一种便于清洗的计算机键盘的制作方法

本实用新型主要涉及计算机技术领域，特别是涉及一种便于清洗的计算机键盘。

背景技术：

现有技术中，计算机键盘通常采用塑料或者金属制成，在其面板上设置了若干按键孔，在按键孔中设置有弹簧，在弹簧上支承有按键，使用者可以通过敲打按键输入信号，然后弹簧将按键弹出回复，由于这种结构，使得按键与按键孔之间必须要存在一定的间隙，否则两者会产生较大的磨损导致键盘的使用寿命下降，另外，目前在清洗键盘时，需要比较小心，因为在键盘上还设置有若干指示灯，如果水滴渗入到指示灯中，容易诱发短路。

技术实现要素：

针对现有技术存在的不足，本实用新型旨在提供一种便于清洗的计算机键盘。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下的技术方案：

一种便于清洗的计算机键盘，包括有本体，所述本体具有正面板和背面板，所述正面板和背面板的左右两侧通过水平连接板相连，所述正面板和背面板的上侧通过第一弧形连接板相连，所述正面板和背面板的下侧通过第二弧形连接板相连，在所述正面板上开设有若干按键孔，在所述按键孔中嵌装有按键，并且所述按键的四周与所述按键孔的内壁紧密贴合；

在所述正面板上开设有阻隔槽，所述阻隔槽一端在所述正面板的左侧形成有出口，另一端在所述正面板的右侧形成有出口，所述阻隔槽将所述正面板分隔成功能区和键盘区，所述按键孔均设置在所述键盘区中，在所述功能区中设置有指示灯；

所述第一弧形连接板包括有上部和下部，所述上部与所述正面板连接成一体，所述下部与所述背面板连接成一体，在所述上部和所述下部之间形成有能打开的连接缝，在所述连接缝上开设有开关孔，在所述开关孔中设置有用于打开所述连接缝的开关。

作为本实用新型的改进，在所述背面板上固定有支撑座，所述支撑座包括弧形过渡面，水平支撑面和弧形支撑面，所述水平支撑面贴靠在所述背面板上，所述弧形过渡面一侧连接在所述水平支撑面的下侧，另一侧连接在所 述背面板上，所述弧形支撑面一侧连接在所述水平支撑面的上侧，另一侧连接在所述背面板上。

作为本实用新型的进一步改进，所述按键包括了字母键、数字键和功能键。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：通过一体式按键结构，可以防止灰尘以及在清洗过程中水滴会进入到键盘内部，另外通过设置阻隔槽可以有效防止清洗过程中水滴会碰到指示灯。

附图说明

图1为本实用新型实施例中便于清洗的计算机键盘的结构示意图；

图2为图1所示实施例另一个角度的结构示意图；

图3为图1所示实施例的侧视图。

具体实施方式

参照图1-图3对本实用新型中便于清洗的计算机键盘的实施例做进一步说明。

如图1-图3所示，本实施例为一种便于清洗的计算机键盘，包括有本体，所述本体具有正面板1和背面板2，所述正面板和背面板的左右两侧通过水平连接板3相连，所述正面板和背面板的上侧通过第一弧形连接板4相连，所述正面板和背面板的下侧通过第二弧形连接板5相连，在所述正面板上开设有若干按键孔11，在所述按键孔中嵌装有按键6，并且所述按键的四周与所述按键孔的内壁紧密贴合，所述按键包括了字母键61、数字键62和功能键63。换句话说，按键和按键孔呈无缝连接状态，按键的端面由弹性材料制成，可以在外部压力作用下向下凹陷，在按键中设置有传感器，当端面向下凹陷到一定程度时，会触发传感器，将信号输出。当端面的压力释放后，在自身的弹性作用下，端面会自动回复原位，从而实现复位操作。通过这种无缝连接的方式，当清洗时，可以将抹布弄的潮湿一点，不用担心水滴会由按键与按键孔之间的缝隙流入到键盘内部，造成内部电路的损坏。

在所述正面板上开设有阻隔槽7，所述阻隔槽一端在所述正面板的左侧形成有出口，另一端在所述正面板的右侧形成有出口，所述阻隔槽将所述正面板分隔成功能区12和键盘区13，所述按键孔均设置在所述键盘区中，在所述功能区中设置有指示灯8，指示灯是一种电子元器件，很容易受潮发生损坏，为了方式水滴流入到指示灯位置，故在正面板上开设了阻隔槽7，可 以将指示灯阻隔至功能区中，保持功能区的干燥。

所述第一弧形连接板包括有上部41和下部42，所述上部与所述正面板连接成一体，所述下部与所述背面板连接成一体，在所述上部和所述下部之间形成有能打开的连接缝43，在所述连接缝上开设有开关孔，在所述开关孔中设置有用于打开所述连接缝的开关44，该开关为一种机械弹性开关，只需要按下这个开关，就可以撬开连接缝，当需要将两者合上时，只需要用力压合上述的上部和下部即可。

在所述背面板上固定有支撑座9，所述支撑座包括弧形过渡面91，水平支撑面92和弧形支撑面93，所述水平支撑面贴靠在所述背面板上，所述弧形过渡面一侧连接在所述水平支撑面的下侧，另一侧连接在所述背面板上，所述弧形支撑面一侧连接在所述水平支撑面的上侧，另一侧连接在所述背面板上。

以上所述使本实用新型的优选实施方式，对于本领域的普通技术人员来说不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干变型和改进，这些也应视为本实用新型的保护范围。