导电图案和单层电容式触摸屏的电极图案的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及主要用于触摸屏的导电材料的导电图案和单层电容式触摸屏的电极图案。
【背景技术】
[0002]在个人数字助理(PDA)、笔记本电脑、办公室自动化设备、医疗设备或汽车导航系统等电子设备中，广泛应用触摸屏作为这些显示器的输入手段。
[0003]根据位置检出的方法，触摸屏有光学式、超声波式、表面电容式、投影电容式、电阻膜式等。电阻膜式的触摸屏中，作为成为触摸传感器的光透电极，光透导电材料和具有光透导电层的玻璃隔着间隔物(只'一寸一)相对设置，形成在光透导电材料上电流流过以测定具有光透导电层的玻璃上的电压的构造。另一方面，在电容式的触摸屏中，作为成为触摸传感器的光透电极，其特征为，以在基材上具有光透导电层的光透导电材料作为基本的构成且没有可动部分，所以耐久性强、光透性高，因此适用于各种各样的用途。进一步地，因为投影电容式的触摸屏可以多点同时检出，所以广泛应用于智能手机和平板电脑等。
[0004]—般作为用于触摸屏的光透导电材料，使用在基材上由氧化铟锡(ITO)导电膜组成的形成光透导电层的材料。然而，因为ITO导电膜折射率大、光的表面反射大，所以存在光透导电材料的光透性降低的问题；因为ITO导电膜可挠性低，所以存在光透导电材料弯曲时，在ITO导电膜上产生龟裂，光透导电材料的电阻值升高的问题。
[0005]作为替代具有由ITO导电膜形成的光透导电层的光透导电材料的光透导电材料，已知有:在光透基材上使用例如调整了金属细线的线宽和间距(匕°7千)以及进一步调整图案形状等后形成网状图案的金属细线作为光透导电层的光透导电材料。通过该技术，可以得到维持高的光透性、具有高导电性的光透导电材料(以下，将由该金属细线形成的光透导电层称为“金属网膜”)。关于这种金属网膜的图案的形状，已知可以利用各种形状的重复单元，例如，在专利文献I中公开了等边三角形、等腰三角形、直角三角形等三角形；正方形、长方形、菱形、平行四边形、梯形等四边形；(正)六边形、(正)八边形、(正)十二边形、(正)二十边形等(正)η边形；圆；椭圆；星形等的重复单元；以及它们的两种以上的组合图案。进一步地，例如，如专利文献2所记载的那样，通过使用具有断线部的图形单元构成的图案，可以描绘复杂的电极图案，该图案还具有眼睛不容易看见(可见性低)的优点。
[0006]作为上述金属网膜的制造方法，例如，专利文献3、专利文献4等公开了:在基板上形成薄的催化剂层，在其上形成抗蚀图案后，通过镀敷法在抗蚀剂开口部层压金属层，最后通过除去抗蚀剂层和由抗蚀剂层保护的基底金属，形成金属网膜的半加成法。此外，近年来，已知有使用银盐扩散转印法所使用的银盐照相感光材料的方法。
[0007]例如专利文献5、专利文献6、专利文献7等公开了以下技术，将在基材上至少依次具有物理显影核层和卤化银乳剂层的银盐照相感光材料以所要求的图案曝光后，通过使可溶性银盐形成剂和还原剂在碱溶液中起作用，形成金属网膜。由该方式图案化可以再现均一的线宽。另外，由此方式制作的具有金属网膜的网状图案由实质上不含粘合剂成分的显影银(金属银)构成，因为银在金属中导电性最高，所以与其他方式相比，可以通过较细的线宽得到高导电性。进一步地，由该方法得到的金属网膜与ITO导电膜相比，还具有可挠性高、耐弯曲的优点。然而，在上述专利文献1-7中所记载的金属网膜以两层重叠的情况下，存在各自的网状图案干涉产生云纹(? 7 > )等问题。
[0008]—般在使用投影电容式的触摸屏中，使用具有两层金属网膜的光透电极作为触摸传感器，所述金属网膜具有由多个列电极(金属网状图案形成的列电极)构成的传感器部。然而，如果将两层金属网膜重叠，光透性变低从而成为暗的触摸屏。对于这一问题，例如，如专利文献8等提议那样的单层电容式触摸屏，通过以特殊的图案设置一层光透导电层作为光透电极，使检测触指位置成为可能。该方法中，在使用金属网膜作为光透导电层的情况下，因为没有必要将两层金属网膜重叠，所以具有高光透性、不产生由网状图案相互干涉造成云纹的问题等的优点。
[0009]现有技术文献
[0010]专利文献
[0011]专利文献1:日本特开2002-223095号公报
[0012]专利文献2:日本特开2010-198799号公报
[0013]专利文献3:日本特开2007-287994号公报
[0014]专利文献4:日本特开2007-287953号公报
[0015]专利文献5:日本特开2003-77350号公报
[0016]专利文献6:日本特开2005-250169号公报
[0017]专利文献7:日本特开2007-188655号公报
[0018]专利文献8:日本特开2011-181057号公报
【发明内容】
[0019]发明所要解决的技术问题
[0020]作为单层电容式触摸屏的特征，如在专利文献8中也有记载，在光透区域(例如专利文献8的图3中的301)中，有配置感知电容的感知部(例如专利文献8的图3中的304)以及用于将由感知部所感知的电容变化作为电信号向外部输出的配线部(例如专利文献8的图3中的302)的情况。这些配线部由尽量不占面积这样的细的图案构成，与感知部分开集中配置，而且多由比较长的直线构成。如果使用金属网膜制作单层电容式触摸屏，则由该长的直线形成的配线部可见性变高、容易显眼。为了降低配线部的可见性，希望使用与感知部相同的网状图案制作配线部。但是，如下所述，在以往已知的一般方法中，使用网格图案制作配线部有困难。
[0021]图1是说明位于光透区域的配线部分的导电图案的图。图1中(a-Ι)表示使用例如由ITO导电膜等的、不使用金属网膜的光透导电层构成的实心图案夕/《夕一y )形成的光透导电层制作的配线部分的图，该配线部分由配线部11和非配线部12构成。表示由一般的金属网膜构成(a-Ι)的具体实例的图为(a-2)和(a-3)。一般来说，金属网膜中电流动部分((a-Ι)中的配电部11)由金属细线形成的单元图形(例如，菱形)连接而构成。此处，如果在电不流动的部分((a-Ι)中的非配线部12)中不设置任何配件，则产生配线部显眼的可见性的问题。因此，一般来说，通过在非配线中也设置含断线部的金属细线等方法来解决可见性的问题，同时切断配线部和非配线部之间的导通或者防止配线部之间的短路。图1的(a-2)、(a-3)中，虚线部表示为解决可见性的问题而设置的含断线部的金属细线，实线部表示没有断线部的金属细线。
[0022](a-2)是表示配线部11由金属细线形成的多个菱形13构成、非配线部12由含断线部的金属细线形成的多个菱形14构成的配线部分的图。这个实例中，通过菱形14的存在来解决配线部11可见的问题。另一方面，因为为了确保导电性，配线部11的金属细线的线宽不可以太细，所以单位面积的金属细线所占的面积的比例变大，其结果，产生光透性变低的问题。此处，作为成为单元图形的菱形的大小，例如如果成为2倍的话，配线部分的光透性变高。这就是(a-3)所表示的配线部分的图。(a-3)的金属网膜由没有断线部的金属细线(实线)和含断线部的金属细线(虚线)形成的菱形15组成的单元图形构成配线部11和非配线部12。显然，与(a-2)的配线部分相比，(a-3)的配线部分的光透性变高。但是，因为(a-3)中配线部11只由一根金属细线构成，所以由制造时的问题等导致在配线部11产生断线的情况下，得到良好的触摸传感器的比例(所谓的成品率)显著下降，产生生产可靠性变低的问题。另外，(a-2)的金属网膜中，即使配线部11的金属细线有一点点断线，只要