导电片和导电图案的制作方法

本发明涉及导电片和导电图案，更具体地涉及能够改善导电性的导电片和导电图案。

背景技术：

最近，触摸面板已经应用于各种电子产品，通过所述触摸面板，用手指或如触笔的输入装置触摸显示装置上显示的图像来输入用户输入内容。

这样的触摸面板主要可以分为电阻膜式触摸面板和电容式触摸面板。由于输入装置施加的压力使玻璃和电极短路，检测到电阻膜式触摸面板上的触摸位置。通过感测触摸板被手指触摸时引起的电极之间的电容的变化，检测到电容式触摸面板上的触摸位置。

随着电阻膜式触摸面板被重复使用，触摸面板的性能可能降低，并且触摸面板可能被划伤。因此，具有高耐用性和长寿命的电容式触摸面板受到了大量关注。

电容式触摸面板被定义为具有可以输入触摸命令的有效区和该有效区之外的无效区。在有效区中，电极图案由透明导电材料形成以透过来自显示装置的光。

以往，电极图案由氧化铟锡(ito)形成。ito在薄层电阻高、制造成本高和原料市场中铟的供求不平衡方面受到限制。此外，ito不能用于近期趋势中的柔性显示装置。

最近，已经对透明电极材料(如可以替代ito的银纳米线)进行了研究。

图1是表示由以往的银纳米线形成的透明电极的图。

参见图1，以往的银纳米线200的纵横比由于材料和制造工艺的限制而受到限制，为了实现高透射率，银纳米线200被制造为各自具有约100nm的小直径。因此，将具有5μm至10μm的较短长度的银纳米线200施加到透明电极上。

为了施加到透明电极上，要求银纳米线200具有高导电性。然而，由于银纳米线200之间有许多断线处，所以银纳米线200的长度短，并且因此具有低导电性。

此外，如图2所示，有机膜210存在于每个银纳米线200的表面，因此银纳米线200之间的接触区的电阻增加。此外，应该进行另外的过程来将银纳米线210电连接，由此增加制造成本。

技术实现要素：

技术问题

本发明涉及能够保持透光性恒定并提高导电性的导电片和导电图案。

本发明还涉及能够减少制造成本的导电片和导电图案。

本发明的方面不限于此，对于本领域普通技术人员来说，由以下描述和附图，另外的方面将是显而易见的。

技术方案

本发明的一个方面提供了包括相互交叉配置的第一纳米结构体和第二纳米结构体的导电片。第一纳米结构体和第二纳米结构体的交叉区的厚度为第一纳米结构体和第二纳米结构体的非交叉区的厚度之和的0.6至0.9倍。

本发明的另一方面提供了导电图案，其包括形成触摸像素的至少一个单位导电图案。导电图案包括在至少一个单位导电图案中相互交叉配置的第一纳米结构体和第二纳米结构体。第一纳米结构体和第二纳米结构体的交叉区的厚度为第一纳米结构体和第二纳米结构体的非交叉区的厚度之和的0.6至0.9倍。

然而，本发明的方面不限于此，对于本领域普通技术人员来说，由以下描述和附图，另外的方面将是显而易见的。

有益效果

根据本发明，通过电纺丝形成较长的导电片和导电图案的纳米结构体，因此可以增加纳米结构体之间的交叉区以改善导电性。

此外，根据本发明，导电片和导电图案的纳米结构体之间的交叉区在去除聚合物期间形成。因此，可以跳过另外的过程，因此可以降低制造成本。

然而，本发明的效果不限于此，对于本领域普通技术人员来说，由以下描述和附图，另外的效果将是显而易见的。

附图说明

图1是表示由以往的银纳米线形成的透明电极的图。

图2是以往银纳米线的交叉区的放大图。

图3是根据一个实施方式的导电片的顶视图。

图4是图3的区域a的放大图。

图5是表示根据一个实施方式的场发射装置的图。

图6是表示根据实施方式的电极图案的一部分的实例的图。

图7是根据一个实施方式的触摸面板的分解透视图。

图8是根据一个实施方式的触摸面板的顶视图。

图9是应用了根据一个实施方式的触摸面板的显示装置的立体图。

具体实施方式

为了清晰地向本发明所属的技术领域的普通技术人员清楚地解释本发明的主旨，提供了本文陈述的实施方式。因此，本发明不受这些实施方式的限制。本发明的范围应当理解为包括落入本发明主旨内的变更的实例或修改的实例。

在本公开内容中，如果可能的话，考虑到本发明的功能，选择当前已经广泛使用的一般术语，但根据本领域普通技术人员的意图、先例或新技术等，可以选择非一般术语。此外，本申请人可以任意选择一些术语。在这种情况下，会在本公开内容的相应部分中详细解释这些术语的含义。因此，本文使用的术语不应基于其名称而应基于其含义和本发明的整个上下文来定义。

提供附图以容易地解释本发明，其中为了清楚起见，每个元件的形状可能被夸大。因此，本发明不应当解释为受其限制。

在以下描述中，如果确定由于不必要的细节会使本发明变得难以理解，则对于熟知的功能或结构不作详细描述。

根据本发明的一个实施方式的导电片包括相互交叉配置的第一纳米结构体和第二纳米结构体。第一纳米结构体和第二纳米结构体的交叉区的厚度为第一纳米结构体和第二纳米结构体的非交叉区的厚度之和的0.6至0.9倍。

导电片可以包括基底，所述基底容纳第一纳米结构体和第二纳米结构体。基底可以与第一纳米结构体和第二纳米结构体直接接触。

第一纳米结构体和第二纳米结构体可以通过交叉区彼此电连接。

第一纳米结构体和第二纳米结构体可以通过将金属材料和聚合物的混合溶液纺丝来各自形成。可以在混合溶液的纺丝后，通过去除聚合物来形成交叉区。

交叉区的宽度可以比非交叉区的宽度大1.2至1.8倍。

第一纳米结构体和第二纳米结构体可以各自具有100,000或更大的纵横比。

第一纳米结构体和第二纳米结构体可以通过电纺丝形成。

第一纳米结构体可以在交叉区和非交叉区中具有相同的横截面积。

根据本发明的另一方面的导电图案包括形成触摸像素的至少一个单元导电图案。导电图案包括在至少一个单元导电图案中相互交叉配置的第一纳米结构体和第二纳米结构体。第一纳米结构体和第二纳米结构体的交叉区的厚度为第一纳米结构体和第二纳米结构体的非交叉区的厚度之和的0.6至0.9倍。

第一纳米结构体可以包括第一末端和第二末端。第一末端可以在第一点与导电图案的第一侧表面接触。第二末端可以在第二点与导电图案的第二侧表面接触。第一点和第二点之间的距离可以比第一纳米结构体的长度短。

第一侧表面和第二侧表面可以彼此相邻。

第一侧表面和第二侧表面可以彼此相对。

导电图案可以包括基底，所述基底容纳第一纳米结构体和第二纳米结构体。基底可以与第一纳米结构体和第二纳米结构体直接接触。

第一纳米结构体和第二纳米结构体可以在交叉区彼此电连接。

第一纳米结构体和第二纳米结构体可以通过将金属材料和聚合物的混合溶液纺丝来形成。可以在混合溶液的纺丝后，通过去除聚合物来形成交叉区。

交叉区的宽度可以比非交叉区的宽度大1.2至1.8倍。

第一纳米结构体和第二纳米结构体可以通过电纺丝形成。

第一纳米结构体可以在交叉区和非交叉区中具有相同的横截面积。

第一纳米结构体可以在至少一个点与连接第一点和第二点的直线接触。

以下将描述根据本发明的实施方式的导电片。

图3是根据一个实施方式的导电片的顶视图。

参见图3，根据一个实施方式的导电片1包括多个纳米结构体10和基底20。

纳米结构体10可以是具有100,000或更大的纵横比的纳米纤维。纳米结构体10可以具有1μm或更小的宽度。

纳米结构体10可以包含金属材料。金属材料的实例可以包括银、金、铜、镍、镀金的银、铂和钯。当纳米结构体10包含银时，纳米结构体10可以定义为银纳米结构体。供选择地，纳米结构体10可以仅由金属材料形成。

纳米结构体10形成为具有小的宽度，因此其无法用肉眼观察。包括纳米结构体10的导电片1保证具有高透光率。

基底20被认为是形成导电片1的主体的固体材料，纳米结构体10分散在或被包含在基底20中。

基底20可以从外部保护纳米结构体10。基底20可以防止纳米结构体10被氧化。当导电片1附接于如基板那样的构件上时，基底20可以提供粘接强度。

纳米结构体10可以与基底20直接接触。也就是说，纳米结构体10的外表面可以与基底20直接接触。

基底20可以包含导电聚合物。当基底20包含导电聚合物时，基底20可以提供电荷移动路径。当基底20提供电荷移动路径并且因此将导电片1用作电极时，基底20可以被用作辅助电极。

导电聚合物可以包括但不限于聚乙炔、聚噻吩、聚吡咯、聚对苯撑、聚对苯撑乙烯撑、pedot:pss或碳纳米管等。

纳米结构体10形成为具有100,000或更大纵横比的长结构体。因此，纳米结构体10中的每个可以具有与其他纳米结构体10的多个交点(如区域a)。

图4是图3的区域a的放大图。图4a是图3的区域a的顶视图。图4b是沿图4a的线x-x`的横截面图。

参见图4，根据一个实施方式的多个纳米结构体10可以包括第一纳米结构体11和第二纳米结构体13。纳米结构体10可以形成为圆柱形。

第一纳米结构体11可以与第二纳米结构体13交叉。可以将第一纳米结构体11和第二纳米结构体13相互交叉的区域一起定义为交叉区15。

第一纳米结构体11可以包括第一非交叉区11a和第一交叉区11b。第二纳米结构体13可以包括第二非交叉区13a和第二交叉区13b。

第一交叉区11b和第二交叉区13b是第一纳米结构体11和第二纳米结构体13的相互交叉的区域，并且一起形成交叉区15。第一纳米结构体11和第二纳米结构体13在交叉区15处彼此电连接。也就是说，第一交叉区11b和第二交叉区13b彼此电连接。

第一非交叉区11a和第二非交叉区13a可以具有相同的宽度。第一非交叉区11a和第二非交叉区13a可以具有相同的厚度。第一非交叉区11a和第二非交叉区13a可以具有相同的宽度和厚度可以理解为不仅包括其宽度和厚度相同的情况，而且包括虽然第一非交叉区11a和第二非交叉区13a的宽度和厚度被设计为相同，但是在过程期间其宽度或厚度在误差范围内变得彼此不同的情况。

第一非交叉区11a和第二非交叉区13a可以以第一宽度w1形成。第一非交叉区11a和第二非交叉区13a可以以第一厚度h1形成。

交叉区15可以以小于第一非交叉区11a和第二非交叉区13a的厚度之和的厚度形成。也就是说，交叉区15可以以小于第一厚度h1两倍的第二厚度h2形成。

交叉区15可以以大于第一非交叉区11a的宽度和第二非交叉区13a的宽度的宽度形成。也就是说，第一交叉区11b和第二交叉区13b可以以大于第一宽度w1的第二宽度w2形成。

当第一交叉区11b和第二交叉区13b相互接触时，交叉区15的厚度减少，并且交叉区15的宽度随其厚度的减少而增加。

第一交叉区11b可以具有比第一非交叉区11a更小的厚度和更大的宽度，但是可以具有与第一非交叉区11a相同的横截面积。也就是说，在第一交叉区11b上某个点沿第一厚度h1方向截断而得到的第一交叉区11b横截面的面积可以与在第一非交叉区11a上某个点沿第二厚度h2方向截断而得到的第一非交叉区11a横截面的面积相同。

总之，包括第一交叉区11b和第一非交叉区11a的第一纳米结构体11的所有区域可以具有相同的横截面积。第一纳米结构体11的所有区域可以具有相同的横截面积可以理解为不仅包括第一交叉区11b的横截面积和第一非交叉区11a的横截面积具有相同数值的情况，而且包括虽然第一交叉区11b的横截面积和第一非交叉区11a的横截面积被设计为具有相同值，但是在过程期间其横截面积在误差范围内变得彼此不同的情况。当线x-x'所示的方向是第一纳米结构体11的长度方向并且第一纳米结构体11以相等长度被分割时，从第一纳米结构体11分割的区域具有相同的体积。也就是说，当第一交叉区11b以某种长度被分割并且第一非交叉区11a以某种长度被分割时，从第一交叉区11b被分割的部分和从第一非交叉区11a被分割的部分可以具有相同的体积。

第二交叉区13b可以具有比第二非交叉区13a更小的厚度和大的宽度，但是可以具有与第二非交叉区13a相同的横截面积。也就是说，在第二交叉区13b上某个点沿第二厚度h2方向截断的第二交叉区13b横截面的面积可以与在第二非交叉区13a上某个点沿第二厚度h2方向截断的第二非交叉区13a横截面的面积相同。

总之，包括第二交叉区13b和第二非交叉区13a的第二纳米结构体13的所有区域可以具有相同的横截面积。第二纳米结构体13的所有区域可以具有相同的横截面积可以理解为不仅包括第二交叉区13b的横截面积和第二非交叉区13a的横截面积具有相同数值的情况，而且包括虽然第二交叉区13b的横截面积和第二非交叉区13a的横截面积被设计为具有相同值，但是在过程期间其横截面积在误差范围内变得彼此不同的情况。

当第二纳米结构体13延伸的方向是其长度方向并且第二纳米结构体13以相等长度被分割时，从第二纳米结构体13分割的区域具有相同的体积。也就是说，当第二交叉区13b以某种长度被分割并且第二非交叉区13a以某种长度被分割时，从第二交叉区13b被分割的部分和从第二非交叉区13a被分割的部分可以具有相同的体积。

图5是表示根据一个实施方式的场发射装置的图。

参见图5，根据一个实施方式的场发射装置30包括喷嘴31、注射器32、注射器泵33、供电单元34和收集器35。

喷嘴31可以连接于注射器32。注射器32可以连接于注射器泵33。将纺丝溶液注射进注射器32。注射器泵33向注射器32施加压力。由于注射器泵33施加的压力，注射进注射器32的纺丝溶液可以转移至喷嘴31。

纺丝溶液可以包含金属材料和聚合物。纺丝溶液可以是金属材料和聚合物的混合溶液。

注射器泵33可以调节施加于注射器32的压力从而通过喷嘴31喷射恒定量的纺丝溶液。

供电单元34可以电连接于喷嘴31和收集器35，并且对喷嘴31和收集器35施加电压。

当供电单元34对喷嘴31和收集器35施加电压时，喷嘴31和收集器35之间形成电场。当电场的强度与纺丝溶液的表面张力相同时，喷嘴31的端部被具有电荷的纺丝溶液覆盖。

在这种情况下，当施加大于或等于纺丝溶液的表面张力的电压时，沿作为地电压方向的收集器35的方向喷射纳米纤维40。上述形成纳米纤维40的方法称为电纺丝。

虽然上文中描述了电纺丝作为一个实施方式中形成纳米纤维40的方法的实例，但是本发明不限于此。

可以通过控制由供电单元34施加的电压和由注射器泵33施加的压力，通过电纺丝来形成具有小宽度和高纵横比的纳米纤维40。

通过电纺丝形成的纳米纤维40可以包含金属材料和聚合物。

此后，可以通过从纳米纤维40去除聚合物来形成图3和图4的仅包含金属材料的纳米结构体10。

可以通过上述方法形成具有小宽度的纳米结构体10来改善导电片1的透光率。

此外，因为可以形成具有高纵横比的纳米结构体10(即长的纳米结构体10)，每单位数量的纳米结构体10中交叉的纳米结构体10的数量增加。随着每单位数量的纳米结构体10中交叉的纳米结构体10的数量增加，纳米结构体10之间的电荷移动路径的数量增加。因此，改善了整个导电片1的导电性。也就是说，因为不同的纳米结构体10彼此电连接的交叉点的数量增加，所以可以改善整个导电片1的导电性。

可以通过热处理从纳米纤维40中去除聚合物。

在从纳米纤维40去除聚合物期间，第一纳米结构体11和第二纳米结构体13可以在交叉区15彼此电连接。也就是说，通过去除聚合物期间施加的热，可以使第一交叉区11b和第二交叉区13b的部分熔化，因此第一交叉区11b和第二交叉区13b的宽度可以大于第一非交叉区11a和第二非交叉区13a的宽度。在第一交叉区11b和第二交叉区13b的部分被去除聚合物期间施加的热熔化然后硬化的同时，第一交叉区11b和第二交叉区13b可以整体硬化。随着第一交叉区11b和第二交叉区13b整体硬化，交叉区15可以具有与非交叉区11a和13a基本相同的导电性。

第一交叉区11b和第二交叉区13b的宽度可以比第一非交叉区11a和第二非交叉区13a的宽度大1.2至1.8倍。

此外，由于在去除聚合物期间施加的热，交叉区15可以以小于第一非交叉区11a和第二非交叉区13a的厚度之和的厚度形成。

交叉区15的厚度可以是第一非交叉区11a和第二非交叉区13a的厚度之和的0.6至0.9倍。

当交叉区15的宽度比非交叉区11a和13a的宽度大1.2至1.8倍，并且厚度是非交叉区11a和13a的厚度之和的0.6至0.9倍时，交叉的纳米结构体10之间的接触面积增加。因此，交叉的纳米结构体10之间的电荷的迁移率可以是平稳的，因此接触电阻降低。随着交叉的纳米结构体10之间的接触电阻降低，整个导电片1的导电性可以被改善。此外，纳米结构体10之间的接触面积增加，从而改善了导电片1的稳定性。

也就是说，在交叉的纳米结构体10的部分熔化和硬化的同时，第一交叉区11b和第二交叉区13b之间的结合力增加，并且可以防止纳米结构体10中的一些由于外部冲击而分离。

当交叉区15以比非交叉区域11a和13a的厚度之和大0.9倍的厚度形成时，降低接触电阻的效果低，因此改善导电性的效果低。

在一个实施方式中，由于可以通过去除聚合物来实现提高导电片1的导电性的效果，可以比处理银纳米线的交叉区的过程更容易地改善导电性，所述银纳米线在其表面上具有有机膜。因此，减少了制造成本。此外，可以通过一个过程同时进行聚合物的去除和交叉区的处理，从而提高制造成品率。

在去除聚合物之后，应该进行处理交叉区的另外的过程，使得交叉区15以非交叉区11a和13a的厚度之和的0.6倍的厚度形成。在这种情况下，添加另外的过程，因此制造成本增加并且制造成品率降低。

因此，为了改善导电性、降低制造成本和增加制造成品率，交叉区15可以以非交叉区11a和13a的厚度之和的0.6至0.9倍的厚度形成。

图6是表示根据实施方式的电极图案的部分的实例的图。

虽然图6中仅表示了在电极图案的部分中形成的一个纳米结构体而没有表示其余的纳米结构体，但是电极图案的部分中实际上形成了多个纳米结构体。

参见图6，电极图案51可以通过使导电片1图案化来形成。电极图案51可以通过经过光刻工艺使导电片1图案化来形成。因为通过使导电片1图案化来形成电极图案51，所以电极图案51可以包括纳米结构体10和基底20。

电极图案51可以为四边形。电极图案51可以具有第一侧表面51a、第二侧表面51b、第三侧表面51c和第四侧表面51d。第一侧表面51a被定义为朝向第三侧表面51c的表面。第二侧表面51b被定义为朝向第四侧表面51d的表面。第二侧表面51b是与第一侧表面51a和第三侧表面51c相邻的表面。第四侧表面51d是与第一侧表面51a和第三侧表面51c相邻的表面。虽然图中电极图案51表示为四边形，但是电极图案51可以为四边形以外的各种形状，因此不限于四边形。

由于基底20形成导电片1的主体，第一侧表面51a至第四侧表面51d可以是通过光刻工艺图案化的横截面。

相似地，纳米结构体10可以是通过光刻工艺图案化的横截面。也就是说，穿过通过光刻工艺图案化的表面的纳米结构体10也可以被图案化，并且因此具有横截面。

纳米结构体10的相对末端在纳米结构体10中被图案化，该纳米结构体10可以包括与电极图案51的侧表面接触的第一末端10a和第二末端10b。第一末端10a和第二末端10b分别在第一点p和第二点q处与电极图案51的侧表面接触。

例如，在图6a中，第一点p可以位于第一侧表面51a上，而第二点q可以位于第二侧表面51b上。也就是说，纳米结构体10的第一末端10a会在第一点p处与第一侧表面51a相交接触，纳米结构体10的第二末端10b会在第二点q处与第二侧表面51b相交接触。换言之，纳米结构体10的第一末端10a和第二末端10b可以分别与电极图案51的相邻的第一侧表面51a和第二侧表面51b相交接触。

第一点p和第二点q之间的距离比具有第一末端10a和第二末端10b的纳米结构体10的长度短。由于纳米结构体10不大可能具有直线形状，所以第一点p和第二点q之间的距离比具有第一末端10a和第二末端10b的纳米结构体10的长度短。作为另一实例，在图6b中，第一点p可以位于第一侧表面51a上，而第二点q可以位于第三侧表面51c上。也就是说，纳米结构体10的第一末端10a会在第一点p处与第一侧表面51a接触，纳米结构体10的第二末端10b会在第二点q处与第三侧表面51c接触。换言之，纳米结构体10的第一末端10a和第二末端10b可以分别与电极图案51的彼此相对的第一侧表面51a和第三侧表面51c接触。

第一点p和第二点q之间的距离比具有第一末端10a和第二末端10b的纳米结构体10的长度短。由于纳米结构体10不大可能具有直线形状，所以第一点p和第二点q之间的距离比具有第一末端10a和第二末端10b的纳米结构体10的长度短。

由于纳米结构体10具有高纵横比并且因此是长的，所以纳米结构体10可以具有与电极图案51的不同侧表面接触的第一末端10a和第二末端10b。

虽然未示出，连接第一点p和第二点q的直线可以穿过纳米结构体10。也就是说，当绘制连接第一点p和第二点q的直线时，直线和纳米结构体10可以在至少一点彼此交叉。所述至少一点可以包括除了第一点p和第二点q以外的点。

由于纳米结构体10可以具有任意的弯曲形状，所以纳米结构体10可以具有位于第一末端10a和第二末端10b之间并且与第一点p和第二点q之间的直线交叉的区域。所述第一点p和第二点q之间的直线可以是虚拟线。

每单位数量的纳米结构体10中交叉的纳米结构体10的数量可以通过形成较长的纳米结构体10来增加。随着每单位数量的纳米结构体10中交叉的纳米结构体10的数量增加，纳米结构体10之间的电荷移动路径的数量增加，因此电极图案51的导电性可以被改善。

图7是根据一个实施方式的触摸面板的分解透视图。图8是根据一个实施方式的触摸面板的顶视图。

参见图7和图8，根据一个实施方式的触摸面板可以包括第一基板50、第二基板60、盖基板70和印刷电路板80。

第二基板60位于盖基板70下方。第一基板50位于第二基板60下方。

盖基板70可以附接于第二基板60。可以使用如光学透明粘接剂(oca)的粘接物质将盖基板70和第二基板60彼此粘接。

第一基板50可以附接到第二基板60。可以使用如oca的粘接物质将第一基板50和第二基板60彼此粘接。

第一基板50和第二基板60可以包括塑料，例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)的塑料。

电极图案和线图案可以在第一基板50和第二基板60上形成。

第一电极图案51和第一线图案53可以在第一基板50上形成。第二电极图案61和第二线图案63可以在第二基板60上形成。

第一电极图案51可以以第一方向形成。第一电极图案51可以与第一线图案53电连接。

第二电极图案61可以以第二方向形成。第二方向可以与第一方向相交。第二电极图案61可以以与第一电极图案51相交的方向形成。第二电极图案61可以与第二线图案63电连接。

触摸面板可以包括有效区aa和无效区ua。

有效区aa可以理解为用户可以输入触摸命令的区域。无效区ua可以被理解为位于有效区aa之外的区域，并且由于该区域即使被用户触摸也不被激活，因此该区域不被输入触摸命令。

当触摸面板在被附接于显示面板的同时被使用，触摸面板的有效区aa和无效区ua可以分别对应于显示装置的显示区和非显示区。在显示区中显示图像。在非显示区中不显示图像。因此，触摸面板的有效区aa可以包括透光的区域。触摸面板的无效区ua可以包括不透光的区域。

多个电极图案可以在有效区aa中形成。多个第一电极图案51可以在第一基板50的有效区aa中形成。多个第二电极图案61可以在第二基板60的有效区aa中形成。

多个线图案可以在无效区ua中形成。多个第一线图案53可以在第一基板50的无效区ua中形成。多个第二线图案63可以在第二基板60的无效区ua中形成。

第一电极图案51可以电连接于第一线图案53。第一电极图案51可以与第一线图案53一体形成。供选择地，第一电极图案51可以与第一线图案53分开地形成。

第二电极图案61可以电连接于第二线图案63。第二电极图案61可以与第二线图案63一体形成。供选择地，第二电极图案61可以与第二线图案63分开地形成。

第一电极图案51和第二电极图案61可以与图6所示的电极图案基本上相同。第一电极图案51和第二电极图案61可以是图6所示的单元电极图案的集合。也就是说，第一电极图案51和第二电极图案61可以具有多个单元电极图案彼此连接的结构。第一电极图案51和第二电极图案61可以形成一个触摸像素，所述一个触摸像素包括多个单元导电图案中的至少一个。

尽管已经参考图6作为例子描述了第一电极图案51，第二电极图案61可以具有与第一电极图案51相同的形状。也就是说，第一电极图案51和第二电极图案61可以包括纳米结构体和基底。如上文所述，由于纳米结构体具有高纵横比并且因此是长的，因此可以提供具有高导电性的电极图案。当第一电极图案51和第二电极图案61具有高导电性时，电阻-电容(rc)延迟可能降低，因此可以防止使用第一电极51和第二电极图案61传输的信号失真。因此，可以改善由触摸面板感测到的触摸的灵敏度和可靠性。

虽然在图中这些电极图案被表示为以菱形连接，但是实施方式不限于此，电极图案可以以各种形状形成，例如条形。

盖基板70可以包括玻璃或塑料。盖基板70可以包括钢化玻璃、半钢化玻璃、碱石灰玻璃、增强塑料或软塑料。

印刷电路板80可以附接于第一基板50和第二基板60。印刷电路板80可以附接于第一基板50和第二基板60中每一个的一侧。印刷电路板80可以附接于第一基板50和第二基板60中每一个的一侧，以电连接于第一线图案53和第二线图案63。各向异性导电膜(acf)可以施加在附接于印刷电路板80的第一基板50和第二基板60中每一个的一侧上。印刷电路板80可以通过acf向第一线图案53和第二线图案63施加电压。

印刷电路板80可以是柔性印刷电路板(fpcb)。印刷电路板80可以包括控制器，其通过第一线图案53和第二线图案63从第一电极图案51和第二电极图案61接收感测信号并控制该感测信号。

控制器可以接收未失真的感测信号，并对感测信号执行操作以检测触摸。因此，可以跳过补偿失真信号的处理，并且可以通过更快地执行操作来检测触摸。

图9是应用了根据一个实施方式的触摸面板的显示装置的立体图。

参见图9，显示装置100可以包括从外部对输入按钮110输入命令的输入按钮110，被配置为捕获静止图像和活动图像的照相机120以及输出声音的扬声器130。

显示装置100可以包括如上所述的触摸面板、以及显示面板(未图示)。触摸面板可以在显示面板的前表面上形成，因此盖玻璃70可以暴露于显示装置100的顶表面上。供选择地，显示面板可以附接于触摸面板。

显示面板可以显示图像。显示面板可以是液晶显示面板或有机发光显示面板，并且可以应用于如移动电话、电视(tv)和导航装置的各种产品。

尽管上文已经描述了显示装置来作为可应用根据本发明的实施方式的触摸面板的装置的实例，但是该装置不限于显示装置，该装置可以用于如键盘、便携式电脑的触摸板和车辆的触摸输入设备的各种产品。

尽管上文已经关于本发明的实施方式描述了本发明的结构和特征，对于本领域普通技术人员显而易见的是，本发明不限于此，在不背离本发明的主旨和范围的情况下可以进行各种变更或修改。因此，应当理解，这样的变更或修改落在如所附权利要求所限定的本发明的范围内。