具有尺寸可扩展性的jfet仿真方法

文档序号:8430931阅读:815来源:国知局
具有尺寸可扩展性的jfet仿真方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及集成电路设计仿真领域,特别是指一种具有尺寸可扩展性的JFET仿真方法。
【背景技术】
[0002]JFET (结型场效应管)是场效应器件中一种常见的器件类型,图1为一个常规的纵向N型JFET剖面图,其中的N型阱两端由N+作为JFET的源漏,P型阱作为JFET的栅极,P型阱也可由P+代替,P型阱沿源漏电流流通方向的尺寸定义为JFET沟道长度L,垂直于电流流通方向的P型阱尺寸定义为JFET沟道宽度W。其中最常见的是通过工艺注入得到PN扩散结,通过外加电压使PN结耗尽形成电流夹断,由于这类器件具有独特的开关特性,它经常被应用于模拟电路的开关电路、电源电路中。目前各仿真软件提供业界标准的JFET器件模型用于电路设计仿真,但是该模型不具有尺寸扩展性,一个模型只能描述单一一种尺寸的JFET器件特性,不同尺寸的JFET器件需要有不同的SPICE模型进行描述。

【发明内容】

[0003]本发明所要解决的技术问题是提供一种具有尺寸可扩展性的JFET仿真方法。
[0004]为解决上述问题,本发明所述的一种具有尺寸可扩展性的JFET仿真方法,是在标准SPICE JFET仿真模型基础上,将与器件尺寸相关的参数进行修正,使其能准确描述不同尺寸的JFET器件的特性。
[0005]进一步地,在标准JFET仿真基础上,修正器件尺寸相关的源、漏、栅串联电阻的参数:
[0006]AREAeff=(ff-DW)* (L-DL)*PF
[0007]RSeff=RS/AREAeff
[0008]RDeff=RD/AREAeff
[0009]RGeff=RG*AREAeff
[0010]其中,W、L为掩模版上的设计尺寸,DL代表由于工艺变化对JFET沟道长度的影响,Dff代表由于工艺变化对JFET沟道宽度的影响,RS、RD、RG分别是源、漏、栅串联电阻,PF代表相同JFET并联的个数,AREAeff代表JFET有效面积。
[0011]进一步地,在标准JFET仿真基础上,修正器件尺寸相关的栅源、栅漏二极管对应反向饱和电流和反向扩散电容模型参数:
[0012]ISeff=IS^AREAeff
[0013]CGSeff=CGS^AREAeff
[0014]CGDeff=CGD^AREAeff
[0015]其中,IS, CGS, CGD为JFET标准模型参数,IS代表JFET栅源/栅漏二极管反向饱和电流,CGS代表栅源二极管方向扩散电容,CGD代表栅漏二极管方向扩散电容。
[0016]进一步地,在标准JFET仿真基础上,修正器件尺寸相关的跨导模型参数、沟道长度调制系数和阈值电压模型参数:
[0017]BETAeff=BETA* (I+BETAff*ffeff)betawn*PF/ (l+BETAL*Leff)BETALN ;
[0018]LAMBDAeff=LAMBDA/ (l+LANBDAL*Leff)LAMBDALN ;
[0019]VTOeff=VTO* (l+VT0L*Leff)VT0LN* (l+VT0ff*ffeff)?丽;
[0020]Leff= (L-DL);
[0021]Weff= (W-Dff);
[0022]其中,BETA为跨导标准模型参数,BETAL, BETALN分别代表跨导对应沟道长度系数和对应指数系数;BETAW、BETAWN分别代表跨导对应沟道宽度系数和对应指数系数;LAMBDAeff代表与JFET尺寸相关的沟道长度调制参数;LAMBDA代表标准JFET模型中沟道长度调制参数;LefT代表JFET有效沟道长度;WefT代表有效沟道宽度;LAMBDAL、LAMBDALN分别代表沟道长度调制系数和对应指数系数;VT0eff代表与JFET尺寸相关的阈值电压模型参数;VT0代表JFET阈值电压标准模型参数;VT0L、VTOLN分别代表阈值电压对应沟道长度系数和指数系数;VT0W、VTOWN分别代表阈值电压对应沟道宽度系数和指数系数。
[0023]本发明所述的具有尺寸可扩展性的JFET仿真方法,在业界标准的SPICE仿真基础上,通过改写部分仿真参数,使其能具备与尺寸的变化相关联的参数,实现尺寸变化的JFET的仿真的可扩展性。
【附图说明】
[0024]图1是JFET结构示意图;
[0025]图2是SPICE中JFET的仿真等效电路图。
[0026]附图标记说明
[0027]RS、RD、RG分别是源、漏、栅串联电阻,CGS是栅源二极管方向扩散电容,CGD是栅漏二极管方向扩散电容,W、L为掩模版上的设计尺寸。
【具体实施方式】
[0028]本发明所述的一种具有尺寸可扩展性的JFET仿真方法,能随着JFET尺寸上W、L的变化,精确地模拟JFET的器件特性。
[0029]上述定义的JFET器件尺寸W、L为掩模版上的设计尺寸,由于工艺变化,实际在硅片上形成的JFET尺寸与设计值是有差异的,因此JFET有效沟道长度LefT和有效沟道宽度Weff由下列公式(I)、(2)表示:
[0030]Leff=L-DL(I)
[0031]Weff=W-Dff(2)
[0032]其中,DL代表由于工艺变化对JFET沟道长度的影响;DW代表由于工艺变化对JFET沟道宽度的影响。
[0033]由公式(I)、(2)计算可得JFET有效面积为:
[0034]AREAeff= (W-DW) * (L-DL) *PF(3)
[0035]其中,AREAeff代表JFET有效面积;PF代表相同JFET并联的个数。
[0036]图2所示为目前业内标准电路设计仿真器中JFET模型对应的等效电路图,如该图所示,JFET器件特性分别由源、栅、漏三个串联电阻;栅源和栅漏两个二极管和源漏沟道电流Ids特性所描述。按照电阻及二极管对应物理特性与尺寸的关系改写标准JFET模型中下述对应模型参数。
[0037]源、漏串联电阻与JFET器件尺寸(面积)成反比,栅极串联电阻与JFET面积成正t匕,对应公式如下公式(4)?(6):
[0038]RSeff=RS/AREAeff(4)
[0039]RDeff=RD/AREAeff(5)
[0040]RGeff=RG*AREAeff(6)
[0041 ] 其中,RS、RD、RG为JFET标准模型参数,分别代表JFET源、漏、栅串联电阻;RSeff、RDeff、RGeff代表与JFET尺寸相关的源、漏、栅串联电阻。
[0042]由标准二极管特性可知,二极管反向饱和电流与二极管尺寸(面积)成正比;二极管反向扩散电容与二极管尺寸(面积)成正比。因此在JFET标准模型中修正JFET栅源、栅漏二极管对应参数如下公式(7)?(9)所示:
[0043]ISeff=IS^AREAeff(7)
[0044]CGSeff=CGS^AREAeff(8)
[0045]CGDeff=CGD^AREAeff(9)
[0046]其中,IS, CGS, CGD为JFET标准模型参数,IS代表JFET栅源/栅漏二极管反向饱和电流,CGS代表栅源二极管反向扩散电容、CGD代表栅漏二极管反向扩散电容。
[0047]ISeff、CGSeff、CGDeff代表与JFET尺寸相关的栅源/栅漏二极管反向饱和电流,CGSeff, CGDeff代表与JFE
当前第1页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1