的示意图。
[0013] 图6所示为本发明的一优选实施例的触控感测电极的示意图。
[0014] 图7所示为本发明的另外一优选实施例的触控感测电极的示意图。
[0015] 图8所示为本发明的又一优选实施例的触控感测电极的示意图。
[0016] 其中，附图标记说明如下：
[0017] 101 触控板
[0018] 102 触控板
[0019] 110 基底
[0020] 120 图案化装饰层
[0021] R1 穿透区
[0022] R2 开孔
[0023] 130 图案化透明导电层
[0024] 131 触控感测电极
[0025] 131R 触控信号接收电极
[0026] 131T 触控信号传递电极
[0027] 131X 第一轴向电极
[0028] 131Y 第二轴向电极
[0029] 132 透明导电图案
[0030] 140 光学补偿层
[0031] 141 第一补偿层
[0032] 142 第二补偿层
[0033] 150 第三补偿层
[0034] 160 绝缘块
[0035] 190 光敏装置
[0036] 201 触控板
[0037] 202 触控板
[0038] X 第一方向
[0039] Y 第二方向
[0040] Z 垂直投影方向
【具体实施方式】
[0041] 为使熟习本发明所属【技术领域】的技术人员能进一步了解本发明，下文特列举本发 明的数个优选实施例，并配合附图，详细说明本发明的构成内容。
[0042] 请参考图1与图2。图1所示为本发明的第一优选实施例的触控板的示意图。图 2为沿图1中A-A'剖线所绘示的剖视图。为了方便说明，本发明的各附图仅为示意用以容 易了解本发明，其详细的比例可依照设计的需求进行调整。如图1与图2所示，本实施例提 供一触控板101，包括一基底110、一图案化装饰层120、一图案化透明导电层130以及一光 学补偿层140。基底110可包括例如玻璃基底、陶瓷基底、塑胶基底或其他适合材料所形成 的基底。图案化装饰层120是设置在基底110上，并在基底110上定义出一穿透区R1以及 一开孔R2位于穿透区R1的一侧。值得说明的是，本实施例的触控板101可还包括一光敏 装置190与开孔R2对应设置，光敏装置190可为一影像撷取装置例如照照相机，而开孔R2 可为一影像撷取开孔例如照相机开孔，但并不以此为限。在本发明的其他优选实施例中，也 可视需要使用其他的光敏装置190例如光学近距感测（proximity sensing)器等与开孔R2 对应设置。此外，穿透区R1的面积是远大于开孔R2的面积，且开孔R2的形状也可视需要进 行调整。图案化透明导电层130是设置在基底110上，且图案化透明导电层130包括一透 明导电图案132。透明导电图案132是与开孔R2对应设置，且透明导电图案132是在一垂 直基底110的垂直投影方向Z上全面覆盖开孔R2。光学补偿层140是设置在基底110上， 且光学补偿层140是在垂直投影方向Z上全面覆盖开孔R2。图案化透明导电层130还包括 多个触控感测电极131且触控感测电极131是设置在穿透区R1内。光学补偿层140进一 步是在垂直投影方向Z上全面覆盖穿透区R1。
[0043] 进一步说明，本实施例的图案化透明导电层130可包括氧化铟锡（indium tin oxide, ITO)、氧化铟锋（indium zinc oxide, IZO)、氧化错锋（aluminum zinc oxide, ΑΖ0) 或其他适合的透明导电材料。设置在开孔R2处的透明导电图案132与触控感测电极131 优选是以相同材料以及同一制造工艺步骤所形成。值得说明的是，透明导电图案132是与 触控感测电极131间可视需要设计为互相电连接或不电连接，且当透明导电图案132是 与触控感测电极131电不相连时，透明导电图案132优选是为一电浮接（electrically floating)的透明导电图案，但并不以此为限。在本实施例中，图案化透明导电层130是设 置在基底110与光学补偿层140之间。光学补偿层140可包括一第一补偿层141与一第二 补偿层142沿垂直投影方向Z上堆栈设置，且第一补偿层141是设置在图案化透明导电层 130与第二补偿层142之间，但并不以此为限。在本发明的其他优选实施例中，也可视需要 使用单层或其他种多层结构的光学补偿层140用以达到所需的光学补偿效果。在本实施例 中，第一补偿层141的折射率优选是小于图案化透明导电层130的折射率以及第二补偿层 142的折射率，且图案化透明导电层130的折射率优选是大于基底110的折射率。第一补 偿层141与第二补偿层142可包括透明绝缘材料例如氮化娃（silicon nitride)、氧化娃 (silicon oxide)、氮氧化娃（silicon oxynitride)、丙烯酸类树脂（acrylic resin)或其 它适合的有机或无机的透明绝缘材料。通过上述的各层的设置位置与其折射率之间的互相 搭配，可达到提高开孔R2的透射比的效果。举例来说，请参考下列表1，并请一并参考图2。 表1所列的数据为分别使用折射率约为1. 5的玻璃基底、使用折射率约为1. 9的氧化铟锌 形成透明导电图案132、使用折射率约为1. 5的二氧化硅（Si02)形成第一补偿层141以及 使用折射率约为1.87的氮化硅（SiNx)形成第二补偿层142时开孔R2的透射比与反射比 的改善效果，并对照一般单纯玻璃基底以及仅在玻璃基底上设置二氧化硅与氮化硅层时开 孔R2的透射比与反射比的对照状况。
[0044] 表 1
[0045]
【权利要求】
1. 一种触控板，其特征在于，包括： 一基底； 一图案化装饰层，设置在该基底上，并在该基底上定义出一穿透区以及一开孔位于该 穿透区的一侧； 一图案化透明导电层，设置在该基底上，其中该图案化透明导电层包括一透明导电图 案，与该开孔对应设置，且该透明导电图案是在一垂直该基底的垂直投影方向上全面覆盖 该开孔；以及 一光学补偿层，设置在该基底上，其中该光学补偿层是在该垂直投影方向上覆盖该开 孔。
2. 根据权利要求1所述的触控板，其特征在于，该图案化透明导电层还包括多个触控 感测电极，设置在该穿透区。
3. 根据权利要求1所述的触控板，其特征在于，该光学补偿层还近一步覆盖该穿透区。
4. 根据权利要求2所述的触控板，其特征在于，该透明导电图案是不与该些触控感测 电极电连接，且该透明导电图案是为一电浮接的透明导电图案。
5. 根据权利要求2所述的触控板，其特征在于，该透明导电图案是与该些触控感测电 极电连接。
6. 根据权利要求1所述的触控板，其特征在于，还包括一光敏装置与该开孔对应设置。
7. 根据权利要求6所述的触控板，其特征在于，该光敏装置是为一影像撷取装置，而该 开孔是为一影像撷取开孔。
8. 根据权利要求1所述的触控板，其特征在于，该图案化透明导电层是设置在该基底 与该光学补偿层之间。
9. 根据权利要求8所述的触控板，其特征在于，该图案化透明导电层的折射率是大于 该基底的折射率。
10. 根据权利要求9所述的触控板，其特征在于，该光学补偿层包括一第一补偿层与一 第二补偿层沿该垂直投影方向上堆栈设置，该第一补偿层是设置在该图案化透明导电层与 该第二补偿层之间，且该第一补偿层的折射率是小于该图案化透明导电层的折射率以及该 第二补偿层的折射率。
11. 根据权利要求1所述的触控板，其特征在于，该光学补偿层是设置在该基底与该图 案化透明导电层之间。
12. 根据权利要求11所述的触控板，其特征在于，该光学补偿层包括一第一补偿层与 一第二补偿层沿该垂直投影方向上堆栈设置，该第二补偿层是设置在该基底与该第一补偿 层之间，且该第二补偿层的折射率是大于该基底的折射率以及该第一补偿层的折射率。
13. 根据权利要求12所述的触控板，其特征在于，该图案化透明导电层的折射率是大 于该第一补偿层的折射率。
14. 根据权利要求13所述的触控板，其特征在于，还包括一第三补偿层设置在该基底 上且全面覆盖该开孔与该穿透区，其中该图案化透明导电层是设置在该第一补偿层与该第 三补偿层之间，且该图案化透明导电层的折射率是大于该第三补偿层的折射率。
【文档编号】G06F3/041GK104216551SQ201310272558
【公开日】2014年12月17日 申请日期:2013年7月2日 优先权日:2013年5月30日
【发明者】朱冠宇, 王愉晴, 黄敬佩, 陈明武, 庄仕韵, 曾远康 申请人:胜华科技股份有限公司