电容触摸屏及其制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种电容触摸屏及其制造方法，涉及触摸屏领域，解决了现有电容触摸屏中的白色光阻透光率较高无法遮蔽金属触控层引线的问题。本发明实施例提供的电容触摸屏，包括形成在基板上的白色光阻层和金属触控层的引线，还包括形成在所述白色光阻层和所述金属触控层的引线之间的反射层，所述反射层在所述基板上的投影覆盖所述金属触控层的引线在所述基板上的投影。本发明实施例还提供了一种电容触摸屏的制造方法。
【专利说明】电容触摸屏及其制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及触摸屏领域，尤其涉及电容触摸屏及其制造方法。
【背景技术】
[0002]目前，OGS(One Glass Solut1n,单片玻璃式)电容触摸屏技术较目前主流的G/6(81388/^1388,玻璃/玻璃)电容触摸屏技术具有结构简单、轻、薄、透光性好等优点；由于省掉一片玻璃基板以及一道贴合工序，OGS电容触摸屏还具有生产成本低、产品良率高等优点。因此，OGS电容触摸屏具有广阔的市场前景。
[0003]OGS电容触摸屏包括位于屏幕中心的显示区域和位于屏幕边缘并环绕显示区域的非显示区域。OGS电容触摸屏在制造过程中，会在位于屏幕最外层的基板上的非显示区域形成黑色光阻，以遮蔽形成在黑色光阻层下方、位于屏幕内层的金属触控层引线。出于产品美观的考虑，市场上还出现了一种白色光阻替代黑色光阻的OGS电容触摸屏。
[0004]但是，由于白色光阻的透光率较高，即便是将光阻层制作的非常厚也无法使透光率达到理想值，造成了用户透过白色光阻看到金属触控层引线，无法实现遮蔽金属触控层引线的作用。
【发明内容】
[0005]本发明的实施例提供一种电容触摸屏及制造方法，解决了现有的电容触摸屏中的白色光阻透光率较高无法遮蔽金属触控层引线的问题。
[0006]为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案:
[0007]—种电容触摸屏，包括形成在基板上的白色光阻层和金属触控层的引线，还包括形成在所述白色光阻层和所述金属触控层的引线之间的反射层，所述反射层在所述基板上的投影覆盖所述金属触控层的弓I线在所述基板上的投影。
[0008]优选地，所述反射层的内侧边缘在所述基板上的投影与所述金属触控层的引线的内侧边缘在所述基板上的投影之间的距离不小于0.5mm。
[0009]具体地，所述白色光阻层在所述基板上的投影覆盖所述反射层在所述基板上的投影。
[0010]更进一步地，所述白色光阻层的内侧边缘在所述基板上的投影与所述反射层的内侧边缘在所述基板上的投影之间的距离为10-20 μ m。
[0011 ] 优选地，所述反射层由非导电的材料制成。
[0012]可选地，所述电容触摸屏，还包括绝缘层，形成在具有所述白色光阻层和所述反射层的所述基板表面上。
[0013]更进一步地，所述反射层由导电金属材料制成。
[0014]一种触控显示装置，其特征在于，包括上述电容触摸屏。
[0015]一种电容触摸屏的制造方法，包括如下步骤:
[0016]在基板上形成白色光阻材料层，通过一次构图工艺，形成包含白色光阻层的图形；
[0017]在形成包含白色光阻层的图形的所述基板上形成反射材料层，通过一次构图工艺，形成包含反射层的图形；所述反射层形成在所述白色光阻层上；
[0018]在形成包含反射层的图形的所述基板上形成金属触控层的引线，所述反射层在所述基板上的投影覆盖所述金属触控层的弓I线在所述基板上的投影。
[0019]更进一步地，所述的制造方法，在所述形成包含反射层的图形的所述基板上形成金属触控层的引线具体包括:
[0020]在具有所述白色光阻层和所述反射层的所述基板表面上形成金属触控材料层；[0021 ] 通过一次构图工艺，形成包含金属触控层的引线的图形。
[0022]可选地，所述的制造方法，在所述形成包含反射层的图形的所述基板上形成金属触控层的引线具体包括:
[0023]在具有所述白色光阻层和所述反射层的所述基板表面上形成绝缘层；
[0024]在所述绝缘层上形成金属触控材料层；
[0025]通过一次构图工艺，形成包含金属触控层的引线的图形。
[0026]本发明实施例提供的电容触摸屏及制造方法，通过在白色光阻层上和金属触控层的引线之间设置反射层，且反射层在基板上的投影覆盖金属触控层的引线在基板上的投影，当穿过金属触控层的引线的光线到达反射层时，被反射层反射，不能经由白色光阻层射出屏幕，使得用户不能透过白色光阻层和反射层看到金属触控层的引线，从而达到了遮蔽金属触控层引线的目的。
【专利附图】
【附图说明】
[0027]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0028]图1A-1C为本发明实施例2中提供的电容触摸屏的制造方法中各步骤形成结构的剖面结构示意图；
[0029]图2A-2D为本发明实施例3中提供的电容触摸屏的制造方法中各步骤形成结构的剖面结构示意图。
【具体实施方式】
[0030]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0031]实施例1
[0032]本实施例提供了一种电容触摸屏，如图2D所示，包括形成在基板11上的白色光阻层12和金属触控层的引线15，还包括形成在白色光阻层12和金属触控层的引线15之间的反射层13，反射层13在基板11上的投影覆盖金属触控层的引线15在基板11上的投影。
[0033]本实施例提供的电容触摸屏中，通过在白色光阻层12上和金属触控层的引线15之间设置反射层13，且反射层13在基板上的投影覆盖金属触控层的引线15在基板上的投影，当穿过引线15的光线al到达反射层13时，被反射层13反射，不能经由白色光阻层12射出屏幕，使得用户不能透过白色光阻层12和反射层13看到金属触控层的引线15，从而达到了遮蔽金属触控层引线的目的，该结构尤其适用于单片玻璃式电容触摸屏结构中。
[0034]上述电容触摸屏中，反射层13的内侧边缘在基板11上的投影与金属触控层的引线15的内侧边缘在基板11上的投影之间的距离d2优选不小于0.5mm,反射层13的投影区域不但可以完全遮住引线15的投影区域，而且超出了引线15的投影区域，因此，该距离范围的设置更保证了用户不能看到引线15。在实际生产中，该距离的大小只要满足用户不能看到引线即可，在此对该距离的最大值不做限定。
[0035]上述电容触摸屏中，白色光阻层12在基板11上的投影优选覆盖反射层13在基板11上的投影。反射层13投影的区域与白色光阻层12投影的区域可以完全相同；当然，反射层13投影的区域也可以小于白色光阻层12投影的区域，理想情况是反射层13投影的区域稍小于白色光阻层12投影的区域，白色光阻层12的内侧边缘在基板11上的投影与反射层13的内侧边缘在基板11上的投影之间的距离dl可以为10-20 μ m。这样，在刻蚀形成反射层13时，就不需要严格控制反射层13的边缘与白色光阻层12的边缘对齐，从而降低了刻蚀工艺的操作难度。
[0036]若反射层13投影超出白色光阻层12投影的覆盖范围，在白色光阻层12的覆盖范围内，经反射层13反射的光线经过白色光阻层12时，由于白色光阻层12的遮光作用，只有部分光线可以射出屏幕；在反射层13超出白色光阻层覆盖范围的部分，经反射层13反射的光线没有白色光阻层12的遮挡而全部射出屏幕，使得该部分的亮度相对较高，形成亮边，而影响美观，因此需要使白色光阻层12在基板11上的投影覆盖反射层13在基板11上的投影。
[0037]上述电容触摸屏中，反射层13既可以由导电材料制成，也可以由非导电的材料制成，该非导电材料可以为镜面油墨，因镜面油墨是以特殊的铝粉颜料和少量的树脂等基本材料组成，且铝粉颜料属片状，在表面平行排列得到镜面反射的性能，因此可起到对光线进行反射的效果。该材料可通过印刷方式形成在基板上。如上所述，电容触摸屏还包括形成在反射层13上的金属触控层的引线15，金属触控层是能够实现触控功能的金属线路层，包括位于显示区的触控功能部分(图中未示出)和位于非显示区的引线15。引线15形成在反射层13上，使得反射层13可以遮蔽屏幕内层的引线15，使得用户不能透过白色光阻层12而看到屏幕内层的引线15。
[0038]当反射层13采用非导电的材料时，金属触控层就可以在形成有反射层13的基板上直接制作，从而使引线15与反射层13直接接触，由于反射层不导电，因此不会对引线产生任何影响。而当反射层13采用导电材料时，该导电材料可以是金属铝(Al)、金属钥(Mo)或者钥铌(MoNb)和铝钕(AlNd)合金等材料，为了避免形成的引线15与反射层13直接接触而影响引线15性能，则必须采用额外步骤将引线15与反射层13电绝缘，如下面介绍的在形成反射层13的基板上形成绝缘层后再形成引线15，但采用额外步骤会增加电容触摸屏的制备成本，因此优选反射层13采用非导电的材料制成。
[0039]如上所述，电容触摸屏还可以包括绝缘层14，其形成在具有白色光阻层12和反射层13的基板11表面上。也就是说，绝缘层14位于反射层13和金属触控层的引线15之间.绝缘层14通常由绝缘材料制成，除了具有绝缘作用，还可以保护反射层13和白色光阻层12，并使形成有反射层13和白色光阻层12的基板表面平整。这样，对后续形成的金属触控层进行光刻以形成引线时，就可以避免爬坡困难、光刻对位困难等问题。
[0040]当电容触摸屏形成有绝缘层14时，其下方的反射层13既可以采用导电材料，也可以采用非导电的材料，当然，优选的是采用非导电材料。采用导电材料时，设置绝缘层不仅能使基板平整，从而避免后续形成引线时的爬坡困难、光刻对位困难等问题，还能避免反射层与引线直接接触影响引线的电性能。
[0041]需要说明的是，当反射层采用导电材料时，由于引线15与反射层13之间只隔了一层绝缘的绝缘层14，引线15与金属反射层13之间形成了较大的寄生电容，影响了触摸屏的靠近非显示区的触控性能，对此问题，可以采用集成电路补偿的方式，通过软件对边缘区域异常的点进行补偿或屏蔽。
[0042]本实施例还提供一种触控显示装置，包括上述实施例描述的电容触摸屏。
[0043]由于该电容触摸屏中的金属触控层弓I线被遮蔽，因此该触控显示装置中的金属触控层引线也被遮蔽。
[0044]实施例2
[0045]本实施例提供一种用于制造实施例1的电容触摸屏的方法，如图1A-1C，需要说明的是，图1A-1C与图1中相同的结构具有相同的附图标记。该制造方法具体包括如下步骤:
[0046]S21、在基板11上形成白色光阻材料层，如图1A所示，通过一次构图工艺，形成包含白色光阻层12的图形。
[0047]S22、在形成包含白色光阻层12的图形的基板11上形成反射材料层，如图1B所示，通过一次构图工艺，形成包含反射层13的图形；反射层13形成在白色光阻层12上。
[0048]S23、如图1C所示，在形成包含反射层13的图形的基板11上形成金属触控层的引线15，反射层13在基板11上的投影覆盖金属触控层的引线15在基板11上的投影。
[0049]需要说明的是，本发明所有实施例中描述的构图工艺均可以包括:在基板上涂敷光刻胶，将掩膜板遮盖在涂敷了光刻胶的基板上，曝光、显影之后，进行刻蚀，最后剥离光刻胶。
[0050]本实施例提供的电容触摸屏中，通过在白色光阻层12上和金属触控层的引线15之间设置反射层13，且反射层13在基板上的投影覆盖金属触控层的引线15在基板上的投影，当经过金属触控层的引线15的光线al到达反射层13时，被反射层13反射，不能经由白色光阻层12射出屏幕，使得用户不能透过白色光阻层12和反射层13看到金属触控层的引线15，从而达到了遮蔽金属触控层引线的目的。
[0051]本实施例提供的制造方法中，反射层13既可以由导电材料制成，也可以由非导电的材料制成。当反射层13是非导电的反射材料时，上述制造方法中，步骤S23中在形成包含反射层13的图形的基板11上形成金属触控层的引线15可以具体包括:在具有白色光阻层12和反射层13的基板11表面上形成导电的金属触控材料层；如图1C所示，通过一次构图工艺，形成包含金属触控层的引线15的图形。
[0052]如上所述，金属触控层是能够实现触控功能的金属线路层，包括位于显示区的触控功能部分(图中未示出)和位于非显示区的引线15。引线15形成在反射层13上，使得反射层13可以遮蔽屏幕内层的引线15，使得用户不能透过白色光阻层12而看到屏幕内层的引线15。
[0053]当反射层13采用导电材料时，为了避免形成的引线15与反射层13直接接触而影响引线15性能，可以采用额外步骤将引线15与反射层13电绝缘，如下面的实施例3介绍的在形成反射层13的基板上形成绝缘层后再形成引线15。
[0054]实施例3
[0055]本实施例提供一种用于制造实施例1的电容触摸屏的方法，如图2A-2D，需要说明的是，图2A-2D与图1中相同的结构具有相同的附图标记。所述制造方法具体包括如下步骤:
[0056]S31、在基板11上形成白色光阻材料层，如图2A所示，通过一次构图工艺，形成包含白色光阻层12的图形。
[0057]S32、在形成包含白色光阻层12的图形的基板11上形成反射材料层，如图2B所示，通过一次构图工艺，形成包含反射层13的图形；反射层13形成在白色光阻层12上。
[0058]S33、如图2C所示，在具有白色光阻层12和反射层13的基板11表面上形成绝缘层14。
[0059]S34、在绝缘层14上形成金属触控材料层。
[0060]S35、如图2D所示，通过一次构图工艺，形成包含金属触控层的引线15的图形。
[0061]本实施例提供的电容触摸屏中，通过在白色光阻层12上和金属触控层的引线15之间设置反射层13，且反射层13在基板上的投影覆盖金属触控层的引线15在基板上的投影，当经过金属触控层的引线15的光线al到达反射层13时，被反射层13反射，不能经由白色光阻层12射出屏幕，使得用户不能透过白色光阻层12和反射层13看到金属触控层的引线15，从而达到了遮蔽金属触控层引线的目的。
[0062]本实施例中，绝缘层14通常由绝缘材料制成，除了具有绝缘作用，还可以保护反射层13和白色光阻层12，并使形成有反射层13和白色光阻层12的基板表面平整。这样，对后续形成的金属触控层进行光蚀以形成引线时，就可以避免爬坡困难、光刻对位困难等问题。
[0063]引线15形成在绝缘层14上，引线15与反射层13之间由于间隔了绝缘层而电绝缘，避免了形成的引线15与导电的反射层13直接接触而影响引线15性能。
[0064]需要说明的是，本实施例提供的制造方法中，反射层13既可以由导电材料制成，也可以由非导电的材料制成，优选的是采用非导电材料。采用导电材料时，设置绝缘层不仅能使基板平整，从而避免后续形成引线时的爬坡困难、光刻对位困难等问题，还能避免反射层与引线直接接触影响引线的电性能。
[0065]如果反射层采用导电材料，由于引线15与反射层13之间只隔了一层绝缘的绝缘层14，引线15与金属反射层13之间形成了较大的寄生电容，影响了触摸屏的靠近非显示区的触控性能，对此问题，可以采用集成电路补偿的方式，通过软件对边缘区域异常的点进行补偿或屏蔽。
[0066]以上所述，仅为本发明的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本【技术领域】的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为o -1i I
【权利要求】
1.一种电容触摸屏，包括形成在基板上的白色光阻层和金属触控层的引线，其特征在于，还包括形成在所述白色光阻层和所述金属触控层的引线之间的反射层，所述反射层在所述基板上的投影覆盖所述金属触控层的弓I线在所述基板上的投影。
2.根据权利要求1所述的电容触摸屏，其特征在于，所述反射层的内侧边缘在所述基板上的投影与所述金属触控层的引线的内侧边缘在所述基板上的投影之间的距离不小于0.5mmο
3.根据权利要求1所述的电容触摸屏，其特征在于，所述白色光阻层在所述基板上的投影覆盖所述反射层在所述基板上的投影。
4.根据权利要求3所述的电容触摸屏，其特征在于，所述白色光阻层的内侧边缘在所述基板上的投影与所述反射层的内侧边缘在所述基板上的投影之间的距离为10-20 μ m。
5.根据权利要求1所述的电容触摸屏，其特征在于，所述反射层由非导电的材料制成。
6.根据权利要求1所述的电容触摸屏，其特征在于，还包括绝缘层，形成在具有所述白色光阻层和所述反射层的所述基板表面上。
7.根据权利要求6所述的电容触摸屏，其特征在于，所述反射层由导电金属材料制成。
8.—种触控显示装置，其特征在于，包括权利要求1-7任一项所述的电容触摸屏。
9.一种电容触摸屏的制造方法，其特征在于，包括如下步骤: 在基板上形成白色光阻材料层，通过一次构图工艺，形成包含白色光阻层的图形； 在形成包含白色光阻层的图形的所述基板上形成反射材料层，通过一次构图工艺，形成包含反射层的图形；所述反射层形成在所述白色光阻层上； 在形成包含反射层的图形的所述基板上形成金属触控层的引线，所述反射层在所述基板上的投影覆盖所述金属触控层的弓I线在所述基板上的投影。
10.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，所述在形成包含反射层的图形的所述基板上形成金属触控层的引线具体包括:在具有所述白色光阻层和所述反射层的所述基板表面上形成金属触控材料层； 通过一次构图工艺，形成包含金属触控层的引线的图形。
11.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，所述在形成包含反射层的图形的所述基板上形成金属触控层的引线具体包括: 在具有所述白色光阻层和所述反射层的所述基板表面上形成绝缘层； 在所述绝缘层上形成金属触控材料层； 通过一次构图工艺，形成包含金属触控层的引线的图形。
【文档编号】G06F3/044GK104331201SQ201410598383
【公开日】2015年2月4日 申请日期:2014年10月29日 优先权日:2014年10月29日
【发明者】谢涛峰, 张雷, 吴玲艳, 刘洋 申请人:合肥鑫晟光电科技有限公司, 京东方科技集团股份有限公司